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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-04-15 10:05 ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：白色干渉計と相関係数を用いたシステムの場合 ○岩橋 虎・吉田直樹・松本 勉（横浜国大）  HWS2023-11 |
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| 抄録 | （和） | 人工物メトリクスは，人工物に固有の特徴を用いて当該人工物を認証する技術である．製造者の技術的優位性をセキュリティの根拠としている従来の偽造防止技術とは異なり，製造者ですら複製困難な特徴を用いるため，本物の個体と同等の値が測定される別の物体を作製することが極めて困難である「耐クローン性」を有することが期待されている．電子線リソグラフィにおける電子線レジスト・ピラーの倒壊現象を利用したナノメートルオーダのランダムな凹凸構造を白色干渉計によって撮像し認証を行うシステムでは，照合精度実験により, Equal Error Rateが1億分の1より小さくなることが示されている．一方で,加工技術は日々進歩しており，セキュリティを担保するためには実際にクローンを作製しシステムの評価を行うことが求められる．本研究では，走査型プローブリソグラフィによって作製されたクローンが白色干渉計と相関係数を用いたシステムによって拒否できることを示す． |
| （英） | Artifact metrics are a technology that authenticates artifacts using features unique to each artifact. Unlike conventional anti-counterfeiting technologies, which use the technical superiority of the manufacturer as the basis for security, artifact metrics are expected to be "clone-resistant," meaning that it is extremely difficult to create another object that measures the same value as a real individual, because they use features that are difficult to replicate even by the manufacturer. In an authentication system that uses white light interferometry to image random uneven structures on the order of nanometer using the collapse phenomenon of electron-beam resist pillars in electron-beam lithography, matching accuracy experiments have shown that the Equal Error Rate is smaller than 1/100 million. On the other hand, processing technology is advancing day by day, and actual cloning and evaluation of the system are required to ensure security. In this study, we show that clones fabricated by scanning probe lithography can be rejected by a system using white light interferometry and correlation coefficients. | |
| キーワード | （和） | 人工物メトリクス / レジスト倒壊 / 白色干渉計 / 耐クローン性 / 相関係数 / / / |
| （英） | artifact metrics / resist collapse / white light interferometer / clonal resistance / correlation coefficient / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 6, HWS2023-11, pp. 43-48, 2023年4月. | |
| 資料番号 | HWS2023-11 | |
| 発行日 | 2023-04-07 (HWS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | HWS2023-11 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | HWS |
| 開催期間 | 2023-04-14 - 2023-04-15 |
| 開催地（和） | 湯布院公民館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | ハードウェアセキュリティ，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | HWS |
| 会議コード | 2023-04-HWS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：白色干渉計と相関係数を用いたシステムの場合 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Clone Resistance of Artifact Metric Systems Based on White Light Interferometry and Correlation coefficient |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 人工物メトリクス / artifact metrics |
| キーワード(2)（和/英） | レジスト倒壊 / resist collapse |
| キーワード(3)（和/英） | 白色干渉計 / white light interferometer |
| キーワード(4)（和/英） | 耐クローン性 / clonal resistance |
| キーワード(5)（和/英） | 相関係数 / correlation coefficient |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩橋 虎 / Akira Iwahashi / イワハシ アキラ |
| 第1著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 直樹 / Naoki Yoshida / ヨシダ ナオキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム |
| 第3著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-04-15 10:05:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | HWS |
| 資料番号 | HWS2023-11 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.6 |
| ページ範囲 | pp.43-48 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2023-04-07 (HWS) |
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