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シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) (検索条件: 2019年度)
「from:2020-02-07 to:2020-02-07」による検索結果
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2020-02-07 09:20 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | BTA-H2O2溶液中Cu, Co表面の保護膜形成に関する考察 ○近藤英一・遠山真央・竹内翔太・金 蓮花（山梨大）・小篠涼太・濱田聡美・島 昇平・檜山浩國（荏原製作所）  SDM2019-88 |
[more] | SDM2019-88 pp.1-3 |
| SDM | 2020-02-07 09:35 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］強誘電体Hf0.5Zr0.5O2膜中へ単層Si挿入により均一埋設したAlナノクラスタが強誘電体トランジスタの閾値電圧ばらつきに与える効果 ○山口 直・前川径一・大原隆裕・天羽生 淳・佃 栄次・園田賢一郎・柳田博史・井上真雄・松浦正純・山下朋弘（ルネサス エレクトロニクス） SDM2019-89 |
[more] | SDM2019-89 pp.5-8 |
| SDM | 2020-02-07 10:10 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］CMP後洗浄後の銅配線表面の安定性 ○河瀬康弘・柴田俊明・草野智博（三菱ケミカル）・原田 憲（imec）・竹下 寛（三菱ケミカル） SDM2019-90 |
現在、最先端の半導体デバイスにおいては12層以上の銅配線が形成されており、各層毎に銅めっき膜形成とCMP（Chemica... [more] | SDM2019-90 pp.9-14 |
| SDM | 2020-02-07 10:45 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］Role of electroless-Ni plating in high-aspect-ratio TSV fabrication for 3D integration and packaging ○Murugesan Mariappan・Takafumi Fukushima（Tohoku Univ.） SDM2019-91 |
[more] | SDM2019-91 pp.15-19 |
| SDM | 2020-02-07 11:20 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］高精度デュアルダマシン加工技術 藤川 誠・山口達也（TTS）・菊地裕樹・前川 薫（TEL Technology Center, America）・河崎洋章・○飯塚洋二（東京エレクトロン） SDM2019-92 |
Abstract— Plasma induced damage on porous low-k dielectrics ... [more] | SDM2019-92 pp.21-23 |
| SDM | 2020-02-07 13:30 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［特別招待講演］極微細配線の課題解決に向けた金属間化合物の可能性 ○小池淳一・チェン リンハン（東北大）・横川慎二（電通大） SDM2019-93 |
[more] | SDM2019-93 p.25 |
| SDM | 2020-02-07 14:20 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］真空紫外光を用いた印刷・めっきによる配線技術 ○三成剛生・李 万里・孫 晴晴・李 玲頴（物質・材料研究機構）・リュウ シューイン（鄭州大）・金原正幸（C-INK） SDM2019-94 |
高精細なプリンテッドエレクトロニクス技術と、選択的無電解めっき技術を紹介します。 [more] | SDM2019-94 pp.27-30 |
| SDM | 2020-02-07 14:55 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］異種デバイスの高密度実装用極薄接合材料 ○茅場靖剛・中村雄三・鎌田 潤・河関孝志・高村一夫（三井化学） SDM2019-95 |
Cu-Cu接合を用いた異種デバイス実装用の新規極薄接合材料の開発を行った。本接合材料は熱硬化後にSiO2、SiN、SiC... [more] | SDM2019-95 pp.31-34 |
| SDM | 2020-02-07 15:50 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］シリコンナノワイヤ熱電発電デバイスにおける金属/絶縁膜の界面熱抵抗 ○ジャン天卓（早大） SDM2019-96 |
[more] | SDM2019-96 pp.35-38 |
| SDM | 2020-02-07 16:25 |
東京 | 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室（419号室) | ［招待講演］裏面照射型CMOSイメージセンサにおける光学機能拡張 ○横川創造（ソニーセミコンダクタソリューションズ） SDM2019-97 |
裏面照射型CMOSイメージセンサにおいて波長程度もしくはサブ波長サイズスケールの構造体により光学視点で機能拡張する事例が... [more] | SDM2019-97 pp.39-43 |
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