電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 107, Number 295

VLSI設計技術

開催日 2007-10-30 / 発行日 2007-10-23

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目次

VLD2007-50
周期的な不純物原子配列を有する半導体の電気伝導シミュレーション
○照沼知英・渡邉孝信・品田賢宏(早大)・鎌倉良成・谷口研二(阪大)・大泊 巌(早大)
pp. 1 - 4

VLD2007-51
量子補正モンテカルロシミュレーションによる非Si材料nチャネルMOSFETの電流駆動力評価
○森 隆志・東 祐介・土屋英昭(神戸大)
pp. 5 - 10

VLD2007-52
粗視化手法を用いた極微細MOSFETの量子輸送シミュレーション
ミリニコフ ゲナディ・○森 伸也・鎌倉良成(阪大)・江崎達也(広島大)
pp. 11 - 14

VLD2007-53
極微細マルチゲートデバイスにおける面方位依存性の検討
○三成英樹・西谷大祐・森 伸也(阪大)
pp. 15 - 18

VLD2007-54
[招待講演]パワー半導体でのデバイスシミュレーション技術について
○大村一郎(東芝)
pp. 19 - 22

VLD2007-55
相変化メモリのリセット特性のモデリング
○酒井 敦・園田賢一郎・茂庭昌弘・石川清志・土屋 修・井上靖朗(ルネサステクノロジ)
pp. 23 - 26

VLD2007-56
シミュレーションを用いた微小MOSFETにおける寄生抵抗の解析および抽出方法の検討
○辻井秀二・外園 明・藤原 実・川中 繁・東 篤志・青木伸俊・豊島義明(東芝)
pp. 27 - 32

VLD2007-57
<110>チャネルnMOS移動度のストレスライナー膜による影響
○高篠裕行・岡垣 健・内田哲也・林 岳・谷沢元昭・佃 栄次・永久克己・若原祥史・石川清志・土屋 修・井上靖朗(ルネサステクノロジ)
pp. 33 - 36

VLD2007-58
Ge-pMOSFETにおける正孔輸送特性の歪み依存性解析
○竹田 裕(NEC)・池澤健夫・河田道人(NEC情報システムズ)・羽根正巳(NEC)
pp. 37 - 41

VLD2007-59
65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証
○佃 栄次(ルネサステクノロジ)・鎌倉良成(阪大)・高篠裕行・岡垣 健・内田哲也・林 岳・谷沢元昭・永久克己・若原祥史・石川清志・土屋 修・井上靖朗(ルネサステクノロジ)・谷口研二(阪大)
pp. 43 - 46

今後、次の点を修正する予定です。(1)欠けている表紙画像・奥付画像を補完いたします。(2)欠けている発行日の情報を補完いたします。

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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