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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2019-06-21
16:05
愛知 名古屋大学 VBL3F 超格子GeTe/Sb2Te3メモリの第一原理計算による構造変化シミュレーション
小川湧太郎野原弘晶白川裕規洗平昌晃白石賢二名大SDM2019-33
超格子GeTe/Sb2Te3は次世代不揮発性メモリとして期待されているInterfacial Phase Change ... [more] SDM2019-33
pp.39-42
SDM 2018-06-25
15:55
愛知 名古屋大学 VBL3F 第一原理計算による超格子GeTe/Sb2Te3相変化メモリの理論的検討
野原弘晶白川裕規洗平昌晃白石賢二名大SDM2018-24
 [more] SDM2018-24
pp.37-41
SDM 2017-11-09
10:00
東京 機械振興会館 [招待講演]GaN MOVPE成長のマルチフィジックスシミュレーション
白石賢二関口一樹長川健大白川裕規川上賢人山本芳裕洗平昌晃岡本直也芳松克則名大)・寒川義裕柿本浩一九大SDM2017-61
これまでのGaNのMOVPE成長シミュレーションではトリメチルガリウム(TMG)とアンモニアがまず反応してアダクトが形成... [more] SDM2017-61
pp.1-4
SDM 2015-06-19
13:00
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー シリコン熱酸化膜の水素アニール効果に関する第一原理計算
川内伸悟白川裕規洗平昌晃名大)・影島愽之島根大)・遠藤哲郎東北大)・白石賢二名大SDM2015-45
なぜ高品質なSi/SiO2界面は熱酸化によって容易に形成されるのか。この疑問はシリコン技術の成功に密接に関係しているにも... [more] SDM2015-45
pp.37-40
SDM 2014-06-19
13:45
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 第一原理計算を用いたSi-rich SiO2への水素・窒素原子の混入による影響の原子論的考察
白川裕規山口慶太筑波大)・神谷克政神奈川工科大)・白石賢二名大SDM2014-52
MONOS (Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Semiconductor ) 型メモリは、堅牢な電荷... [more] SDM2014-52
pp.49-53
SDM 2013-06-18
11:55
東京 機械振興会館 MONOS型メモリを用いた長期保存メモリの設計指針
白川裕規山口慶太神谷克政白石賢二筑波大SDM2013-52
 [more] SDM2013-52
pp.43-46
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