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講演抄録/キーワード
講演名 2026-07-16 11:20
テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測
篠原正典岩田晃拓福岡大)・宮澤 諒廣瀬文彦山形大CPM2026-20
抄録 (和) (開催日以降に掲載されます) 
(英) (Available after conference date)
キーワード (和) プラズマ化学気相堆積 / テトラメチルシラン / 赤外吸収分光 / / / / /  
(英) Plasma enhanced chemical vapor deposition / tetramethylsilane / Infrared absorption spectroscopy / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 126, no. 113, CPM2026-20, pp. 37-40, 2026年7月.
資料番号 CPM2026-20 
発行日 2026-07-08 (CPM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2026-20

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2026-07-15 - 2026-07-16 
開催地(和) 弘前大学創立50周年記念会館 
開催地(英) 50th Anniversary Auditorium 
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英) Component Parts and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2026-07-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Infrared spectroscopy of plasma enhanced chemical vapor deposition process using tetramethylsilane as a source molecule 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プラズマ化学気相堆積 / Plasma enhanced chemical vapor deposition  
キーワード(2)(和/英) テトラメチルシラン / tetramethylsilane  
キーワード(3)(和/英) 赤外吸収分光 / Infrared absorption spectroscopy  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 篠原 正典 / Masanori Shinohara / シノハラ マサノリ
第1著者 所属(和/英) 福岡大学 (略称: 福岡大)
Fukuoka University (略称: Fukuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 晃拓 / Akihiro Iwata / イワタ アキヒロ
第2著者 所属(和/英) 福岡大学 (略称: 福岡大)
Fukuoka University (略称: Fukuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮澤 諒 / Ryo Miyazawa / ミヤザワ リョウ
第3著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ
第4著者 所属(和/英) 山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2026-07-16 11:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2026-20 
巻番号(vol) vol.126 
号番号(no) no.113 
ページ範囲 pp.37-40 
ページ数
発行日 2026-07-08 (CPM) 


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