| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ED | 2016-10-25 14:40 |
三重 | 三重大学 新産業創成研究拠点（旧VBL） | シリコンフィールドエミッタの光応答性の評価（その2） ○嶋脇秀隆（八戸工大）・長尾昌善（産総研）・根尾陽一郎・三村秀典（静岡大）・若家冨士男・高井幹夫（阪大）  ED2016-46 |
p型シリコンフィールドエミッタにバンドギャップ以上の光を照射するとエミッション電流が増大する。この特性を利用すると光パル... [more] | ED2016-46 pp.13-15 |
| ED | 2010-10-25 13:25 |
京都 | 宇治おうばくプラザ(京都大学） | 三フッ化メタンプラズマ処理したシリコン電界放出電子源の表面状態と電子放出特性 ○後藤康仁・遠藤恵介・辻 博司（京大）・石川順三（中部大）・酒井滋樹（日新イオン機器） ED2010-129 |
三フッ化メタンプラズマ処理を施したシリコン電界放出電子源の電子放出特性の経時変化の原因を調べる目的で、同じ処理を施したシ... [more] | ED2010-129 pp.7-10 |
| ED | 2008-08-05 09:50 |
静岡 | 静岡大学浜松キャンパス | シリコン微小電子源のイオンビーム空間電荷中和への応用 ○竹内光明（JSTイノベーションプラザ京都）・後藤康仁・辻 博司（京大）・酒井滋樹（日新イオン機器）・木本恒暢・石川順三（京大） ED2008-119 |
半導体イオン注入用極低エネルギーイオンビームの発散抑制を目的として、シリコン微小電子源(Si-FEA)を用いたイオンビー... [more] | ED2008-119 pp.49-52 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]