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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM, EID (共催) |
2017-12-22 14:45 |
京都 | 京都大学 | シリコン基板上に形成した強誘電体厚膜におよぼすプロトンビーム照射の影響 ○平出 惇・山口正樹（芝浦工大）・増田陽一郎（八戸工大）  EID2017-22 SDM2017-83 |
シリコン基板上に堆積した強誘電体薄膜は，不揮発性メモリ，フォトニック結晶，圧電MEMSなどへの応用が期待されている．しか... [more] | EID2017-22 SDM2017-83 pp.57-62 |
| MI | 2016-01-19 13:20 |
沖縄 | 那覇市ぶんかテンブス館 | 陽子線スキャニング線量分布高速最適化法の開発 ○佐野 碧（みずほ情報総研）・西尾禎治（広島大）・水谷麻紀子・永田 毅・前川秀正（みずほ情報総研）・齋藤明登（広島大病院）・株木重人（東海大）・永田 靖（広島大） MI2015-91 |
陽子線スキャニング照射治療における腫瘍及び重要臓器に対する線量分布の最適化は，計算量が膨大であり処理に時間を要する．本研... [more] | MI2015-91 pp.87-91 |
| MSS, CAS (共催) IPSJ-AL (連催) [詳細] |
2015-11-20 13:55 |
鹿児島 | 指宿市民会館 大会議室 | 強度変調陽子線治療への二次配置手法の応用 ○高島康裕（北九州市大）・水谷昌平（筑波大）・堀田健二・河野良介（国立がん研究センター東病院）・中村祐一（NEC） CAS2015-49 MSS2015-23 |
本稿では，強度変調陽子線治療(IMPT)法に対する二次配置手法の適用を紹介する．IMPT法は，がん治療における有望な手法... [more] | CAS2015-49 MSS2015-23 pp.31-34 |
| MWP, EMT, PN, LQE, OPE, EST (共催) IEE-EMT (連催) [詳細] |
2014-01-24 09:25 |
京都 | 同志社大学（烏丸キャンパス） | プロトンビーム描画による導波路型光スイッチの試作 ○三浦健太（群馬大）・佐藤隆博・石井保行・江夏昌志・横山彰人・神谷富裕（原子力機構）・平谷雄二（広島国際大）・桐生弘武・小澤優介・加田 渉・花泉 修（群馬大） PN2013-85 OPE2013-199 LQE2013-185 EST2013-134 MWP2013-105 |
量子ビーム技術を利用したプロトンビーム描画(Proton Beam Writing: PBW)は，次世代微細加工技術とし... [more] | PN2013-85 OPE2013-199 LQE2013-185 EST2013-134 MWP2013-105 pp.317-320 |
| SDM | 2013-12-13 16:20 |
奈良 | 奈良先端科学技術大学院大学 | 誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング ○渡辺和貴・山口正樹・西川宏之（芝浦工大） SDM2013-130 |
本研究では，非鉛系強誘電体材料の一つであるチタン酸ビスマス(Bi4Ti3O12，BIT)において，ポリビニルピロリドン(... [more] | SDM2013-130 pp.85-89 |
| SDM | 2012-12-07 16:00 |
京都 | 京都大学(桂) | プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製 ○山口正樹・渡辺和貴（芝浦工大）・増田陽一郎（八戸工大） SDM2012-134 |
次世代の微細加工手法であると考えられるプロトンビーム照射により，強誘電体膜へのパターン描画について検討を行なった．感光基... [more] | SDM2012-134 pp.113-117 |
| OPE | 2010-12-17 15:10 |
東京 | 機械振興会館地下3階2号室 | プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討 ○三浦健太（群馬大）・佐藤隆博・江夏昌志・石井保行・高野勝昌・大久保 猛・加田 渉・山崎明義・横山彰人・神谷富裕（原子力機構）・上原政人・桐生弘武・佐々木友之・花泉 修（群馬大）・西川宏之（芝浦工大） OPE2010-136 |
プロトンビーム描画(Proton Beam Writing: PBW)は，次世代の微細加工技術として注目されているが，P... [more] | OPE2010-136 pp.27-30 |
| OPE | 2009-12-18 14:50 |
東京 | 機械振興会館 | プロトンビーム描画による波長1.5μm帯用シングルモードPMMA導波路 三浦健太・○町田裕貴・上原政人・花泉 修（群馬大）・石井保行・佐藤隆博・高野勝昌・大久保 猛・山崎明義・井上愛知・江夏昌志・横山彰人・神谷富裕・小嶋拓治（原子力機構）・西川宏之（芝浦工大） OPE2009-165 |
プロトンビーム描画は，次世代の微細加工技術として注目されているが，PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用する... [more] | OPE2009-165 pp.25-28 |
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