ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2026-07-16 11:20
テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測
篠原正典岩田晃拓福岡大)・宮澤 諒廣瀬文彦山形大CPM2026-20
抄録 (和) テトラメチルシランを原料としたプラズマ気相化学堆積(プラズマCVD)法を用いた膜堆積において,膜堆積を原子レベルで制御するために,成膜過程を理解することが必要である.そこで,多重内部反射赤外吸収分光法を用いたその場計測で調べたので,報告する.プラズマ中でテトラメチルシランは分子中のSi—C結合を切断して—Si(CH3)3が吸着し,さらに、水素ラジカルによりSi—C結合がSi—H結合に置換しSiH2が形成されることがわかった. 
(英) We investigate deposition process during plasma enhanced chemical vapor deposition with tetramrthylsilane molecules as a source, by using multiple internal reflection infrared absorption spectroscopy (MIR—IRAS). The methylsilane molecules might be adsorbed with the breakage of Si—C bonds in the source molecule during the plasma. SiH in the deposited film might be formed by the adsorption of H radicals generated in the plasma onto Si in the deposited film.
キーワード (和) プラズマ化学気相堆積 / テトラメチルシラン / 赤外吸収分光 / / / / /  
(英) Plasma enhanced chemical vapor deposition / tetramethylsilane / Infrared absorption spectroscopy / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 126, no. 113, CPM2026-20, pp. 37-40, 2026年7月.
資料番号 CPM2026-20 
発行日 2026-07-08 (CPM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2026-20

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2026-07-15 - 2026-07-16 
開催地(和) 弘前大学創立50周年記念会館 
開催地(英) 50th Anniversary Auditorium 
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英) Component Parts and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2026-07-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Infrared spectroscopy of plasma enhanced chemical vapor deposition process using tetramethylsilane as a source molecule 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プラズマ化学気相堆積 / Plasma enhanced chemical vapor deposition  
キーワード(2)(和/英) テトラメチルシラン / tetramethylsilane  
キーワード(3)(和/英) 赤外吸収分光 / Infrared absorption spectroscopy  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 篠原 正典 / Masanori Shinohara / シノハラ マサノリ
第1著者 所属(和/英) 福岡大学 (略称: 福岡大)
Fukuoka University (略称: Fukuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 晃拓 / Akihiro Iwata / イワタ アキヒロ
第2著者 所属(和/英) 福岡大学 (略称: 福岡大)
Fukuoka University (略称: Fukuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮澤 諒 / Ryo Miyazawa / ミヤザワ リョウ
第3著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ
第4著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2026-07-16 11:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2026-20 
巻番号(vol) vol.126 
号番号(no) no.113 
ページ範囲 pp.37-40 
ページ数
発行日 2026-07-08 (CPM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会