| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2022-12-09 16:25
大電流動作に向けた電子源要素技術の開発 ○村田博雅・村上勝久・長尾昌善(産総研) ED2022-70 |
| 抄録 |
(和) |
我々は,ボルケーノ構造を有するゲート電極と集束電極を配置したダブルゲートフィールドエミッタアレイを開発してきた.ゲート電極を精緻に配置することで高いビーム集束を実現しイメージセンサーなど電流量の少ないアプリケーションに応用してきた.現在,エックス線源や超高周波管など,大電流のアプリケーションにも応用できるように大電流化のための要素技術を開発している.今回,反応性スパッタを用いてSiエミッタにTiNコーティングを施したボルケーノ構造フィールドエミッタアレイを作製した。膜質およびエミッション特性を評価した結果、TiNにより大電流化することが確認できた。 |
| (英) |
In our previous study, we have developed a volcano-structured double-gate field emitter array (FEA). We have achieved high beam focusing by precisely arranging the gate electrode. Although the double gate FEA is applied to image sensor which require low current, higher current operation is necessary for the application of X-ray sources and high-frequency vacuum tube. In this study, TiN is deposited on silicon cone by reactive sputtering using Ar/N2 gas and Ti target. The volcano-structured gate electrode is formed on TiN-coated Si cone using etch-back technique. TiN-coated volcano-structured FEA demonstrated high-current operation. |
| キーワード |
(和) |
フィールドエミッタアレイ / ボルケーノ構造 / TiNコーティング / / / / / |
| (英) |
Field emitter array / Volcano structure / TiN coating / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 122, no. 298, ED2022-70, pp. 64-65, 2022年12月. |
| 資料番号 |
ED2022-70 |
| 発行日 |
2022-12-01 (ED) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
ED2022-70 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
ED |
| 開催期間 |
2022-12-08 - 2022-12-09 |
| 開催地(和) |
12/8 名大,12/9 ウインク愛知(会場は「詳細はこちら」を参照ください) |
| 開催地(英) |
12/8 Nagoya University, 12/9 WINC AICHI |
| テーマ(和) |
電子・イオンビーム応用 |
| テーマ(英) |
Applications of electron and ion beam |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
ED |
| 会議コード |
2022-12-ED |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
大電流動作に向けた電子源要素技術の開発 |
| サブタイトル(和) |
|
| タイトル(英) |
Development of field-emitter-array technology for high current operation |
| サブタイトル(英) |
|
| キーワード(1)(和/英) |
フィールドエミッタアレイ / Field emitter array |
| キーワード(2)(和/英) |
ボルケーノ構造 / Volcano structure |
| キーワード(3)(和/英) |
TiNコーティング / TiN coating |
| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
村田 博雅 / Hiromasa Murata / ムラタ ヒロマサ |
| 第1著者 所属(和/英) |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
村上 勝久 / Katsuhisa Murakami / ムラカミ カツヒサ |
| 第2著者 所属(和/英) |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ |
| 第3著者 所属(和/英) |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2022-12-09 16:25:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
ED |
| 資料番号 |
ED2022-70 |
| 巻番号(vol) |
vol.122 |
| 号番号(no) |
no.298 |
| ページ範囲 |
pp.64-65 |
| ページ数 |
2 |
| 発行日 |
2022-12-01 (ED) |