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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME 2016-03-03
13:55
東京 東工大南3号館S322講義室 イオンアシスト蒸着重合による接着性アクリル高分子薄膜の作製
河村 拓田中邦明臼井博明東京農工大OME2015-87
イオンアシスト蒸着重合により種々の基板上に4-hydroxybutyl acrylate glycidylether (... [more] OME2015-87
pp.5-9
OME 2014-11-29
11:30
鹿児島 奄美大島商工会議所会議室 [招待講演]反応性末端を持つ自己組織化膜を用いた有機/無機界面制御
臼井博明東京農工大OME2014-64
有機デバイスでは有機/無機電極の接合形成が必須となるが,両者では材料の性質が大きく異なるため,異種界面の制御は容易でなく... [more] OME2014-64
pp.25-30
OME, EMD, CPM
(共催)
2014-06-20
10:20
東京 機械振興会館 電反応性SAMと蒸着重合による電極/高分子界面の制御
萩原佑哉金 性湖田中邦明東京農工大)・Rigoberto C. Advinculaケースウェスタン大)・○臼井博明東京農工大EMD2014-12 CPM2014-32 OME2014-20
有機デバイスでは有機/無機電極の接合形成が必須となるが,材料の性質が大きく異なるため,異種界面の制御は容易でなく,付着強... [more] EMD2014-12 CPM2014-32 OME2014-20
pp.21-26
SDM 2013-02-04
13:50
東京 機械振興会館 LSI配線構造中のCu/絶縁膜界面の結晶粒レベル局所強度に対応するサブミクロン機械工学への挑戦
神谷庄司佐藤 尚名工大)・大宮正毅慶大)・宍戸信之小岩康三西田政弘名工大)・中村友二鈴木貴志富士通研)・野久尾毅鈴木俊明日本電子専門学校SDM2012-153
構造物の対破壊信頼性確保は機械工学の基本的使命の一つである。エレクトロニクスデバイスもその例外ではないが、構造の3次元化... [more] SDM2012-153
pp.15-20
OME, OPE
(共催)
2012-11-16
13:05
東京 機械振興会館 傾斜機能を持つフッ素系蒸着重合膜による反射防止効果
泉田和夫ミクロ技研)・松田 剛河西 匠田中邦明臼井博明東京農工大OME2012-55 OPE2012-127
2-(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート(Rf-6)モノマーを,Arイオンアシストによる蒸着重合(IAD)法により... [more] OME2012-55 OPE2012-127
pp.1-5
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(連催)
ICD, CPM
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2011-11-29
09:50
宮崎 ニューウェルシティ宮崎 [招待講演]LSIパッケージ用高密度配線技術
谷 元昭佐々木伸也富士通研)・上西啓介阪大CPM2011-155 ICD2011-87
LSIパッケージ基板用の高密度配線を目的とした我々の開発技術を紹介する。絶縁膜上の配線形成では、絶縁膜表面に水酸基を形成... [more] CPM2011-155 ICD2011-87
pp.35-40
EMD, CPM, OME
(共催)
2011-06-30
15:30
東京 機械振興会館 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善
泉田和夫松田 剛田中邦明臼井博明東京農工大EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した.イオン照射によって基材表面... [more] EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
pp.41-46
OME 2009-05-22
09:30
東京 機械振興会館 高分子超薄膜の界面物性評価とデバイス応用
長村利彦田中敬二九大OME2009-8
近年のナノテクノロジーの発展に伴い、複雑かつ微細な構造を有する高分子ナノ組織体の構築が実現しつつある。しかしながら、これ... [more] OME2009-8
pp.1-2
OME 2009-05-22
13:25
東京 機械振興会館 ポリブチレンテレフタレートの接着挙動におよぼす熱処理条件の影響
岡本泰志青木孝司加藤和生デンソー)・田中敬二高原 淳九大OME2009-14
ポリブチレンテレフタレート(PBT)の表面ナノ構造と接着性におよぼす熱処理(アニーリング)の影響について検討した。アニー... [more] OME2009-14
pp.29-34
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