| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2017-10-04 14:40 酸化物単結晶基板上に成膜したCr2O3薄膜の結晶性向上のための成長条件探索 ○榎本 翼・福井慎二郎・平戸剛志・小野寺 巧・永田知子・山本 寛・岩田展幸（日大）  CPM2017-61 |
|
| 抄録 | （和） | r面サファイア及びYAlO3基板上にCr2O3、(Cr0.98Fe0.02)2O3、(Cr0.50Fe0.50)2O3薄膜を作製した。r面サファイア基板上に成膜した(Cr0.98Fe0.02)2O3、(Cr0.50Fe0.50)2O3薄膜は強い一軸異方性を持って成長した。またYAlO3 上に成膜した(Cr0.98Fe0.02)2O3薄膜のグレインはFeドープなしのCr2O3と比べ約4倍大きくなり、溝が50％以下に抑制された。また2θ-θパターンよりYAlO3 上に成膜した(Cr0.98Fe0.02)2O3薄膜では面直格子間隔がほぼCr2O3と変わらなかったが、(Cr0.50Fe0.50)2O3では0.367 nmと1.1％大きくなった。 |
| （英） | We prepared Cr2O3, (Cr0.98Fe0.02)2O3, (Cr0.50Fe0. 50)2O3 thin films on r-plane sapphire and YAlO3 substrates. The (Cr0.98Fe0.02)2O3, (Cr 0 .50Fe0. 50)2O 3 thin films grown on the r-plane sapphire substrate show a strong uniaxial anisotropy. The size of the grains of (Cr0.98Fe0.02)2O3 thin film grown on YAlO3 substrate was about 4 times larger than those of Cr2O3 thin film, and the trenches, which appear between grains boundary, are suppressed by less than 50% as well From the results of 2θ -θ spectra, the calculated lattice constant of out-of-plane of (Cr0.98Fe0.02)2O3 and (Cr0.50Fe0.50)2O3 thin films 0.364 nm, which is same as that of Cr2O3 thin film, and 0.367 nm, which is 1.1% larger than that of at Cr2O3 thin film. | |
| キーワード | （和） | Cr2O3 / 薄膜 / YAlO3 / / / / / |
| （英） | Cr2O3 / films / YAlO3 / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 224, CPM2017-61, pp. 11-14, 2017年10月. | |
| 資料番号 | CPM2017-61 | |
| 発行日 | 2017-09-27 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2017-61 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2017-10-04 - 2017-10-04 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 光記録技術・電子材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2017-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 酸化物単結晶基板上に成膜したCr2O3薄膜の結晶性向上のための成長条件探索 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Investigation for Improvement of Crystalline Quality of Cr2O3 Thin Film Deposited on Oxide Single Crystal Substrates |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Cr2O3 / Cr2O3 |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜 / films |
| キーワード(3)（和/英） | YAlO3 / YAlO3 |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 榎本 翼 / Tsubasa Enomoto / エノモト ツバサ |
| 第1著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 福井 慎二郎 / Sinjirou Hukui / フクイ シンジロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 平戸 剛志 / Tsuyosi Hirato / ヒラト ツヨシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小野寺 巧 / Takumi Onodera / オノデラ タクミ |
| 第4著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山本 寛 / Hirosi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ |
| 第7著者 所属（和/英） | 日本大学 (略称： 日大) Nihon University (略称： Niti Univ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-10-04 14:40:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2017-61 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.224 |
| ページ範囲 | pp.11-14 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2017-09-27 (CPM) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]