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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM, ED, SDM
(共催)
2016-05-20
11:05
静岡 静岡大学 工学部 (浜松キャンパス・総合研究棟) Si(111)-√3×√3-Ga表面相上へのGaSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長
下山浩哉・○森 雅之前澤宏一富山大ED2016-24 CPM2016-12 SDM2016-29
Si(111)基板上のGa誘起表面再構成構造(Si(111)-√3×√3-Ga)を介したSi(111)基板上へのGaSb... [more] ED2016-24 CPM2016-12 SDM2016-29
pp.51-54
CPM, LQE, ED
(共催)
2013-11-29
11:00
大阪 大阪大学 吹田キャンパス 薄膜3C-SiC緩衝層を用いたSi基板上GaN成長
片桐正義泉 健太三宅秀人平松和政三重大)・奥 秀彦浅村英俊川村啓介エア・ウォーターR&DED2013-79 CPM2013-138 LQE2013-114
Si 基板上のGaN 成長においては,熱膨張係数差に起因する基板の反りやクラックの発生,SiとGa との反応によるメルト... [more] ED2013-79 CPM2013-138 LQE2013-114
pp.71-74
ED 2013-08-09
09:50
富山 富山大学工学部 大会議室 Ga/Si(111)表面再構成構造を用いたSi(111)基板上GaSbナノ構造の形成
町田龍人戸田隆介吉木圭祐藤川紗千恵東京理科大)・原 紳介NICT)・色川勝己三木裕文東京理科大)・河津 璋東京電機大)・藤代博記東京理科大ED2013-46
Si基板上のGaSbナノ構造は近赤外の発光素子への応用が期待されており,エピタキシャル成長法による形成の制御技術を確立す... [more] ED2013-46
pp.43-48
ED 2013-08-09
11:20
富山 富山大学工学部 大会議室 Si(111)上へのSb再構成構造を利用したInSbの選択成長
王 シン森 雅之前澤宏一富山大ED2013-49
最近、ナノワイヤートランジスタ(NW-FETs)、FinFETsなどの立体構造デバイスの研究が盛んに行われている。過去の... [more] ED2013-49
pp.61-65
CPM 2011-10-27
10:20
福井 福井大学 産学官連携本部研修室 MOVPE法によるSi(111)基板上への中間組成InGaN膜の成長
三原章宏杉田憲一Ashraful G. Bhuiyan橋本明弘山本あき勇福井大)・渡邉則之重川直輝NTTCPM2011-120
InGaN/Siタンデム太陽電池では、InGaNのIn組成が0.45の場合、両サブセルの電流整合が実現されるとともに、n... [more] CPM2011-120
pp.55-58
ED 2011-07-30
13:55
新潟 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター 表面再構成制御成長法で成長したSi(111)基板上のInSb MOSダイオードの作製
角田 梓岩杉達矢中谷公彦中山幸二森 雅之前澤宏一富山大ED2011-55
我々はこれまでに、Si(111)基板上に1原子層程度のIn及びSb原子を吸着させることにより形成されるInSb単分子層を... [more] ED2011-55
pp.91-96
ED 2008-06-14
11:20
石川 金沢大学 角間キャンパス Si(111)-√7×√3-In再構成構造を介したInSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長
森 雅之斉藤光史長島恭兵上田広司吉田達雄前澤宏一富山大ED2008-37
Si(111)基板上にInSb単分子層を介してInSb薄膜を成長させると、Si基板に対して30°回転し、結晶性や電気的特... [more] ED2008-37
pp.81-84
ED, CPM, LQE
(共催)
2006-10-06
16:50
京都 京都大学 ECR-MBE法によるSi基板上InN薄膜成長のN2+イオンダメージ軽減の効果
淀 徳男嶋田照也田川澄人西本 亮日高志郎石井圭太瀬川紘史平川順一原田義之阪工大
ECR-MBE法の問題点として、成長薄膜にダメージを与える窒素分子イオンがECRプラズマ中で発生するため、InNの成長に... [more] ED2006-175 CPM2006-112 LQE2006-79
pp.121-125
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