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講演抄録/キーワード
講演名 2024-11-01 11:50
プラズマCVD法によるSi、NおよびO添加DLC膜の機械的特性およびトライボロジー特性
山崎雄也片山遼耶遠田義晴鈴木裕史小林康之中澤日出樹弘前大MRIS2024-25 CPM2024-54
抄録 (和) 高周波プラズマ化学気相成長法によりSi、NおよびOを添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)薄膜を作製し、CO2流量比[CO2/(CO2+CH4)]が膜特性に及ぼす効果について調べた。CO2流量比の増加に伴い、内部応力は減少し、臨界荷重(付着力)は増加した。また、CO2流量比の増加と共に摩擦係数は減少し、低いCO2流量比において比摩耗量は減少傾向を示した。更に、大気中550ºCアニール後も低い摩擦係数を維持することがわかった。光学バンドギャップは高いCO2流量比において増加し、超純水の接触角はCO2流量比の増加に伴い減少し、親水化することがわかった。 
(英) Diamond-like carbon films doped with Si, N, and O (Si-N-O-DLC) have been prepared by radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition, and the effects of CO2 flow ratio [CO2/(CO2+CH4)] on the film properties were investigated. As the CO2 flow ratio increased, the internal stress decreased, and the critical load (adhesion strength) of the films increased. The friction coefficient decreased with the CO2 flow ratio, and the specific wear rate tended to decrease at lower CO2 flow ratios. Furthermore, the friction coefficient remained low even after annealing at 550ºC in air. The optical bandgap increased at higher CO2 flow ratios, and the contact angle of ultra-pure water decreased with an increase in CO2 flow ratio, indicating the surface of the films was hydrophilized.
キーワード (和) ダイヤモンドライクカーボン / 機械的特性 / トライボロジー特性 / 耐熱性 / 光学的特性 / / /  
(英) Diamond-like carbon / Mechanical properties / Tribological properties / Heat resistance / Optical properties / / /  
文献情報 信学技報, vol. 124, no. 228, CPM2024-54, pp. 73-76, 2024年10月.
資料番号 CPM2024-54 
発行日 2024-10-24 (MRIS, CPM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MRIS2024-25 CPM2024-54

研究会情報
研究会 MRIS CPM ITE-MMS  
開催期間 2024-10-31 - 2024-11-01 
開催地(和) 信州大学長野(工学)キャンパス 
開催地(英) Nagano Camp. Shinshu Univ. + Online 
テーマ(和) スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般 
テーマ(英) Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2024-10-MRIS-CPM-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) プラズマCVD法によるSi、NおよびO添加DLC膜の機械的特性およびトライボロジー特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Mechanical and Tribological Properties of Si, N and O-Doped DLC Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ダイヤモンドライクカーボン / Diamond-like carbon  
キーワード(2)(和/英) 機械的特性 / Mechanical properties  
キーワード(3)(和/英) トライボロジー特性 / Tribological properties  
キーワード(4)(和/英) 耐熱性 / Heat resistance  
キーワード(5)(和/英) 光学的特性 / Optical properties  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山崎 雄也 / Yuya Yamazaki / ヤマザキ ユウヤ
第1著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 片山 遼耶 / Ryoya Katayama /
第2著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 遠田 義晴 / Yoshiharu Enta /
第3著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 裕史 / Yushi Suzuki /
第4著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 小林 康之 / Yasuyuki Kobayashi /
第5著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 中澤 日出樹 / Hideki Nakazawa /
第6著者 所属(和/英) 弘前大学 (略称: 弘前大)
Hirosaki University (略称: Hirosaki Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2024-11-01 11:50:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 MRIS2024-25, CPM2024-54 
巻番号(vol) vol.124 
号番号(no) no.227(MRIS), no.228(CPM) 
ページ範囲 pp.73-76 
ページ数
発行日 2024-10-24 (MRIS, CPM) 


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