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集積回路研究会 (ICD)  (検索条件: 2008年度)

「from:2008-04-17 to:2008-04-17」による検索結果

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講演検索結果
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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ICD 2008-04-17
09:25
東京 機械振興会館 [招待講演]非対称ユニットβレシオセルを用いた0.7V,1GHz動作45nm SRAMマクロ
佐々木貴彦川澄 篤矢部友章武山泰久平林 修櫛田桂一東芝)・東畑晃史東芝マイクロエレクトロニクス)・片山 明深野 剛藤村勇樹大塚伸朗東芝ICD2008-1
$0.7V$単一電源により$1GHz$動作する$64kB$SRAMマクロを開発した [1] 。$45nm$テクノロジーを... [more] ICD2008-1
pp.1-6
ICD 2008-04-17
10:15
東京 機械振興会館 [招待講演]NMOSおよびPMOSの基板バイアスを個別制御した65nm SRAM
山岡雅直日立)・前田徳章島崎靖久ルネサステクノロジ)・長田健一日立ICD2008-2
NMOSとPMOSの基板バイアスを個別制御するSRAMモジュールを提案した。このSRAMモジュールでは、メモリセルのリー... [more] ICD2008-2
pp.7-12
ICD 2008-04-17
11:15
東京 機械振興会館 [招待講演]833MHz周波数動作グラフィックス用途向け疑似2ポートeDRAM
加来真理子岩井 斎永井 健和田政春鈴木 淳高井智久糸賀尚子宮崎隆行岩井隆之東芝)・竹中博幸東芝マイクロエレクトロニクス)・北城岳彦宮野信治大塚伸朗東芝ICD2008-3
本報告書で紹介するeDRAMはグラフィックス用途向けに開発された疑似2ポートeDRAMである。リードライトクロスポイント... [more] ICD2008-3
pp.13-18
ICD 2008-04-17
13:05
東京 機械振興会館 [招待講演]コンシューマエレクトロニクス向け混載DRAM技術
白井浩樹石川亮佑伊藤雄一北村卓也竹内麻美佐甲 隆井上 顕川崎 澄勝木信幸星崎博之桑原愼一夏目秀隆坂尾眞人谷川高穂NECエレクトロニクスICD2008-4
コンシューマエレクトロニクス向け混載DRAM デバイス技術について報告する。我々は150nm 世代より低消費電力かつ高速... [more] ICD2008-4
pp.19-24
ICD 2008-04-17
13:55
東京 機械振興会館 43nmCMOS技術を用いた120mm2 16Gb多値NANDフラッシュメモリの開発
中村 大神田和重小柳 勝山村俊雄細野浩司吉原正浩東芝)・三輪 達加藤洋介サンディスク)・Alex MakSiu Lung ChanFrank TsaiRaul CerneaBinh Leサンディスクコーポレーション)・牧野英一平 隆志東芝ICD2008-5
43nm CMOS テクノロジを用いた16 ギガビット4 値NAND フラッシュメモリを開発した.66NANDと新規コン... [more] ICD2008-5
pp.25-30
ICD 2008-04-17
14:20
東京 機械振興会館 [招待講演]SSD動向とNANDフラッシュメモリ
竹内 健東大ICD2008-6
NANDフラッシュメモリのコストが劇的に低下したことにより、NANDフラッシュメモリをPCのストレージとして使うSSD(... [more] ICD2008-6
pp.31-36
ICD 2008-04-17
15:20
東京 機械振興会館 [パネル討論]大容量フラッシュメモリの可能性を探る ~ 進行するフラッシュ革命のインパクト ~
梶谷一彦エルピーダメモリ)・篠崎直治Spansion)・柿原俊男日立グローバルストレージテクノロジーズ)・神田和重東芝)・小林三千夫Spansion)・佐圓 真日立)・杉林直彦NEC)・竹内 健東大)・塚澤寿夫東芝ICD2008-7
今やフラッシュメモリはDRAMに代わって半導体微細加工技術を牽引し、その結果得られたビットコストの低減と、大規模な投資に... [more] ICD2008-7
