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講演抄録/キーワード
講演名 2018-03-02 09:45
シラン化処理を施した基板上に作製した金ナノ粒子配列の単一電子素子への応用
谷貝知起松本和彦森林 誠守屋雅隆島田 宏電通大)・平野愛弓東北大)・廣瀬文彦山形大)・水柿義直電通大CPM2017-128
抄録 (和) 本研究では,シラン化処理を施した基板を金コロイド溶液へ液浸させる手法を用いて,均一に分散された金ナノ粒子配列を形成した.金コロイド溶液中では電気二重層により粒子が分散されており,この手法では粒子が分散を保った状態で基板へ付着した.ナノデバイスへの応用においては粒子間隔の制御が重要であり,本研究では液浸時間による粒子間隔の制御を可能とした.我々はさらにこの手法を用いて,金ナノ粒子を島電極とした単一電子素子作製への応用を目指した.形成したナノ粒子配列にチオール化処理を施し2回目の粒子散布を行うことでランダムなトンネル接合列を作製した.この接合列で得られたクーロンブロッケード特性を解析することで,チオールで接続されたトンネル接合列としての機能を実証できた. 
(英) We report dispersed gold nanoparticles (GNP) 2D arrays fabricated by immersing silane-treated substrates into colloidal gold solution. It is well known inter-particles distance is important for application to nanodevices. In this method, inter-particle distance, which was an important parameter for nano-device applications, was controlled by immersion time and the thickness of electric double layer. We also attempted to fabricate a single-electron device comprising random arrays of GNP. We made second dispersion after treating the substrate surface with dithiol. We demonstrated that GNP arrays worked as thiol-connected tunnel junctions, resulting in observation of the Coulomb blockade phenomenon.
キーワード (和) 金コロイド溶液 / 電気二重層 / チオール / クーロンブロッケード / / / /  
(英) Colloidal gold solution / Electric double layer / Thiol / Coulomb blockade / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 461, CPM2017-128, pp. 49-52, 2018年3月.
資料番号 CPM2017-128 
発行日 2018-02-22 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2017-128

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2018-03-01 - 2018-03-02 
開催地(和) 東京工科大学 
開催地(英) Tokyo Univ. of Technol. 
テーマ(和) 電子部品材料若手ミーティング 
テーマ(英) CPM young researcher's meeting 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2018-03-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) シラン化処理を施した基板上に作製した金ナノ粒子配列の単一電子素子への応用 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Single-Electron Devices Fabricated Using Gold Nanoparticles on Silane-Treated Substrates 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 金コロイド溶液 / Colloidal gold solution  
キーワード(2)(和/英) 電気二重層 / Electric double layer  
キーワード(3)(和/英) チオール / Thiol  
キーワード(4)(和/英) クーロンブロッケード / Coulomb blockade  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 谷貝 知起 / Tomoki Yagai / ヤガイ トモキ
第1著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
The University of Electro-Communications (略称: UEC Tokyo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松本 和彦 / Kazuhiko Matsumoto / マツモト カズヒコ
第2著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
The University of Electro-Communications (略称: UEC Tokyo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 森林 誠 / Makoto Moribayashi / モリバヤシ マコト
第3著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
The University of Electro-Communications (略称: UEC Tokyo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 守屋 雅隆 / Masataka Moriya / モリヤ マサタカ
第4著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
The University of Electro-Communications (略称: UEC Tokyo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 島田 宏 / Hiroshi Shimada / シマダ ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
The University of Electro-Communications (略称: UEC Tokyo)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 平野 愛弓 / Ayumi Hirano-Iwata / ヒラノ アユミ
第6著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ
第7著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 水柿 義直 / Yoshinao Mizugaki / ミズガキ ヨシナオ
第8著者 所属(和/英) 電気通信大学 (略称: 電通大)
The University of Electro-Communications (略称: UEC Tokyo)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-03-02 09:45:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2017-128 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.461 
ページ範囲 pp.49-52 
ページ数
発行日 2018-02-22 (CPM) 


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