電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 112, Number 446

シリコン材料・デバイス

開催日 2013-02-27 - 2013-02-28 / 発行日 2013-02-20

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目次

SDM2012-157
[招待講演]グラフェンにおけるバリスティック伝導・光電圧効果
○町田友樹(東大/JST)・増渕 覚・大貫雅広・井口和之・森川 生・山口健洋・荒井美穂(東大)・渡邊賢司・谷口 尚(物質・材料研究機構)
pp. 1 - 5

SDM2012-158
外部電圧印加に伴うキャリア注入による極薄SOI膜のゼーベック係数変化
○池田浩也・鈴木悠平・三輪一聡(静岡大)・ファイズ サレ(静岡大/学振)
pp. 7 - 11

SDM2012-159
電気化学堆積法と電気泳動法によるCu2O/TiO2ヘテロ接合太陽電池の作製
○加藤義人・市村正也(名工大)
pp. 13 - 17

SDM2012-160
イオン注入による欠陥準位導入によってシリコン太陽電池の効率は改善するか
○榊原宏武・和田耕司・加藤正史・市村正也(名工大)
pp. 19 - 24

SDM2012-161
Individual Dopant Nature in Si Lateral Nano-pn Junctions
○Sri Purwiyanti・Arief Udhiarto(Shizuoka Univ./Univ. Indonesia)・Roland Nowak(Shizuoka Univ./Warsaw Univ. of Tech.)・Daniel Moraru・Takeshi Mizuno(Shizuoka Univ.)・Djoko Hartanto(Univ. Indonesia)・Ryszard Jablonski(Warsaw Univ. of Tech.)・Michiharu Tabe(Shizuoka Univ.)
pp. 25 - 30

SDM2012-162
フレキシブルデバイス応用を目指したセルフスイッチング型ナノダイオードの整流特性
○孫 屹・木村祐太・前元利彦・佐々誠彦(阪工大)・葛西誠也(北大)
pp. 31 - 34

SDM2012-163
グラフェン3分岐接合デバイスの試作と論理回路応用の検討
○殷 翔・葛西誠也(北大)
pp. 35 - 38

SDM2012-164
Si基板上に直接成長した極薄InSb膜をチャネルとしたAl2O3/InSb MOSFET
○前澤宏一・伊藤泰平・角田 梓・中山幸二・安井雄一郎・森 雅之(富山大)・宮崎英志・水谷 孝(名大)
pp. 39 - 42

SDM2012-165
InAsナノワイヤの電界アシスト自己整合堆積プロセス
○船山裕晃・渡邉龍郎・道又賢司・和保孝夫・村上 新・下村和彦(上智大)
pp. 43 - 46

SDM2012-166
室温動作単電子トランジスタとCMOS1-bitアナログセレクタの集積化
○鈴木龍太・野末喬城・更屋拓也・平本俊郎(東大)
pp. 47 - 52

SDM2012-167
二重量子ドットSi単電子トランジスタにおける電子数変化による特性評価
○内田貴史・竹中浩人・吉岡 勇・有田正志(北大)・藤原 聡(NTT)・高橋庸夫(北大)
pp. 53 - 58

SDM2012-168
散逸要素を組み込んだ単一電子素子・単一磁束量子素子での間欠発振
○水柿義直(電通大)
pp. 59 - 64

SDM2012-169
超伝導島電極を有する強磁性SETにおける磁気抵抗比の極性とトンネル抵抗値の相関
○滝口将志・守屋雅隆・島田 宏・水柿義直(電通大)
pp. 65 - 70

SDM2012-170
SPMスクラッチ法を用いたナノスケール加工のグラフェンへの適用
○須田隆太郎・齋藤孝成・吉田 卓(東京農工大)・Ampere A. Tseng(Arizona State Univ.)・白樫淳一(東京農工大)
pp. 71 - 76

SDM2012-171
ジュール加熱されたグラフェンの近赤外イメージングによるその場温度測定
○齋藤孝成・厚母息吹・須田隆太郎・伊藤光樹・白樫淳一(東京農工大)
pp. 77 - 82

SDM2012-172
CNT添加カーボンファイバの電気的特性
○綿貫雄仁・田中 朋・佐野栄一・古月文志(北大)
pp. 83 - 88

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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