電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 109, Number 81

電子デバイス

開催日 2009-06-11 - 2009-06-12 / 発行日 2009-06-04

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目次

ED2009-36
Cu-CMP後洗浄用有機防食剤のCu錯体溶解評価
○伊藤篤史・原田 憲・河瀬康弘・水谷文一(三菱化学)・原 誠・青木秀充・木村千春・杉野 隆(阪大)
pp. 1 - 6

ED2009-37
導波路管型高周波超音波洗浄機によるCMP後洗浄
○鈴木一成(カイジョー/芝浦工大)・潘 毅・岡野勝一・副島潤一郎(カイジョー)・小池義和(芝浦工大)
pp. 7 - 10

ED2009-38
べベルブラシ洗浄プロセスの開発
○萩本賢哉・岩元勇人(ソニー)
pp. 11 - 14

ED2009-39
メチルBCN膜のRFバイアスによる膜質依存性
増住拓朗・原 誠・○青木秀充・呂 志明・木村千 春・杉野 隆(阪大)
pp. 15 - 20

ED2009-40
GaN中のプラズマ照射誘起欠陥の電気的評価
○中村成志・星野晃一・落合俊輔・須原理彦・奥村次徳(首都大東京)
pp. 21 - 25

ED2009-41
原子層堆積により形成したAl2O3/AlGaN/GaNの界面評価
○水江千帆子・堀 祐臣(北大)・ミツェーク マルチン(Silesian Univ. of Tech.)・橋詰 保(北大)
pp. 27 - 30

ED2009-42
Improvement in Device Performance in MIS AlGaN/GaN HFETs by Designing Insulator/AlGaN/GaN Structures
○Narihiko Maeda・Masanobu Hiroki・Takatomo Enoki(NTT)・Takashi Kobayashi(NTT AT)
pp. 31 - 36

ED2009-43
AlGaN/GaN-HEMTに対するドライエッチングの低ダメージ化の検討
○蔵口雅彦・湯元美樹・高田賢治・津田邦男(東芝)
pp. 37 - 40

ED2009-44
歪み印加時のInAsとInSbのバンド構造と電子輸送特性に関する理論的解析
○西野啓之・川平一太・原 伸介・藤代博記(東京理科大)
pp. 41 - 46

ED2009-45
InGaAs/InP二次元電子移動度の異方性
○赤堀誠志(北陸先端大/ユーリッヒ研)・Thanh Quang Trinh・工藤昌宏(北陸先端大)・Thomas Schaepers・Hilde Hardtdegen(ユーリッヒ研)・鈴木寿一(北陸先端大)
pp. 47 - 50

ED2009-46
SiO2細線埋込InP系HBTにおけるCBr4を使ったIn-situエッチング
○武部直明・山下浩明・高橋新之助・齋藤尚史・小林 嵩・宮本恭幸・古屋一仁(東工大)
pp. 51 - 55

ED2009-47
熱CVD成長SiN膜を用いたゲートリセス構造MIS-AlGaN/GaN-HEMTの電気特性
○丸井俊治・星 真一・戸田典彦・森野芳昭・伊藤正紀・大来英之・玉井 功・関 昇平(OKI)
pp. 57 - 62

ED2009-48
GaN-HEMTエピ構造最適化によるオフ電流低減
○山田敦史・牧山剛三・多木俊裕・金村雅仁・常信和清・今西健治(富士通/富士通研)・原 直紀(富士通研)・吉川俊英(富士通/富士通研)
pp. 63 - 67

ED2009-49
SiC基板上AlGaN/GaN HEMTの基板オフ角依存
○松下景一・桜井博幸・沈 正七・高木一考・川崎久夫・高田賢治・津田邦男(東芝)
pp. 69 - 72

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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