電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 112, Number 427

シリコン材料・デバイス

開催日 2013-02-04 / 発行日 2013-01-28

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目次

SDM2012-150
排熱TSVへ向けたナノカーボン材料の熱特性評価
○川端章夫・二瓶瑞久・村上 智・佐藤元伸・横山直樹(産総研)
pp. 1 - 4

SDM2012-151
CuSn/InAu microbump induced local deformation and mechanical stress in high-density 3D-LSI
○Murugesan Murugesan・Mitsumasa Koyanagi(Tohoku Univ.)
pp. 5 - 8

SDM2012-152
原子移動型スイッチを使ったスマート配線技術と低電力再構成回路への応用
○多田宗弘・阪本利司・宮村 信・伴野直樹・岡本浩一郎・井口憲幸・波田博光(超低電圧デバイス技研組合)
pp. 9 - 14

SDM2012-153
LSI配線構造中のCu/絶縁膜界面の結晶粒レベル局所強度に対応するサブミクロン機械工学への挑戦
○神谷庄司・佐藤 尚(名工大)・大宮正毅(慶大)・宍戸信之・小岩康三・西田政弘(名工大)・中村友二・鈴木貴志(富士通研)・野久尾毅・鈴木俊明(日本電子専門学校)
pp. 15 - 20

SDM2012-154
白色LED向け高放熱性ウエハーレベル・チップスケール・パッケージの開発
○秋元陽介・小島章弘・島田美代子・富澤英之・古山英人・小幡 進・樋口和人・杉崎吉昭・柴田英毅(東芝)
pp. 21 - 24

SDM2012-155
高密度チップ集積を実現する微細再配線の高信頼性技術 ~ Metal-Capバリア配線技術 ~
○神吉剛司・池田淳也・須田章一・小林靖志・中田義弘・中村友二(富士通研)
pp. 25 - 30

SDM2012-156
無電解めっき法を用いた高アスペクト比TSVへのCuシード層形成
○井上史大・新宮原正三(関西大)・ハロルド フィリップセン(IMEC)
pp. 31 - 34

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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