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電子部品・材料研究会 (CPM)  (検索条件: 2010年度)

「from:2010-09-10 to:2010-09-10」による検索結果

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講演検索結果
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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2010-09-10
10:20
東京 機械振興会館 ホログラムメモリのビット間干渉と2次元信号処理適用の効果
近藤 陽山岸泰之高畑洋介山本 学東京理科大CPM2010-79
ホログラムメモリ(Holographic Data Storage)は,記録・再生時に光学系の波面収差などによって画質が... [more] CPM2010-79
pp.1-4
CPM 2010-09-10
10:45
東京 機械振興会館 反射型ホログラムメモリの記録再生シミュレーションと媒体収縮の影響に関する考察
山田剛史大堀智広吉田周平山本 学東京理科大CPM2010-80
ホログラムメモリの実用化を考えたとき,記録再生において媒体の収縮の影響による信号劣化は課題の一つである.実際に記録再生の... [more] CPM2010-80
pp.5-8
CPM 2010-09-10
11:10
東京 機械振興会館 角度多重ホログラフィックメモリにおけるフォトポリマー収縮モデルの検証
紫垣政信仁田功一的場 修神戸大CPM2010-81
ホログラフィックメモリは、テラバイトクラスの記憶容量と1Gbps以上のデータ転送レートを実現する次世代光メモリとして期待... [more] CPM2010-81
pp.9-10
CPM 2010-09-10
11:35
東京 機械振興会館 コリニア方式による磁性ガーネットへの熱磁気ホログラム記録
加藤寛貴櫻井寛之林 攀梅堀米秀嘉井上光輝豊橋技科大CPM2010-82
高転送レートと高記録密度を両立する次世代光メモリとして、コリニア方式ホログラムメモリがある.コリニア方式では、信号光と参... [more] CPM2010-82
pp.11-14
CPM 2010-09-10
13:00
東京 機械振興会館 ホログラフィック光ディスクによる超高速光相関システム ~ 画像・動画識別への応用 ~
渡邉恵理子電通大)・小舘香椎子日本女子大CPM2010-83
 [more] CPM2010-83
pp.15-19
CPM 2010-09-10
13:25
東京 機械振興会館 1ビーム検出方式を用いたBD2層対応スリム型光ピックアップの開発
永沢 充山埼和良一色史雄日立)・北田保夫日立メディアエレクトロニクスCPM2010-84
1ビーム検出方式を用いて、BD2層ディスクに対応するスリム型光ピックアップを開発した。本光ピックアップでは、簡素な光学系... [more] CPM2010-84
pp.21-24
CPM 2010-09-10
13:50
東京 機械振興会館 マルチフェロイック空間光変調器の光変調機能とPLZT薄膜の形成
佐藤 洋後藤太一久米章博豊橋技科大)・高木宏幸豊田高専)・井上光輝豊橋技科大CPM2010-85
近年の光情報技術の急速な発展に伴い,超高速で駆動する低消費電力駆動型の空間光変調デバイス(Spatial Light M... [more] CPM2010-85
pp.25-30
CPM 2010-09-10
14:15
東京 機械振興会館 圧電体膜上への低温多結晶シリコン薄膜トランジスタの作製
岡田耕輔水戸慎一郎磯谷亮介豊橋技科大)・高木宏幸豊田高専)・井上光輝豊橋技科大CPM2010-86
磁気光学空間光変調器(magneto-optic spatial light modulator : MOSLM) は,... [more] CPM2010-86
pp.31-36
CPM 2010-09-10
15:00
東京 機械振興会館 遷移金属含有低純度Siを用いた太陽電池の製作
都築 暁武田大樹佐野裕紀鈴木貴彦廣瀬文彦山形大CPM2010-87
現在、多結晶Si太陽電池は製造コストが高く、低コスト化が望まれている。従来の多結晶Si製造法であるシーメンス法を用いずに... [more] CPM2010-87
pp.37-40
CPM 2010-09-10
15:25
東京 機械振興会館 ペンタセン/シリコン有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析
大山直樹高梨優樹金子 翔鈴木貴彦廣瀬文彦山形大CPM2010-88
高移動度p型有機半導体として知られるペンタセンを用いてn-Siとのヘテロ接合ダイオードを試作した。ダイオードは良好な整流... [more] CPM2010-88
pp.41-45
CPM 2010-09-10
15:50
東京 機械振興会館 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価
籾山克章鈴木貴彦廣瀬文彦山形大CPM2010-89
高効率太陽電池材料として期待されるβ-FeSi2を大面積製膜で有利な固相反応エピタキシー法を用いて、100nm以上の厚膜... [more] CPM2010-89
pp.47-51
CPM 2010-09-10
16:15
東京 機械振興会館 高効率電気光学結晶KTNを用いたバルク型光デバイス
豊田誠治八木生剛今井欽之宮津 純笹浦正弘NTT)・長沼和則佐々木雄三藤浦和夫NTT-ATCPM2010-90
 [more] CPM2010-90
pp.53-57
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