Online edition: ISSN 2432-6380
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CPM2026-10
マグネトロンスパッタリングにより作製した炭化ホウ素/n型シリコンヘテロ構造の電気的特性
○秋元壱畝利・猫島徳人・鈴木裕史・小林康之・中澤日出樹（弘前大）
pp. 1 - 4
CPM2026-11
ECRスパッタ法で作製したMoOx/Siヘテロ接合界面のコンダクタンス法及びCole-Coleプロットによる評価
○三浦颯太・今井楓大・渡邊良祐（弘前大）
pp. 5 - 8
CPM2026-12
アニールによるサファイア基板上Cu(111)薄膜の平坦性制御
○菅原有紡・中澤日出樹・小林康之（弘前大）
pp. 9 - 12
CPM2026-13
サファイア基板上Ni（111）薄膜の結晶性に及ばす成長速度の影響
○甲田希夢・伊藤透真・中澤日出樹・小林康之（弘前大）
pp. 13 - 16
CPM2026-14
低温作製されたZrNx膜上におけるCu膜の配向性
○佐藤 勝・武山真弓（北見工大）
pp. 17 - 18
CPM2026-15
歯科材料における添加フィラーの効果
○武山真弓（北見工大/東京科学大）・平沼克己（東京科学大学）・佐藤 勝（北見工大）
pp. 19 - 20
CPM2026-16
プラズマCVD法によるSiおよびN添加DLC膜特性に及ぼす基板バイアス効果
○竹村凜太朗・細川彩萌・伊東翔太・鈴木裕史・遠田義晴・小林康之・中澤日出樹（弘前大）
pp. 21 - 24
CPM2026-17
ホログラフィック偏光ビームスプリッターの作製条件および回折特性評価
○加藤泰輝・鈴木風雅（豊橋技科大）・加瀬澤寿宏（エガリム）・堀米秀嘉（HOLOMEDIA）・中村雄一（豊橋技科大）
pp. 25 - 28
CPM2026-18
大気圧化学気相堆積法によって成長した酸化物半導体ナノワイヤーを用いたUV光検出器の作製
○寺迫智昭・堀内理央・山田知哉（愛媛大）・矢木正和（香川高専）
pp. 29 - 32
CPM2026-19
亜酸化窒素ガスによるSiC(0001)表面酸窒化における気相熱励起効果
○伊東翔太・向野 楓・遠田義晴（弘前大）
pp. 33 - 36
CPM2026-20
テトラメチルシランを原料として用いたプラズマ化学気相堆積過程の赤外分光計測
○篠原正典・岩田晃拓（福岡大）・宮澤 諒・廣瀬文彦（山形大）
pp. 37 - 40
注： 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり，推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります．