| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2026-07-16 11:20
テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測 ○篠原正典・岩田晃拓(福岡大)・宮澤 諒・廣瀬文彦(山形大) CPM2026-20 |
| 抄録 |
(和) |
テトラメチルシランを原料としたプラズマ気相化学堆積(プラズマCVD)法を用いた膜堆積において,膜堆積を原子レベルで制御するために,成膜過程を理解することが必要である.そこで,多重内部反射赤外吸収分光法を用いたその場計測で調べたので,報告する.プラズマ中でテトラメチルシランは分子中のSi—C結合を切断して—Si(CH3)3が吸着し,さらに、水素ラジカルによりSi—C結合がSi—H結合に置換しSiH2が形成されることがわかった. |
| (英) |
We investigate deposition process during plasma enhanced chemical vapor deposition with tetramrthylsilane molecules as a source, by using multiple internal reflection infrared absorption spectroscopy (MIR—IRAS). The methylsilane molecules might be adsorbed with the breakage of Si—C bonds in the source molecule during the plasma. SiH in the deposited film might be formed by the adsorption of H radicals generated in the plasma onto Si in the deposited film. |
| キーワード |
(和) |
プラズマ化学気相堆積 / テトラメチルシラン / 赤外吸収分光 / / / / / |
| (英) |
Plasma enhanced chemical vapor deposition / tetramethylsilane / Infrared absorption spectroscopy / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 126, no. 113, CPM2026-20, pp. 37-40, 2026年7月. |
| 資料番号 |
CPM2026-20 |
| 発行日 |
2026-07-08 (CPM) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
CPM2026-20 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
CPM |
| 開催期間 |
2026-07-15 - 2026-07-16 |
| 開催地(和) |
弘前大学創立50周年記念会館 |
| 開催地(英) |
50th Anniversary Auditorium |
| テーマ(和) |
電子部品・材料,一般 |
| テーマ(英) |
Component Parts and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
CPM |
| 会議コード |
2026-07-CPM |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測 |
| サブタイトル(和) |
|
| タイトル(英) |
Infrared spectroscopy of plasma enhanced chemical vapor deposition process using tetramethylsilane as a source molecule |
| サブタイトル(英) |
|
| キーワード(1)(和/英) |
プラズマ化学気相堆積 / Plasma enhanced chemical vapor deposition |
| キーワード(2)(和/英) |
テトラメチルシラン / tetramethylsilane |
| キーワード(3)(和/英) |
赤外吸収分光 / Infrared absorption spectroscopy |
| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
篠原 正典 / Masanori Shinohara / シノハラ マサノリ |
| 第1著者 所属(和/英) |
福岡大学 (略称: 福岡大)
Fukuoka University (略称: Fukuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
岩田 晃拓 / Akihiro Iwata / イワタ アキヒロ |
| 第2著者 所属(和/英) |
福岡大学 (略称: 福岡大)
Fukuoka University (略称: Fukuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
宮澤 諒 / Ryo Miyazawa / ミヤザワ リョウ |
| 第3著者 所属(和/英) |
山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ |
| 第4著者 所属(和/英) |
山形大学 (略称: 山形大)
Yamagata University (略称: Yamagata Univ.) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2026-07-16 11:20:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
CPM |
| 資料番号 |
CPM2026-20 |
| 巻番号(vol) |
vol.126 |
| 号番号(no) |
no.113 |
| ページ範囲 |
pp.37-40 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2026-07-08 (CPM) |