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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2022-01-31
14:15
ONLINE オンライン開催 [招待講演]高速荷電中心解析によるチャージトラップのダイナミクス把握に基づくHfO2-FeFETサイクル劣化メカニズム解明
市原玲華キオクシアSDM2021-70
HfO2-FeFETで生じる様々な種類のチャージトラップのサイクル過程における挙動を、高速電流計測に基づく荷電中心解析に... [more] SDM2021-70
pp.9-11
SDM 2014-11-06
14:40
東京 機械振興会館 [招待講演]電荷蓄積型メモリーのモデリング・シミュレーションと信頼性課題
石原貴光安田直樹藤井章輔東芝SDM2014-102
電荷蓄積層の欠陥準位への電子捕獲を利用した電荷蓄積型メモリーは、有力な次世代メモリー候補である.その動作機構は複雑であり... [more] SDM2014-102
pp.37-42
SDM 2014-06-19
13:45
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 第一原理計算を用いたSi-rich SiO2への水素・窒素原子の混入による影響の原子論的考察
白川裕規山口慶太筑波大)・神谷克政神奈川工科大)・白石賢二名大SDM2014-52
MONOS (Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Semiconductor ) 型メモリは、堅牢な電荷... [more] SDM2014-52
pp.49-53
ED, SDM
(共催)
2010-06-30
14:55
東京 東工大 大岡山キャンパス The Impact of H2 Anneal on Resistive Switching in Pt/TiO2/Pt Structure
Guobin WeiYuta GotoAkio OhtaKatsunori MakiharaHideki MurakamiSeiichiro HigashiSeiichi MiyazakiHiroshima Univ.ED2010-57 SDM2010-58
 [more] ED2010-57 SDM2010-58
pp.31-36
OME 2008-12-11
14:30
東京 機械振興会館 有機EL現象を用いた交流電界下でのキャリア注入過程の評価と解析
大嶋優記金 英輝間中孝彰岩本光正東工大OME2008-79
交流電界下での有機ELメカニズムを明らかにするため、OFETからのEL観測を行った。テトラセンFETに対して矩形波の交流... [more] OME2008-79
pp.19-24
SDM, ED
(共催)
2008-07-10
09:15
北海道 かでる2・7(札幌) Simulation of Retention Characteristics in Double-Gate Structure Multi-bit SONOS Flash Memories
Doo-Hyun KimIl Han ParkByung-Gook ParkSeoul National Univ.ED2008-55 SDM2008-74
This paper presents a detailed study of the retention charac... [more] ED2008-55 SDM2008-74
pp.81-84
SDM 2006-06-21
14:30
広島 広島大学, 学士会館 La2O3-Al2O3複合膜における定電圧ストレス印加時の局所的な電荷捕獲とその放出過程
佐合寿文世古明義坂下満男酒井 朗小川正毅財満鎭明名大
高誘電率ゲート絶縁膜として期待されているLa2O3-Al2O3複合膜に着目し、定電圧ストレス印加中の局所リーク電流を電流... [more] SDM2006-45
pp.19-24
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