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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-08-29 13:30 電子ビーム蒸着によるサファイア基板上Ni(111)薄膜成長 ○渡邊雅史・石井 尚・阿部星天・中澤日出樹・小林康之（弘前大）  R2024-12 EMD2024-6 CPM2024-22 OPE2024-62 LQE2024-9 |
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| 抄録 | （和） | Ni(111)は、六方晶窒化ホウ素(h-BN)との格子不整合度が0.4%と非常に小さく、高品質なh-BNの成長が期待できる。しかし、サファイア基板上Ni(111)薄膜はディウェッティング現象を生じやすく、その抑制のため、Ni(111)薄膜の膜厚を増大することが求められる。今回我々は、電子ビーム蒸着を用いて、サファイア(0001)基板上に50 nm-500 nmの膜厚のNi(111)薄膜を成長した。X線回折により、配向関係はOR-Iであることが分かり、また、RMSラフネスは0.7 nm-3.0 nmの平坦なNi(111)薄膜が得られた。 |
| （英） | High-quality hexagonal boron nitride (h-BN) thin films can be grown on Ni(111) because of small lattice mismatch of 0.4%. Dewetting of Ni(111) thin films on sapphire substrates causes deterioration of the Ni(111) surfaces, therefore thicker Ni(111) films are required to suppress the dewetting phenomenon. In this study, we grew Ni(111) thin films with the thickness of 50 to 500 nm on sapphire(0001) substrates by electron beam deposition. X-ray diffraction revealed that the orientation relationship was OR-I and atomic force microscopy identified that Ni(111) surfaces showed flat surfaces with RMS roughness of 0.7 nm to 3.0 nm. | |
| キーワード | （和） | Ni(111)薄膜 / サファイア基板 / 電子ビーム蒸着 / X線回折 / 原子間力顕微鏡 / / / |
| （英） | Ni(111) thin film / Sapphire substrate / Electron beam deposition / X-ray diffraction / Atomic force microscopy / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 169, CPM2024-22, pp. 1-4, 2024年8月. | |
| 資料番号 | CPM2024-22 | |
| 発行日 | 2024-08-22 (R, EMD, CPM, OPE, LQE) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | R2024-12 EMD2024-6 CPM2024-22 OPE2024-62 LQE2024-9 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM LQE OPE EMD R |
| 開催期間 | 2024-08-29 - 2024-08-30 |
| 開催地（和） | 弘前大学文京町地区キャンパス 創立50周年記念会館 |
| 開催地（英） | Hirosaki University |
| テーマ（和） | 受光素子，変調器，光部品・電子デバイス実装・信頼性，及び一般 |
| テーマ（英） | Photodetectors, Modulators, Optical Electrical device packaging and reliability |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2024-08-CPM-LQE-OPE-EMD-R |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 電子ビーム蒸着によるサファイア基板上Ni(111)薄膜成長 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | * |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Ni(111)薄膜 / Ni(111) thin film |
| キーワード(2)（和/英） | サファイア基板 / Sapphire substrate |
| キーワード(3)（和/英） | 電子ビーム蒸着 / Electron beam deposition |
| キーワード(4)（和/英） | X線回折 / X-ray diffraction |
| キーワード(5)（和/英） | 原子間力顕微鏡 / Atomic force microscopy |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡邊 雅史 / Masashi Watanabe / ワタナベ マサシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： hirosaki Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石井 尚 / Nao Ishii / イシイ ナオ |
| 第2著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： hirosaki Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 阿部 星天 / Seiya Abe / アベ セイヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： hirosaki Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中澤 日出樹 / Hideki Nakazawa / ナカザワ ヒデキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： hirosaki Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小林 康之 / Yasuyuki Kobayashi / コバヤシ ヤスユキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： hirosaki Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-08-29 13:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | R2024-12, EMD2024-6, CPM2024-22, OPE2024-62, LQE2024-9 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.167(R), no.168(EMD), no.169(CPM), no.170(OPE), no.171(LQE) |
| ページ範囲 | pp.1-4 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-08-22 (R, EMD, CPM, OPE, LQE) |
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