pp.37-38
ICD 2008-04-18
10:00
東京 機械振興会館 2ポートアンチヒューズセルを格子状に配置した65nm Pure CMOSプロセスで搭載可能なOne-time Programmableメモリ
松藤謙介行川敏正中野浩明伊藤 洋和田 修大塚伸朗東芝ICD2008-8
アンチヒューズを用いたPure CMOSプロセスで搭載可能なOne-time Programmable(PCOP)メモリ... [more] ICD2008-8
pp.39-44
ICD 2008-04-18
10:25
東京 機械振興会館 [招待講演]自動車用MCU対応8kB EEPROMエミュレーションデータフラッシュモジュールと混載フラッシュの動向
河井伸治細金 明久家重博阿部俊広橋本康平大石 司辻 直樹榊原清彦野口健二ルネサステクノロジICD2008-9
この論文は、メモリセルとして2つの独立したチャンネルを持つDual-channel NOR-type flash mem... [more] ICD2008-9
pp.45-50
ICD 2008-04-18
11:15
東京 機械振興会館 [招待講演]電子システムの環境中性子線起因のエラーの現状と対策 ~ マルチノードアップセット問題の対応 ~
伊部英史日立ICD2008-10
地上における民生用半導体デバイスのソフトエラーの主因として環境中性子線の影響が2000年前後から顕在化しはじめ、各種の問... [more] ICD2008-10
pp.51-56
ICD 2008-04-18
13:05
東京 機械振興会館 [招待講演]二重トンネル接合層を用いた15nmプラナーバルクSONOS型メモリー素子
大場竜二三谷祐一郎杉山直治藤田 忍東芝ICD2008-11
ナノメートルスケールのSi微小結晶を、薄いトンネル酸化膜で挟んだ二重接合構造を、浮遊ゲート型メモリ素子のトンネル膜に応用... [more] ICD2008-11
pp.57-62
ICD 2008-04-18
13:55
東京 機械振興会館 共有書き込みトランジスタセルとリーク電流複製読み出し方式を用いた4-Mb MRAMマクロ
根橋竜介崎村 昇杉林直彦本庄弘明齊藤信作加藤有光笠井直記NECICD2008-12
我々は、面積効率が高い混載向けMRAMマクロを提案する。このマクロに導入された、2T1MTJ-MRAMセル技術に基づく共... [more] ICD2008-12
pp.63-68
ICD 2008-04-18
14:20
東京 機械振興会館 半ピッチシフト方式とビット線分離型2T1MTJセルを用いた混載向け250MHz,1Mb-MRAMマクロ
崎村 昇杉林直彦根橋竜介本庄弘明斉藤信作加藤有光笠井直記NECICD2008-13
0.15um、1.5V CMOS技術を用いた1Mbit MRAMマクロにおいて不揮発メモリとして最高速の250MHz動作... [more] ICD2008-13
pp.69-74
ICD 2008-04-18
14:45
東京 機械振興会館 TbCoFe/CoFe垂直磁化膜を用いたMRAM素子におけるスピン注入磁化反転の実証
中山昌彦甲斐 正下村尚治天野 実北川英二永瀬俊彦吉川将寿岸 達也池川純夫與田博明東芝ICD2008-14
ギガビット級大容量MRAMを実現するには、小さな情報書き込み電流と十分な情報不揮発性を両立させることが必要である。垂直磁... [more] ICD2008-14
pp.75-78
ICD 2008-04-18
15:20
東京 機械振興会館 [招待講演]二元系酸化物RRAM特性の電極材料依存性
玉井幸夫シャープ)・島 久秋永広幸産総研)・細井康成大西茂夫粟屋信義シャープICD2008-15
Ta/CoO/Pt構造のRRAMにて、20ns高速スイッチング、100$\mu$A程度の低リセット電流および良好な書換え... [more] ICD2008-15
pp.79-82
ICD 2008-04-18
16:10
東京 機械振興会館 先端不揮発性メモリの将来展望とそのBiCS型積層化に関する基礎検討 ~ FeRAMのBiCS型積層化に関する基礎検討 ~
渡辺重佳湘南工科大ICD2008-16
 [more] ICD2008-16
pp.83-88
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