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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2018-12-06 17:10 磁気光学デバイス応用に向けたSi基板上Ce:YIGの形成 ○野口道臣・庄司雄哉・水本哲弥（東工大）  OPE2018-123 LQE2018-133 SIPH2018-39 |
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| 抄録 | （和） | セリウム一置換の多結晶セリウム置換型イットリウム鉄ガーネット（CeY2Fe5O12, Ce:YIG）の、シリコン基板上への直接堆積法による製膜について報告する。結晶性の向上を期待して、下地層としてYIG（Y3Fe5O12）を有機金属分解法（Metal Organic Decomposition：MOD法）で形成し、その上にスパッタ法でCe:YIG多結晶を製膜することで、Ce:YIG/YIG/Si構造の形成に成功した。得られた多結晶Ce:YIGのファラデー回転係数は-1400 deg/cmであり、これは単結晶の31%に相当する。また得られた構造の下地層厚さは120 nmであった。 また得られた構造による非相反移送導波路について、下地層厚さの低減が特性改善に有効であることがわかった。下地層厚さの低減のためにMOD法プロセスの改善についても試みたので報告する。 |
| （英） | We report the deposition of a polycrystalline Ce-monosubstituted Yttrium Iron Garnet (CeY2Fe5O12, Ce:YIG) by a direct deposition method on a Silicon substrate. Expecting improvement of crystallinity, YIG (Y3Fe5O12) is formed as an seedlayer by metal organic decomposition method (MOD method), and Ce:YIG polycrystal is formed thereon by sputtering method, succeeded in forming the Ce:YIG/YIG/Si structure. The Faraday rotation coefficient of the obtained polycrystalline Ce:YIG is -1400 deg/cm, which corresponds to 31% of the single crystal. The thickness of the seedlayer of the obtained structure was 120 nm. It was also found that reduction of the thickness of the seedlayer is effective for improving the characteristics of the nonreciprocal waveguide with the obtained structure. In order to reduce the thickness of the seedlayer, we also tried to improve the MOD process and report it. |
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| キーワード | （和） | 光集積回路 / 磁気光学材料 / 磁気光学デバイス / シリコンフォトニクス / Ce:YIG / 有機金属分解法 / / |
| （英） | Optical Integrated Circuit / Magneto-optical Material / Magneto-optical Device / Silicon Photonics / Ce:YIG / Metal Organic Decomposition / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 118, no. 348, OPE2018-123, pp. 131-134, 2018年12月. | |
| 資料番号 | OPE2018-123 | |
| 発行日 | 2018-11-29 (OPE, LQE, SIPH) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OPE2018-123 LQE2018-133 SIPH2018-39 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE OPE SIPH |
| 開催期間 | 2018-12-06 - 2018-12-07 |
| 開催地（和） | 慶應義塾大学 |
| 開催地（英） | Keio University |
| テーマ（和） | Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス) |
| テーマ（英） | Photonic Device Workshop |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OPE |
| 会議コード | 2018-12-LQE-OPE-SIPH |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 磁気光学デバイス応用に向けたSi基板上Ce:YIGの形成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Deposition of Ce:YIG on Si for Magneto-Optical Devices |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光集積回路 / Optical Integrated Circuit |
| キーワード(2)（和/英） | 磁気光学材料 / Magneto-optical Material |
| キーワード(3)（和/英） | 磁気光学デバイス / Magneto-optical Device |
| キーワード(4)（和/英） | シリコンフォトニクス / Silicon Photonics |
| キーワード(5)（和/英） | Ce:YIG / Ce:YIG |
| キーワード(6)（和/英） | 有機金属分解法 / Metal Organic Decomposition |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野口 道臣 / Michiomi Noguchi / ノグチ ミチオミ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 庄司 雄哉 / Yuya Shoji / ショウジ ユウヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 水本 哲弥 / Tetsuya Mizumoto / ミズモト テツヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2018-12-06 17:10:00 |
| 発表時間 | 80分 |
| 申込先研究会 | OPE |
| 資料番号 | OPE2018-123, LQE2018-133, SIPH2018-39 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | no.348(OPE), no.349(LQE) |
| ページ範囲 | pp.131-134 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-11-29 (OPE, LQE, SIPH) |
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