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すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ED | 2024-08-23 14:50 |
高知 | 高知工科大学（永国寺キャンパス） （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ミストCVD法による酸化亜鉛薄膜の成膜と熱処理の特性変化 ○大橋亮介・岡田達樹・ヘテット ス ワイ・安岡龍哉・川原村敏幸（高知工科大）  ED2024-16 |
[more] | ED2024-16 pp.12-14 |
| ED | 2024-08-23 15:40 |
高知 | 高知工科大学（永国寺キャンパス） （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
α-(AlxGa1-x)2O3バッファ層中の欠陥評価 ○安岡龍哉・劉 麗・ダン タイジャン・川原村敏幸（高知工科大） ED2024-18 |
[more] | ED2024-18 pp.19-20 |
| ED | 2024-08-23 16:05 |
高知 | 高知工科大学（永国寺キャンパス） （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ミストCVD法によって作製したCu薄膜とその特性 ○岡田達樹・大橋亮介・安岡龍哉・す わい・川原村敏幸（高知工科大） ED2024-19 |
各種金属の中で, 銅(Cu)は, 電気伝導性が優れているだけでは無く, 安価なため, 電子デバイスの電極として重宝されて... [more] | ED2024-19 pp.21-23 |
| SDM, EID (共催) ITE-IDY (連催) [詳細] |
2019-12-24 14:05 |
奈良 | 奈良先端大(物質領域 大講義室） | Al2O3絶縁膜上に作製したGa-Sn-O TFT ○服部一輝・谷野健太・松田時宜・木村 睦（龍谷大）・川原村敏幸（高知工科大） |
[more] | |
| ITE-IDY, EID, IEE-EDD (連催) |
2013-01-25 10:10 |
静岡 | 静岡大学 | 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性 ○川原村敏幸・内田貴之・王 大鵬・古田 守（高知工科大） |
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| EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL (連催) |
2011-01-28 13:00 |
高知 | 高知工科大学 研究教育棟B | ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 ～ スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て ～ ○王 大鵬・川原村敏幸・李 朝陽・平尾 孝（高知工科大） |
[more] | |
| EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL (連催) |
2011-01-28 14:40 |
高知 | 高知工科大学 研究教育棟B | ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 ～ 大気圧下、低温成長への挑戦 ～ ○川原村敏幸（高知工科大）・織田容征・白幡孝洋（東芝三菱電機産業システム）・井川拓人・伊藤大師（京大）・吉田章男（東芝三菱電機産業システム）・藤田静雄（京大）・平尾 孝（高知工科大） |
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