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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 大見 俊一郎 (東工大)
副委員長 宇佐美 達矢 (ラピダス)
幹事 諏訪 智之 (東北大), 野田 泰史 (パナソニック)
幹事補佐 細井 卓治 (関西学院大), 二瀬 卓也 (ウエスタンデジタル)

日時 2024年 6月21日(金) 11:00 - 16:20
議題 MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催) 
会場名 関西学院大学 大阪梅田キャンパス 1004教室 
住所 〒530-0013 大阪市北区茶屋町19-19 アプローズタワー
交通案内 https://www.kwansei.ac.jp/kg_hub/access
会場世話人
連絡先
細井卓治
06-6485-5611
他の共催 ◆応用物理学会共催
参加費に
ついて
この開催は「技報完全電子化」研究会です.参加費(SDM研究会)についてはこちらをご覧ください

6月21日(金) 午前 
11:00 - 16:20
(1) 11:00-11:35 [招待講演]絶縁膜/半導体界面における表面ポテンシャル分布がMOSキャパシタの電気特性に与える影響 田岡紀之一野祐亮清家善之森 竜雄愛工大
(2) 11:35-12:10 [招待講演]第一原理計算によるSiC(0001)ステップ界面へのNOアニーリング効果の予測 植本光治舩木七星斗神戸大)・細井卓治関学)・小野倫也神戸大
(3) 12:10-12:45 [招待講演]ランダムポテンシャルによるMOSFETの特性変化 森 伸也阪大
  12:45-14:00 昼食 ( 75分 )
(4) 14:00-14:35 [招待講演]分布型分極ドーピングによるAlN系縦型p-nダイオードの実証 隈部岳瑠名大)・吉川 陽旭化成)・川崎晟也久志本真希本田善央新井 学須田 淳天野 浩名大
(5) 14:35-15:10 [招待講演]光ゲート効果による高感度グラフェン可視光イメージセンサ 嶋谷政彰福島昌一郎岩川 学小川新平三菱電機
(6) 15:10-15:45 [招待講演]大規模言語モデル用材料分野ベンチマーク作成とそれによるChatGPT・Bardの評価 吉武道子OSX
(7) 15:45-16:20 [招待講演]有機半導体のエネルギーバンド構造と電気伝導機構 ~ 伝導帯バンド構造の実測とポーラロン形成の実証 ~ 吉田弘幸千葉大

講演時間
一般講演発表 15 分 + 質疑応答 5 分
招待講演発表 30 分 + 質疑応答 5 分
依頼講演発表 30 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 細井 卓治(関西学院大学) 
お知らせ ◎10:30より前には会場にお入りいただけませんので、ご注意ください。


Last modified: 2024-04-18 17:13:28


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