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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-07-18 15:20 アルカリ金属吸着のためのアルミニウムシリケート薄膜の試作と評価 ○竹田響綺・宮澤 諒・三浦正範・有馬 ボシール アハンマド・廣瀬文彦（山形大）  CPM2024-16 |
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| 抄録 | （和） | 近年アルミニウムシリケートの薄膜化応用が進められている。アルミニウムシリケート薄膜形成において、我々は酸化ガスにプラズマ励起加湿アルゴン、SiO₂の原料ガスにはTDMAS(Tris(dimethylamino)silane)、Al₂O₃の原料ガスにはTMA(Trimethylaluminum)を使用し、原子層堆積法により組成比制御が可能な室温成膜プロセスを作り上げた。この酸化膜においてアルミニウムシリケートのアルカリ金属吸着・交換能力を実証した。また薄膜のSiとAlの組成比の違いにより、吸着能力の変化を確認した。本方法により、アルミニウムシリケート膜でCs、Srの吸着に成功しており、今後同薄膜をフレキシブル基板に成膜し、roll-to-roll装置を使ったアルカリ金属吸着・交換が可能となれば、効率的に放射能汚染物質の回収が可能になると考えられる。 |
| （英） | In recent years, thin film application of aluminum silicate has been promoted. For aluminum silicate thin film deposition, we used plasma excited humidified argon as the oxidizing gas, TDMAS (Tris(dimethylamino)silane) as the SiO₂ source gas, and TMA (trimethylaluminum) as the Al₂O₃ source gas. A room-temperature deposition process was developed using the atomic layer deposition method, which allows composition ratio control. In this oxide film, the alkali metal adsorption and exchange capability of aluminum silicate was demonstrated. The adsorption capacity was also confirmed to vary depending on the composition ratio of Si and Al in the thin film. The method has succeeded in adsorbing Cs and Sr on aluminum silicate films, and if these thin films can be deposited on flexible substrates in the future and alkali metal adsorption/exchange using roll-to-roll equipment becomes possible, it will be possible to efficiently recover radioactive contaminants. | |
| キーワード | （和） | 室温原子層堆積法 / アルミニウムシリケート / アルミナ / シリカ / プラズマ励起加湿アルゴン / / / |
| （英） | Room temperature atomic layer deposition / Aluminum silicate / Alumina / Silica / Plasma excited humidified argon / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 115, CPM2024-16, pp. 15-18, 2024年7月. | |
| 資料番号 | CPM2024-16 | |
| 発行日 | 2024-07-11 (CPM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2024-16 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2024-07-18 - 2024-07-19 |
| 開催地（和） | オホーツク・文化交流センター（愛称：エコーセンター2000） |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 電子部品・材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2024-07-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | アルカリ金属吸着のためのアルミニウムシリケート薄膜の試作と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication and Evaluation of Aluminum Silicate Thin Films for Alkali Metal Adsorption |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 室温原子層堆積法 / Room temperature atomic layer deposition |
| キーワード(2)（和/英） | アルミニウムシリケート / Aluminum silicate |
| キーワード(3)（和/英） | アルミナ / Alumina |
| キーワード(4)（和/英） | シリカ / Silica |
| キーワード(5)（和/英） | プラズマ励起加湿アルゴン / Plasma excited humidified argon |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 竹田 響綺 / Hibiki Takeda / タケダ ヒビキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮澤 諒 / Ryo Miyazawa / ミヤザワ リョウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三浦 正範 / Masanori Miura / ミウラ マサノリ |
| 第3著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 有馬 ボシール アハンマド / Bashir Ahmmad Arima / アリマ ボシール アハンマド |
| 第4著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-07-18 15:20:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2024-16 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.115 |
| ページ範囲 | pp.15-18 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-07-11 (CPM) |
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