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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2012-09-25 15:30 |
東京 | 機械振興会館 | 角度多重型ホログラフィックメモリによる1Tbits/inch2記録 ○石井利樹・保坂 誠・星沢 拓（日立）・田中麻人（三菱化学科学技研センター）  CPM2012-90 |
大容量と高速データ転送とを可能とする角度多重型ホログラフィックメモリは，次世代光ディスクとして有望である．そこで小型化，... [more] | CPM2012-90 pp.25-27 |
| EID, ITE-IDY, IEE-EDD (連催) |
2012-01-27 14:38 |
秋田 | 秋田大学 手形キャンパス | Ba3Si6O12N2:Eu2+蛍光体の2波長励起フォトルミネッセンス評価 ○石岡 亮・五十嵐航平・福田武司（埼玉大）・下村康夫（三菱化学）・鎌田憲彦（埼玉大） EID2011-19 |
高効率、高信頼な蛍光体材料の探索が続けられている．ピーク波長525nmで，250nmから450nm付近での励起が可能なB... [more] | EID2011-19 pp.21-24 |
| EID, ITE-IDY, IEE-EDD, IEIJ-SSL (連催) |
2011-01-28 13:45 |
高知 | 高知工科大学 研究教育棟B | Ba3Si6012N2:Eu2+蛍光体のフォト－及び熱ルミネッセンス評価 ○石岡 亮・五十嵐航平・福田武司（埼玉大）・木島直人（三菱化学）・鎌田憲彦（埼玉大） EID2010-28 |
白色LEDでの緑色発光源として有望なBa3Si6O12N2:Eu2+蛍光体に対して，内部量子効率，フォトルミネッセンス（... [more] | EID2010-28 pp.25-28 |
| ED | 2009-04-23 16:10 |
宮城 | 東北大学電気通信研究所 | ［招待講演］塗布型有機半導体材料の開発 ○大野 玲（三菱化学科学技研センター） ED2009-6 |
塗布型有機半導体は、大面積化・低コスト化技術としての利点を持つ。我々は、堅牢な骨格を持った顔料系低分子(ベンゾポルフィリ... [more] | ED2009-6 pp.23-28 |
| LQE, ED, CPM (共催) |
2008-11-27 10:55 |
愛知 | 名古屋工業大学 | ZnO基板上への非極性面III族窒化物半導体の成長と評価 ○小林 篤・上野耕平・下元一馬・太田実雄（東大）・藤岡 洋・尾嶋正治（東大/JST）・天内英貴・長尾 哲・堀江秀善（三菱化学） ED2008-155 CPM2008-104 LQE2008-99 |
これまで格子整合性が低い異種基板上へのヘテロエピタキシャル成長を余儀なくされ，十分な結晶品質が得られなかった非極性面?族... [more] | ED2008-155 CPM2008-104 LQE2008-99 pp.17-20 |
| EMD | 2006-12-15 14:40 |
東京 | 機械振興会館 | 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂 ○堀口嵩浩・藤田静雄（京大）・山雄健史・堀田 収（京都工繊大）・神原浩久・栗原 隆（NTT）・藤野正家（群馬高専）・長田裕也・中條善樹（京大）・秋山誠治・竹ノ内久美子・前田修一（三菱化学） |
[more] | EMD2006-60 pp.15-19 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 11:10 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性 ○山雄健史・堀田 収（京都工繊大）・堀口嵩浩・藤田静雄（京大）・神原浩久・森 裕平・栗原 隆（NTT）・藤野正家（群馬高専）・長田裕也・中條善樹（京大）・秋山誠治・竹ノ内久美子・前田修一（三菱化学科学技研センター） |
二光子吸収型3次元光メモリ材料への応用を目指し、二光子吸収過程により分子の結合断裂を生じる有機ホウ素化合物材料を用いて、... [more] | EMD2006-39 CPM2006-69 OPE2006-81 LQE2006-46 pp.75-79 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 11:35 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山爲次郎（京大） |
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] | EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47 pp.81-86 |
| CPM, EMD, OME (共催) |
2006-06-30 14:00 |
東京 | 機械振興会館 | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体 ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山為次郎（京大） |
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] | EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43 pp.23-27 |
| CPM, EMD, OME (共催) |
2006-06-30 14:50 |
東京 | 機械振興会館 | 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性 ○堀口嵩浩・藤田静雄（京大）・山雄健史・堀田 収（京都工繊大）・神原浩久・栗原 隆・中野秀俊・森 裕平（NTT）・大須賀篤弘・長田裕也・中條善樹（京大）・秋山誠治・前田修一（三菱化学） |
大容量 3次元光メモリの実現のため，高効率二光子吸収(TPA)材料に期待が集まっている．今回，大環 状分子であるポルフ... [more] |
EMD2006-11 CPM2006-35 OME2006-45 pp.33-38 |
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