ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2015-08-11 10:00
SOI基板上への高密度Geナノドットの形成 ~ フォトニック結晶による発光効率改善を目指して ~
森岡 真渡辺航大富田雅隆豊田英之加藤有行・○玉山泰宏上林利生安井寛治長岡技科大CPM2015-41
抄録 (和) フォトニック結晶の共振効果による発光強度の増大を目指して,ガスソースMBE法を用いてSOI基板上にゲルマニウム(Ge)ナノドットの形成を行うと共に,走査型トンネル顕微鏡(STM)により表面形態を観察した.またSiCキャップ層を形成したサンプルの低温フォトルミネッセンス(PL)測定により,Geナノドットからと考えられる発光を確認した.さらに有限差分時間領域(FDTD)シミュレーションによりGeナノドットからの発光を増大させるフォトニック結晶の構造を求めた. 
(英) Aiming at the enhancement of emission intensity from Ge nanodots using photonic crystal, the Ge nanodots were formed on silicon-on-insulator (SOI) substrates by gas source MBE. Surface structure of the substrates after the dot formation was observed using a scanning tunneling microscope (STM). Emission from the nanodots was observed at approximately 0.8 eV by low-temperature photoluminescence (PL) measurement. A structure of the photonic crystal for the enhancement of emission from the Ge nanodots was calculated using finite-difference time-domain (FDTD) simulation.
キーワード (和) Geナノドット / SOI基板 / フォトニック結晶 / STM / PL / / /  
(英) Ge-nonodot / SOI substrate / photonic crystal / STM / PL / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 179, CPM2015-41, pp. 51-55, 2015年8月.
資料番号 CPM2015-41 
発行日 2015-08-03 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2015-41

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2015-08-10 - 2015-08-11 
開催地(和) 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子部品・材料、一般(弘前大学電子情報工学科) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2015-08-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SOI基板上への高密度Geナノドットの形成 
サブタイトル(和) フォトニック結晶による発光効率改善を目指して 
タイトル(英) Formation of high density Ge-nanodots on SOI substrates 
サブタイトル(英) Aiming at enhancement of emission from Ge-nanodots using photonic crystal 
キーワード(1)(和/英) Geナノドット / Ge-nonodot  
キーワード(2)(和/英) SOI基板 / SOI substrate  
キーワード(3)(和/英) フォトニック結晶 / photonic crystal  
キーワード(4)(和/英) STM / STM  
キーワード(5)(和/英) PL / PL  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 森岡 真 / Makoto Morioka / モリオカ マコト
第1著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 航大 / Koudai Watanabe / ワタナベ コウダイ
第2著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 富田 雅隆 / Masataka Tomita / トミタ マサタカ
第3著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 豊田 英之 / Hideyuki Toyota / トヨダ ヒデユキ
第4著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 有行 / Ariyuki Kato /
第5著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 玉山 泰宏 / Yasuhiro Tamayama / タマヤマ ヤスヒロ
第6著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 上林 利生 / Toshio Kanbayashi /
第7著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 安井 寛治 / Kanji Yasui / ヤスイ カンジ
第8著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaona Univ. Technol.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第6著者 
発表日時 2015-08-11 10:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2015-41 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.179 
ページ範囲 pp.51-55 
ページ数
発行日 2015-08-03 (CPM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会