電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 113, Number 451

シリコン材料・デバイス

開催日 2014-02-28 / 発行日 2014-02-21

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目次

SDM2013-165
[招待講演]大口径中性粒子ビームCVDを用いたノンポーラスULK-SiOCH膜
○菊地良幸(東京エレクトロン/東北大)・寒川誠二(東北大)
pp. 1 - 5

SDM2013-166
[招待講演]先端Low-k配線技術における課題と指針
○井上尚也(ルネサス エレクトロニクス)
pp. 7 - 12

SDM2013-167
[招待講演]三次元積層向けウェハの裏面研削によるダメージ評価
○水島賢子(富士通研/東工大)・金 永ソク(東工大/ディスコ)・中村友二(富士通研)・杉江隆一・橋本秀樹(東レリサーチセンター)・上殿明良(筑波大)・大場隆之(東工大)
pp. 13 - 18

SDM2013-168
[招待講演]TSVの高速形成に向けた有機系導電インクの注入手法
○川喜多 仁(物質・材料研究機構)
pp. 19 - 21

SDM2013-169
[基調講演]集積回路のこれから ~ 社会の動きを考えてみる ~
○益 一哉(東工大)
pp. 23 - 28

SDM2013-170
[招待講演]インプラント法によるカーボンナノチューブプラグの作製とスパッタアニール法による多層グラフェン配線の接合
○佐藤元伸・高橋 慎・二瓶瑞久・佐藤信太郎・横山直樹(産総研)
pp. 29 - 33

SDM2013-171
[招待講演]導電性下地上でのカーボンナノチューブの低温・稠密成長
○野田 優(早大)・羅 ヌリ(早大/東大)・白井 聖・野村桂甫(東大)・長谷川 馨(早大)
pp. 35 - 38

SDM2013-172
[招待講演]気相堆積重合ポリイミドを用いたTSVライナー形成
○福島誉史・マリアッパン ムルゲサン・べ 志哲・李 康旭・小柳光正(東北大)
pp. 39 - 42

SDM2013-173
[招待講演]15μm-pitch Bump Interconnections Relied on Flip-chip Bonding Technique -- for Advanced Chip Stacking Applications --
○Masahiro Aoyagi・Thanh-Tung Bui・Fumiki Kato・Naoya Watanabe・Shunsuke Nemoto・Katsuya Kikuchi(AIST)
pp. 43 - 46

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


IEICE / 電子情報通信学会