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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2013-11-14
13:50
東京 機械振興会館 低温RTAにおけるSi中のSの挙動とS2形成の原子レベルシミュレーション
金村貴永加藤弘一谷本弘吉青木伸俊豊島義明東芝SDM2013-102
NiSi/Si界面にSを注入するとショットキーバリアーが殆ど0にまで低減することが近年報告されている。この低減は界面近傍... [more] SDM2013-102
pp.15-20
SDM 2013-02-04
11:25
東京 機械振興会館 Line-Edge Roughnessを考慮した微細金属配線のモンテカルロ・シミュレーション(仮題)
来栖貴史谷本弘吉和田 真磯林厚伸梶田明広青木伸俊豊島義明東芝
 [more]
SDM 2009-11-13
11:15
東京 機械振興会館 微細金属配線における抵抗率のサイズ効果予測のためのモンテカルロ・シミュレーション
来栖貴史和田 真松永範昭梶田明広谷本弘吉青木伸俊豊島義明柴田英毅東芝SDM2009-145
LSIの金属配線設計において、サイズ縮小に伴って配線の抵抗率が上昇するという“抵抗率のサイズ効果”が問題となっている.次... [more] SDM2009-145
pp.55-60
SDM, VLD
(共催)
2007-10-30
14:10
東京 機械振興会館 シミュレーションを用いた微小MOSFETにおける寄生抵抗の解析および抽出方法の検討
辻井秀二外園 明藤原 実川中 繁東 篤志青木伸俊豊島義明東芝VLD2007-56 SDM2007-200
 [more] VLD2007-56 SDM2007-200
pp.27-32
SDM 2007-06-08
09:50
広島 広島大学(学士会館) SiON pMOSFETに対するNBTI劣化のモデリング
下川淳二遠田利之青木伸俊谷本弘吉伊藤早苗豊島義明東芝SDM2007-41
SiO${}_2$ pMOSFETに対するNBTI劣化のモデルとして,理論的なモデルは反応拡散モデルが,実験的なモデルは... [more] SDM2007-41
pp.55-58
SDM, VLD
(共催)
2006-09-26
13:00
東京 機械振興会館 3次元プロセスデバイスシミュレーションによるBulk-FinFETの駆動電流の改善
金村貴永泉田貴士青木伸俊近藤正樹伊藤早苗遠田利之岡野王俊川崎博久八木下淳史金子明生稲葉 聡中村光利石丸一成須黒恭一江口和弘東芝
3次元プロセス/デバイスシミュレーションを用いてbulk-FinFETの構造とイオン注入条件の最適化を検討した。チャネル... [more] VLD2006-43 SDM2006-164
pp.25-29
ICD, SDM
(共催)
2006-08-18
11:40
北海道 北海道大学 hp32 nm ノード以降に向けた周辺回路がBulk Planar FET及びメモリセルがBulk FinFETで構成されたSRAM技術について
川崎博久東芝アメリカ電子部品)・○稲葉 聡岡野王俊金子明生東芝)・八木下淳史東芝アメリカ電子部品)・泉田貴士金村貴永佐々木貴彦大塚伸朗青木伸俊須黒恭一江口和弘綱島祥隆東芝)・石丸一成東芝アメリカ電子部品)・石内秀美東芝
 [more] SDM2006-147 ICD2006-101
pp.127-132
ICD 2006-04-13
11:35
大分 大分大学 90nm node CMOSプロセスによる128Mb-FBC(Floating Body Cell)メモリの技術開発
中島博臣南 良博篠 智彰東芝)・坂本篤史東芝情報システム)・東 知輝東芝マイクロエレクトロニクス)・楠 直樹藤田勝之初田幸輔大澤 隆青木伸俊谷本弘吉森門六月生井納和美浜本毅司仁田山晃寛東芝
SOI基板上にFBC(Floating Body Cell)とよぶメモリセルを用いて90nmCMOSコンパチの128Mb... [more] ICD2006-5
pp.25-30
ICD, SDM
(共催)
2005-08-19
14:40
北海道 函館国際ホテル FinFETを用いたhp22nm node SRAMのロバストなデバイス設計
岡野王俊石田達也佐々木貴彦泉田貴士近藤正樹藤原 実青木伸俊稲葉 聡大塚伸朗石丸一成石内秀美東芝
FinFETを用いたhp22nm nodeのSRAMの実現可能性について、Static Noise Margin(SNM... [more] SDM2005-154 ICD2005-93
pp.67-72
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