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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-02-29 10:45 マイクロウェーブを用いたプラズマ支援型低温ALDによる窒化アルミニウムの試作と評価 ○髙橋知也・三浦正範・有馬ボシールアハンマド・廣瀬文彦（山形大）  CPM2023-99 |
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| 抄録 | （和） | 窒化アルミニウムは広いバンドギャップと水・酸素への安定性からデバイスのパッシベーション膜等への応用が期待されている。本実験ではマイクロウェーブプラズマを用いた原子層堆積法における窒化アルミニウム製膜の最適条件を検討し、窒素・アルミニウムが約80 %を占める窒化アルミニウムの製膜に成功した。また、長時間のエッチングによって膜内部の組成比の推移を確かめるとともに、分光エリプソメトリーによる膜成長率の測定、原子間力顕微鏡による表面構造の観察、X線回折による結晶性の確認も行った。 |
| （英） | Aluminum nitride is expected to be used as a passivation film for devices due to its wide band gap and stability to water and oxygen. In this experiment, we investigated the optimum conditions for the deposition of aluminum nitride films by atomic layer deposition using microwave plasma and succeeded in the deposition of aluminum nitride films with about 80% of nitrogen and aluminum content. We also confirmed the transition of the composition ratio inside the film by etching for a long time, measured the film growth rate by spectroscopic ellipsometry, observed the surface structure by atomic force microscopy, and confirmed the crystallinity by X-ray diffraction. | |
| キーワード | （和） | 原子層堆積法 / マイクロウェーブ / 窒化アルミニウム / / / / / |
| （英） | Atomic layer deposition / microwave / aluminum nitride / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 395, CPM2023-99, pp. 11-14, 2024年2月. | |
| 資料番号 | CPM2023-99 | |
| 発行日 | 2024-02-22 (CPM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2023-99 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2024-02-29 - 2024-02-29 |
| 開催地（和） | 山形大学工学部 |
| 開催地（英） | Yamagata University |
| テーマ（和） | 若手ミーティング （電子・部品・材料・一般） |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2024-02-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | マイクロウェーブを用いたプラズマ支援型低温ALDによる窒化アルミニウムの試作と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication and Evaluation of Aluminum Nitride Thin Film Using Microwave Plasma-Assisted Low-Temperature Atomic Layer Deposition |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 原子層堆積法 / Atomic layer deposition |
| キーワード(2)（和/英） | マイクロウェーブ / microwave |
| キーワード(3)（和/英） | 窒化アルミニウム / aluminum nitride |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 髙橋 知也 / Tomoya Takahashi / タカハシ トモヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三浦 正範 / Masanori Miura / ミウラ マサノリ |
| 第2著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 有馬 ボシールアハンマド / Bashir Ahmmad / アリマ ボシールアハンマド |
| 第3著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ |
| 第4著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-02-29 10:45:00 |
| 発表時間 | 15分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2023-99 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.395 |
| ページ範囲 | pp.11-14 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-02-22 (CPM) |
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