電子情報通信学会技術研究報告

Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 123, Number 211

シリコン材料・デバイス

開催日 2023-10-13 / 発行日 2023-10-06

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目次

SDM2023-54
[招待講演]UVナノインプリントリソグラフィーの欠陥低減
○伊藤俊樹(キヤノン)
pp. 1 - 6

SDM2023-55
[若手招待講演]Investigation on Thermoelectric Properties of Flexible Thermoelectric Power Generators from Conductive Fabrics
○Hudzaifah Al Hijri・Daiki Kansaku・Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.)
pp. 7 - 12

SDM2023-56
[招待講演]不揮発性メモリのシリコン窒化膜に捕獲されたキャリヤの電荷重心とエネルギー深さの検討
○小林清輝(東海大)
pp. 13 - 20

SDM2023-57
[招待講演]電気特性計測プラットフォームを用いたランダムテレグラフの動作条件依存性の統計的解析
○間脇武蔵・黒田理人(東北大)
pp. 21 - 26

SDM2023-58
強度分布を有するエキシマレーザーアニールによる結晶粒径制御と低温ポリシリコン薄膜トランジスタ特性
○西田 脩・片山慶太・中村大輔(九大)・後藤哲也(東北大)・池上 浩(高知工科大)
pp. 27 - 33

SDM2023-59
サファイア基板上への酸化ガリウム薄膜の形成と基礎評価
○今泉文伸・森田拓海(小山高専)
pp. 34 - 39

SDM2023-60
界面酸化を抑制したGaN MOS界面形成プロセス
○近藤 剣・上野勝典・田中 亮・高島信也・江戸雅晴(富士電機)・諏訪智之(東北大)
pp. 40 - 45

SDM2023-61
窒素添加LaB6 /LaBxNy積層構造を用いたボトムゲート型OFET/ReRAM集積化に関する検討
○趙 嘉昂・大見俊一郎(東工大)
pp. 46 - 49

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


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