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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ED, SDM (共催) |
2018-02-28 16:15 |
北海道 | 北海道大学百年記念会館 | イジングマシンでの実験パラメータ探索と最適化によるAu原子接合の量子化コンダクタンス制御 ○酒井正太郎・岩田侑馬・塩村真幸・木原裕介・白樫淳一（東京農工大）  ED2017-113 SDM2017-113 |
社会システムが大規模化，複雑化するにつれ，その解析や最適化が重要な課題となっている．これらの課題の多くは，組合せ最適化問... [more] | ED2017-113 SDM2017-113 pp.39-43 |
| ED, SDM (共催) |
2018-02-28 16:40 |
北海道 | 北海道大学百年記念会館 | 人工知能により支援されたAu原子接合の作製と量子状態の観測 ○岩田侑馬・酒井正太郎・沼倉憲彬・白樫淳一（東京農工大） ED2017-114 SDM2017-114 |
原子接合を作製する手法の1つとして，フィードバック制御型エレクトロマイグレーション(FCE)法が知られている．この手法で... [more] | ED2017-114 SDM2017-114 pp.45-50 |
| ED, SDM (共催) |
2014-02-28 10:50 |
北海道 | 北海道大学百年記念会館 | リアルタイムOSによる時間確定型エレクトロマイグレーション制御システム ○安藤昌澄・金丸祐真・齋藤孝成・白樫淳一（東京農工大） ED2013-146 SDM2013-161 |
金属細線におけるエレクトロマイグレーション(EM)を利用したナノギャップなどのナノ構造形成技法として，EMの発現強度をフ... [more] | ED2013-146 SDM2013-161 pp.77-82 |
| ED, SDM (共催) |
2014-02-28 11:15 |
北海道 | 北海道大学百年記念会館 | FPGAを用いた超高速フィードバック制御型エレクトロマイグレーション ○金丸祐真・安藤昌澄・齋藤孝成・白樫淳一（東京農工大） ED2013-147 SDM2013-162 |
エレクトロマイグレーション(EM)を利用したナノギャップ電極の作製手法として,フィードバック制御型エレクトロマイグレーシ... [more] | ED2013-147 SDM2013-162 pp.83-87 |
| ED, SDM (共催) |
2014-02-28 12:05 |
北海道 | 北海道大学百年記念会館 | ナノギャップでの原子のマイグレーション現象により作製したNi系ナノスケールデバイス ○須田隆太郎・伊藤光樹・森原康平・豊中貴大・滝川主喜・白樫淳一（東京農工大） ED2013-149 SDM2013-164 |
ナノギャップに発現するエレクトロマイグレーション現象を利用することで，強磁性単電子トランジスタ（Ferromagneti... [more] | ED2013-149 SDM2013-164 pp.95-100 |
| ED, SDM (共催) |
2012-02-08 09:55 |
北海道 | 北海道大学 百年記念会館 | 電界放射電流誘起型エレクトロマイグレーション法を用いた直列型ナノギャップの集積化と特性制御 ○伊藤光樹・秋元俊介・白樫淳一（東京農工大） ED2011-151 SDM2011-168 |
我々は，直列に接続された複数のナノギャップに対して，電界放射電流誘起型エレクトロマイグレーション（アクティベーション）を... [more] | ED2011-151 SDM2011-168 pp.53-58 |
| SDM | 2011-02-07 12:40 |
東京 | 機械振興会館 | CuSiN/Cu/Ti系バリア構造におけるCu表面酸化層のEM信頼性へ与える影響 ○林 裕美・松永範昭・和田 真・中尾慎一・渡邉 桂・加藤 賢・坂田敦子・梶田明広・柴田英毅（東芝） SDM2010-219 |
CuSiNにはエレクトロマイグレーション(EM)改善効果と配線抵抗の上昇がトレードオフになってしまうという問題があるが、... [more] | SDM2010-219 pp.19-23 |
| SDM | 2011-02-07 14:10 |
東京 | 機械振興会館 | 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線 ○佐藤元伸（富士通/JST/産総研）・小川修一（東北大/JST）・池永英司（高輝度光科学研究センター/JST）・高桑雄二（東北大/JST）・二瓶瑞久（富士通/JST/産総研）・横山直樹（産総研） SDM2010-222 |
Cuに代わる新たなLSI配線材料として、多層グラフェンを検討している。多層グラフェンはCuより低い抵抗率、高い熱伝導率、... [more] | SDM2010-222 pp.37-42 |
| ED, SDM (共催) |
2010-02-22 15:40 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 電界放射電流誘起型エレクトロマイグレーションによる単電子トランジスタの集積化 ○上野俊介・友田悠介・久米 彌・花田道庸・滝谷和聡・白樫淳一（東京農工大） ED2009-202 SDM2009-199 |
プレナー型ナノスケールトンネルデバイスの簡便な作製手法である，電界放射電流によって誘起・発現されるエレクトロマイグレーシ... [more] | ED2009-202 SDM2009-199 pp.35-39 |
| SDM | 2010-02-05 13:30 |
東京 | 機械振興会館 | CuAl合金配線を適用した32nmノード対応高信頼性配線技術の開発 ○井口 学・横川慎二・相澤宏一・角原由美・土屋秀昭・岡田紀雄・今井清隆・戸原誠人・藤井邦宏（NECエレクトロニクス）・渡部忠兆（東芝） SDM2009-186 |
CuAl合金シードプロセスを低誘電率層間膜（k=2.4）と低誘電率積層バリア膜（k=3.9）を用いた32nmノード配線構... [more] | SDM2009-186 pp.25-29 |
| SDM | 2010-02-05 14:00 |
東京 | 機械振興会館 | 低抵抗・高信頼Cu配線のためのシリサイドキャップ技術 ○林 裕美・松永範昭・和田 真・中尾慎一・坂田敦子・渡邉 桂・柴田英毅（東芝） SDM2009-187 |
Cu配線におけるシリサイドキャップはエレクトロマイグレーション(EM)信頼性を高める選択キャップ技術として有望であるが、... [more] | SDM2009-187 pp.31-36 |
| SDM, ED (共催) |
2009-02-27 09:00 |
北海道 | 北海道大学 | 電界放射電流誘起型エレクトロマイグレーション法による単電子トランジスタの作製 ○友田悠介・久米 彌・花田道庸・高橋佳祐・白樫淳一（東京農工大） ED2008-232 SDM2008-224 |
単電子トランジスタに代表されるナノスケールデバイスの作製技術として、エレクトロマイグレーションを利用した簡便な手法を提案... [more] | ED2008-232 SDM2008-224 pp.47-52 |
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