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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2020-10-29 16:40 抵抗変化メモリに適用可能なZrO2膜の低温作製 ○佐藤 勝・川合祐貴・向井高幸・武山真弓（北見工大）  CPM2020-21 |
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| 抄録 | （和） | 抵抗変化メモリに適用可能な絶縁膜を形成するために、我々は、ZrO2膜の低温作製を行ってきた。本研究で得られたZrO2膜は、XRDパターンからmonoclinicのZrO2(m-ZrO2)とtetragonalのZrO2(t-ZrO2)に相当する回折線が見られたものの、安定相であるmonoclinic-ZrO2相が主体となっていることがわかった。さらに、Cu/ZrO2/Pt構造を作製し、そのI-V特性について検討したところ、低電流値のバイポーラスイッチング特性が得られることが明らかとなった。 |
| （英） | In order to form insulating films applicable to resistive random access memory, we have prepared low-temperature-deposition of ZrO2 film. From XRD results, diffraction lines corresponding to monoclinic ZrO2 (m-ZrO2) and tetragonal ZrO2 (t-ZrO2) phases were seen. XRD results showed that the obtained ZrO2 film consists of mainly stable m-ZrO2 phase. Furthermore, we can demonstrate that the Cu/ZrO2/Pt structure has bipolar switching property with low current values. | |
| キーワード | （和） | 抵抗変化メモリ / ZrO2膜 / バイポーラスイッチング特性 / / / / / |
| （英） | Resistive random access memory / ZrO2 film / Bipolar switching property / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 120, no. 217, CPM2020-21, pp. 38-40, 2020年10月. | |
| 資料番号 | CPM2020-21 | |
| 発行日 | 2020-10-22 (CPM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2020-21 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2020-10-29 - 2020-10-29 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2020-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 抵抗変化メモリに適用可能なZrO2膜の低温作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of low-temperature-deposited ZrO2 film applicable to RRAM |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 抵抗変化メモリ / Resistive random access memory |
| キーワード(2)（和/英） | ZrO2膜 / ZrO2 film |
| キーワード(3)（和/英） | バイポーラスイッチング特性 / Bipolar switching property |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル |
| 第1著者 所属（和/英） | 北見工業大学 (略称： 北見工大) Kitami Institute of Technology (略称： Kitami Inst. of tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川合 祐貴 / Yuki Kawai / カワイ ユウキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 北見工業大学 (略称： 北見工大) Kitami Institute of Technology (略称： Kitami Inst. of tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 向井 高幸 / Takayuki Mukai / ムカイ タカユキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 北見工業大学 (略称： 北見工大) Kitami Institute of Technology (略称： Kitami Inst. of tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ |
| 第4著者 所属（和/英） | 北見工業大学 (略称： 北見工大) Kitami Institute of Technology (略称： Kitami Inst. of tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2020-10-29 16:40:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2020-21 |
| 巻番号（vol） | vol.120 |
| 号番号（no） | no.217 |
| ページ範囲 | pp.38-40 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2020-10-22 (CPM) |
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