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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2020-10-22
10:50
ONLINE オンライン開催 (オンライン) 3次元積層に向けた高容量密度・高耐圧SiN絶縁膜粗面トレンチキャパシタの開発
齊藤宏河吉田彩乃黒田理人東北大)・柴田 寛柴口 拓栗山尚也ラピスセミコンダクタ宮城)・須川成利東北大SDM2020-15
本稿では高容量密度・高絶縁破壊耐圧を両立したSiN絶縁膜粗面トレンチキャパシタについて報告する. 開発したキャパシタは,... [more] SDM2020-15
pp.7-11
SDM 2017-02-06
15:35
東京 東京大学/本郷 (東京都) [招待講演]ビアラスト型TSVの高留まり化のためのウエット洗浄プロセスの開発
渡辺直也産総研)・菊地秀和柳澤あづさラピス)・島本晴夫菊地克弥青柳昌宏産総研)・中村彰男ラピスSDM2016-145
 [more] SDM2016-145
pp.35-40
ICD, SDM
(共催)
ITE-IST
(連催) [詳細]
2016-08-03
14:40
大阪 中央電気倶楽部 (大阪府) ボディ電圧1V以下ドレイン電圧0.1Vで急峻なSSを持つPN-Body Tied SOI FET
吉田貴大井田次郎堀井隆史金沢工大)・沖原将生ラピス)・新井康夫高エネルギー加速器研究機構SDM2016-66 ICD2016-34
PN-Body Tied SOI FETのBody Tied部のN層の濃度を濃いN+層から薄いN-層に見直すことで、ボデ... [more] SDM2016-66 ICD2016-34
pp.117-121
SDM 2015-10-29
16:00
宮城 東北大学未来研 (宮城県) 原子オーダー平坦なゲート絶縁膜/シリコン界面を導入したMOSFETの電気的特性
後藤哲也黒田理人諏訪智之寺本章伸小原俊樹木本大幾須川成利東北大)・鎌田 浩熊谷勇喜渋沢勝彦ラピスセミコンダクタ宮城SDM2015-74
シリコン表面原子オーダー平坦化技術を,テクノロジーノード0.22umのshallow trench isolation ... [more] SDM2015-74
pp.17-22
SRW 2015-08-24
11:05
東京 芝浦工業大学 (東京都) [招待講演]IoT/M2M普及に向けた短距離無線通信の課題と対策
市川武志ラピスセミコンダクタSRW2015-15
IoT,M2M普及に向けた短距離無線通信に対する課題をリストアップ、リストに関するLSIベンダーが取り組むべき内容をラピ... [more] SRW2015-15
pp.23-30
SRW 2015-08-24
16:55
東京 芝浦工業大学 (東京都) [パネル討論]IoT普及に向けてLSIに求められること
市川武志ラピスセミコンダクタSRW2015-25
IoT普及に向けてLSIベンダーが今後どのようなLSIを創出していくべきかを説明いたします。 [more] SRW2015-25
pp.83-84
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