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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EE, IEE-SPC
(併催)
2021-03-01
16:10
ONLINE オンライン開催 電磁界・熱連成解析手法の確立と車載高電力密度DC-DCコンバータ設計への適用
吉川薫平箱田康徳宮近峻匡新電元)・村田雅昭新電元熊本テクノリサーチ)・鈴木健一新電元EE2020-43
GaNトランジスタを搭載した高電力密度車載DC – DCコンバータについて報告する。電源の小型化実現には回路設計と構造設... [more] EE2020-43
pp.19-24
VLD, CAS, MSS, SIP
(共催)
2016-06-17
15:30
青森 弘前市立観光館 三次元集積回路の熱解析
古見 薫今井 雅新岡七奈子黒川 敦弘前大CAS2016-32 VLD2016-38 SIP2016-66 MSS2016-32
三次元集積回路は複数チップを積層することから,薄い平面の1チップ集積回路に比べて放熱がしにくく,チップの温度が上昇してし... [more] CAS2016-32 VLD2016-38 SIP2016-66 MSS2016-32
pp.173-178
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(連催)
ICD, CPM
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2015-12-03
11:15
長崎 長崎県勤労福祉会館 LSI基板パッケージの3次元伝熱シミュレータの構築と評価
渡邊聖剛大村 崇北川友貴林 磊孟 林福井正博立命館大VLD2015-64 DC2015-60
熱設計を行う解決策に熱解析シミュレーションがあるが,計算量が膨大となる.本研究では3次元での熱分布を考慮し, GPUを用... [more] VLD2015-64 DC2015-60
pp.171-176
SDM 2015-06-19
15:50
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー Fully compatible resistive random access memory with amorphous InGaZnO based thin film transistor fabrication process
Keisuke KadoMutsunori UenumaKyouhei NabesakaKriti SharmaHaruka YamazakiSatoshi UrakawaMami FujiiYasuaki IshikawaYukiharu UraokaNAISTSDM2015-52
酸化物薄膜トランジスタ (TFT) は低オフリークで高性能であるため,ディスプレイの駆動チャネル材料として有望であり,同... [more] SDM2015-52
pp.75-80
EMCJ, IEE-EMC
(連催)
2014-12-19
11:40
静岡 静岡大学 遠方界ばく露による成人女性および幼児の体温上昇解析の高精度化
浅野陽平ラークソ イルッカ平田晃正名工大EMCJ2014-79
近年,無線通信技術が発展,普及するなか,電波の人体に与える影響に関心が高まっており,マイクロ波ばく露では電力吸収に伴う温... [more] EMCJ2014-79
pp.31-35
CAS, SIP, MSS, VLD, SIS
(共催) [詳細]
2014-07-10
13:30
北海道 北海道大学 熱解析におけるLatency Insertion Method (LIM)と緩和法の比較
坂本和基關根惟敏浅井秀樹静岡大CAS2014-28 VLD2014-37 SIP2014-49 MSS2014-28 SIS2014-28
本稿では,等価回路を用いた熱解析におけるLatency Insertion Method (LIM)と緩和法の有効性につ... [more] CAS2014-28 VLD2014-37 SIP2014-49 MSS2014-28 SIS2014-28
pp.147-152
SDM 2013-12-13
09:00
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 パルス電圧ストレス下における酸化物TFTの発熱劣化解析
木瀬香保利奈良先端大)・苫井重和出光興産)・上岡義弘山崎はるか浦川 哲奈良先端大)・矢野公規出光興産)・Dapeng Wang古田 守高知工科大)・堀田昌宏石河泰明浦岡行治奈良先端大SDM2013-116
近年,a-InGaZnOに代表される高移動度の透明アモルファス酸化物半導体(TAOS)が報告され,薄膜トランジスタのチャ... [more] SDM2013-116
pp.1-5
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(連催)
ICD, CPM
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2013-11-28
10:55
鹿児島 鹿児島県文化センター GPGPUを用いたVLSIチップ熱解析の一手法
大村 崇林 磊孟 林福井正博立命館大VLD2013-89 DC2013-55
VLSI回路の発熱は性能や信頼性の低下に影響を及ぼすため,熱解析が重要である.そのため,熱解析シミュレーションが用いられ... [more] VLD2013-89 DC2013-55
pp.209-214
EMD 2012-10-19
14:25
東京 富士電機機器制御 本社7F第一第二会議室 抵抗溶接CAEを用いた電気接点の熱解析 ~ (1)モデリングと加熱条件 ~
高見幸二土田 誠オムロンEMD2012-61
パワーリレーにおいて,接点径を小さくすると電気的耐久性が低下するという経験則がある.定常熱伝導解析では熱伝導率・比熱・密... [more] EMD2012-61
pp.7-12
EMD 2010-12-17
13:50
東京 玉川大学 非対称な電気接点対の寿命と信頼性に関する一検討
宮永和明萓野良樹井上 浩秋田大EMD2010-131
高信頼で長寿命な電気接点を開発するためには,アークなどの現象に対する熱的な作用を検討することが必要となる.実際の電磁リレ... [more] EMD2010-131
pp.11-16
EMCJ, EMD
(共催)
2007-07-27
15:00
東京 機械振興会館 低速度開離接点の熱解析(その1) ~ 電極の温度上昇に及ぼすホルダー構造の影響 ~
宮永和明萓野良樹井上 浩秋田大EMCJ2007-39 EMD2007-25
電気接点開離時にはブリッジとアーク放電が発生し温度上昇の原因となる.このときホルダーの構造によって電極温度は影響を受ける... [more] EMCJ2007-39 EMD2007-25
pp.41-46
SIP, ICD, IE, IPSJ-SLDM
(共催)
2005-10-21
09:40
宮城 作並温泉一の坊 マイクロプロセッサの熱解析に関する研究
長谷川直之伊藤睦夫江川隆輔鈴木健一中村維男東北大
近年の半導体加工技術の進歩と新しいマイクロアーキテクチャにより、マイクロプロセッサの性能は劇的に向上している。しかし、そ... [more] SIP2005-117 ICD2005-136 IE2005-81
pp.13-18
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