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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED, SDM
(共催)
2010-07-02
12:50
東京 東工大 大岡山キャンパス Over 1GHz High-Speed Current Pulse Generation Circuit for Novel Nonvolatile Memory Cells
Tetsuo EndohYasuhiko SuzukiTakuya ImamotoHyoungjun NaTohoku Univ.ED2010-114 SDM2010-115
In this paper, a new 2 step program method is proposed to re... [more] ED2010-114 SDM2010-115
pp.283-288
ICD 2010-04-22
15:20
神奈川 湘南工大 [依頼講演] Fabrication of a Nonvolatile Lookup-Table Circuit Chip Using Magneto/Semiconductor-Hybrid Structure for an Immediate-Power-Up Field Programmable Gate Array
鈴木大輔夏井雅典池田正二東北大)・長谷川晴弘日立)・三浦勝哉東北大/日立)・早川 純日立)・遠藤哲郎大野英男羽生貴弘東北大ICD2010-9
本稿では,磁気トンネル接合素子 (MTJ: Magnetic Tunnel Junction) 素子特性を活用することで... [more] ICD2010-9
pp.47-52
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2009-10-08
13:55
福岡 福岡交通センター [招待講演]スピントルク磁化反転を用いた不揮発RAM(SPRAM)
高橋宏昌伊藤顕知早川 純三浦勝哉山本浩之山ノ内路彦小埜和夫竹村理一郎河原尊之日立)・佐々木龍太郎東北大)・長谷川晴弘東北大/日立)・池田正二東北大)・松岡秀行日立)・大野英男東北大
SPRAM(Spin Transfer Torque MRAM)は、電流によるスピントランスファトルクによってMTJ素子... [more]
SDM, ED
(共催)
2009-06-24
15:00
海外 海雲台グランドホテル(釜山、韓国) Transient characteristic of fabricated Magnetic Tunnel Junction (MTJ) programmed with CMOS circuit
Masashi KamiyanagiFumitaka IgaShoji IkedaTohoku Univ.)・Katsuya MiuraTohoku Univ./Hitachi)・Jun HayakawaHitachi)・Haruhiro HasegawaTakahiro HanyuHideo OhnoTetsuo EndohTohoku Univ.ED2009-52 SDM2009-47
In this paper, it is shown that our fabricated MTJ of 60x180... [more] ED2009-52 SDM2009-47
pp.9-12
SDM, ED
(共催)
2009-06-24
15:15
海外 海雲台グランドホテル(釜山、韓国) Study of the DC Performance of Fabricated Magnetic Tunnel Junction Integrated on Back-end Metal Line of CMOS Circuits
Fumitaka IgaMasashi KamiyanagiShoji IkedaTohoku Univ.)・Katsuya MiuraTohoku Univ./Hitachi)・Jun HayakawaHitachi)・Haruhiro HasegawaTakahiro HanyuHideo OhnoTetsuo EndohTohoku Univ.ED2009-53 SDM2009-48
In this paper, we have succeeded in the fabrication of high ... [more] ED2009-53 SDM2009-48
pp.13-16
MRIS, ITE-MMS
(共催)
2008-12-11
16:50
愛媛 愛媛大学総合情報メディアセンター1F メディアホール [招待講演]垂直磁化方式を用いたスピン注入磁化反転によるMRAMスケーラビリティの展望
中山昌彦甲斐 正相川尚徳小瀬木淳一西山勝哉永瀬俊彦天野 実池川純夫岸 達也與田博明東芝MR2008-44
ギガビット級大容量MRAMを実現するには、小さな情報書き込み電流Icと十分な熱擾乱指数?Eaを両立させることが必要である... [more] MR2008-44
pp.37-41
ICD 2008-04-18
14:20
東京 機械振興会館 半ピッチシフト方式とビット線分離型2T1MTJセルを用いた混載向け250MHz,1Mb-MRAMマクロ
崎村 昇杉林直彦根橋竜介本庄弘明斉藤信作加藤有光笠井直記NECICD2008-13
0.15um、1.5V CMOS技術を用いた1Mbit MRAMマクロにおいて不揮発メモリとして最高速の250MHz動作... [more] ICD2008-13
pp.69-74
ICD 2008-04-18
14:45
東京 機械振興会館 TbCoFe/CoFe垂直磁化膜を用いたMRAM素子におけるスピン注入磁化反転の実証
中山昌彦甲斐 正下村尚治天野 実北川英二永瀬俊彦吉川将寿岸 達也池川純夫與田博明東芝ICD2008-14
ギガビット級大容量MRAMを実現するには、小さな情報書き込み電流と十分な情報不揮発性を両立させることが必要である。垂直磁... [more] ICD2008-14
pp.75-78
ICD 2007-04-12
10:00
大分 大分県・湯布院・七色の風 セルフリファレンスセンスアンプを用いた高密度1T-4MTJ MRAM
村井泰光谷崎弘晃ルネサスデザイン)・辻 高晴大谷 順山口雄一郎古田陽雄上野修一大石 司林越正紀日高秀人ルネサステクノロジICD2007-3
1T-4MTJ(1-Transistor 4-Magnetic Tunnel Junction)という高密度なMRAM(... [more] ICD2007-3
pp.13-16
ICD, SDM
(共催)
2005-08-19
13:00
北海道 函館国際ホテル MTJ抵抗比による電圧センス型1T2MTJ MRAM
青木正樹岩佐 拓佐藤嘉洋富士通研
我々は、1つのトランジスタと2つのMTJ素子(1T2MTJ)を組み合わせて1つのメモリセルとするMRAMの新しい回路方式... [more] SDM2005-150 ICD2005-89
pp.43-48
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