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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM, OME (共催) |
2012-04-27 16:10 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 青色半導体レーザアニールによる薄膜シリコンの結晶状態の制御 ○白井克弥・ムジラネザ ジャン ドュ デュ・鈴木俊治・岡田竜弥・野口 隆（琉球大）・松島英樹・橋本隆夫・荻野義明・佐保田英司（日立コンピュータ機器）  SDM2012-7 OME2012-7 |
[more] | SDM2012-7 OME2012-7 pp.33-36 |
| SDM, OME (共催) |
2012-04-27 16:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 青色半導体レーザアニールによるポリイミド基板上薄膜シリコンの結晶化 ○岡田竜弥・ムジラネザ ジャン ドュ デュ・白井克弥・鈴木俊治・野口 隆（琉球大）・松島英紀・橋本隆夫・荻野義明・佐保田英司（日立コンピュータ機器） SDM2012-8 OME2012-8 |
色半導体レーザを用いて、ポリイミド上に形成した薄膜シリコンの結晶化を試みた。レーザ照射によって表面平坦性を保ったまま結晶... [more] | SDM2012-8 OME2012-8 pp.37-39 |
| SDM, OME (共催) |
2012-04-28 11:50 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 高性能ポリシリコンTFTに向けたスパッタ成膜したリンドープシリコン膜の結晶化 ○西ノ原拓磨・ジャン デデュウ ムジラネザ・白井克弥・鈴木俊治・岡田竜弥・野口 隆（琉球大）・大鉢 忠（同志社大）・松島英紀・橋本隆夫・荻野義明・佐保田英司（日立コンピュータ機器） SDM2012-18 OME2012-18 |
スパッタ条件を工夫して室温で成膜したリンドープシリコン膜に対して, 青色半導体レーザアニーリング（BLDA）による熱処理... [more] | SDM2012-18 OME2012-18 pp.79-82 |
| ED, SDM (共催) |
2010-07-02 10:00 |
東京 | 東工大 大岡山キャンパス | レーザー、熱アニーリング後のドープSi膜の電気的活性化 野口 隆・○鈴木俊治（琉球大） ED2010-85 SDM2010-86 |
ドープしたアモルファスSi膜に対して、RTA、レーザーアニールを施し有効な結晶化を行った。得られた膜の電気的（４探針法、... [more] | ED2010-85 SDM2010-86 pp.149-153 |
| OME, SDM (共催) |
2009-04-24 16:40 |
佐賀 | 産総研九州センター大会議室 | p型Si薄膜の結晶化と電気特性 ○野口 隆・宮平和幸（琉球大）・鈴木俊治（SEN） SDM2009-6 OME2009-6 |
[more] | SDM2009-6 OME2009-6 pp.25-28 |
| SDM, OME (共催) |
2008-04-11 10:35 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ガラス基板上の不純物ドープSi薄膜のアニールによる電気的活性化 ○野口 隆・宮平知幸・川井健司（琉球大）・鈴木俊治・佐藤正輝（SEN） SDM2008-4 OME2008-4 |
高濃度にホウ素やリンをドープしたSi薄膜に対して、紫外光でパルスであるエキシマレーザアニール(ELA)が施され、その導電... [more] | SDM2008-4 OME2008-4 pp.17-22 |
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