電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 110, Number 154

電子部品・材料

開催日 2010-07-29 - 2010-07-30 / 発行日 2010-07-22

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目次

CPM2010-31
ガスフロースパッタ法によるFe3O4のGaAs上へのエピタキシャル成長
○佐久間洋志・設樂裕紀・鍵 康人・鈴木 涼・石井 清(宇都宮大)
pp. 1 - 4

CPM2010-32
室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討
○清水英彦・樫出 淳・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎(新潟大)・星 陽一(東京工芸大)
pp. 5 - 9

CPM2010-33
触媒反応により生成した水分子ビームを用いたZnO結晶薄膜のエピタキシャル成長
田原将巳・三浦仁嗣・黒田朋義・西山 洋・○安井寛治(長岡技科大)
pp. 11 - 15

CPM2010-34
伝送線上のアイパターンを改善する技術の提案と実測評価
○石黒将巳・島内優希・相部範之(筑波大)・吉原郁夫(宮崎大)・安永守利(筑波大)
pp. 17 - 22

CPM2010-35
[招待講演]超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス ~ 細孔の評価と洗浄 ~
○近藤英一(山梨大)
pp. 23 - 28

CPM2010-36
ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製
○佐藤 勝・武山真弓(北見工大)・早坂祐一郎・青柳英二(東北大)・野矢 厚(北見工大)
pp. 29 - 34

CPM2010-37
TDEAV原料を用いたVNx膜のALD成膜
○武山真弓・佐藤 勝(北見工大)・須藤 弘・町田英明(気相成長)・伊藤 俊・青柳英二(東北大)・野矢 厚(北見工大)
pp. 35 - 38

CPM2010-38
レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成
○中澤日出樹・鈴木大樹・遲澤遼一・岡本 浩(弘前大)
pp. 39 - 44

CPM2010-39
水平配向したカーボンナノチューブからの電界電子放出
斉藤裕史・山上朋彦・林部林平・大池 匠・山下将弘・○上村喜一(信州大)
pp. 45 - 48

CPM2010-40
液液界面析出したC60の光励起ポリマー形成
小出大樹・加藤翔太・池田恵理・岩田展幸・○山本 寛(日大)
pp. 49 - 54

CPM2010-41
Snをドープしたシリカガラス薄膜の可視発光特性
○望月翔太・野毛 悟(沼津高専)
pp. 55 - 60

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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