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電子デバイス研究会(ED) [schedule] [select]
専門委員長 加地 徹 (豊田中研)
副委員長 原 直紀 (富士通研)
幹事 津田 邦男 (東芝), 須原 理彦 (首都大東京)
幹事補佐 上田 哲三 (パナソニック), 葛西 誠也 (北大)

日時 2011年 7月29日(金) 13:30 - 17:25
2011年 7月30日(土) 09:00 - 15:35
議題 TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般 
会場名 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター 
会場世話人
連絡先
長岡技術科学大学工学部電気系 内富直隆
0258-47-9842 (会場)
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

7月29日(金) 午後 
13:30 - 17:25
(1) 13:30-13:55 AlGaN/GaN HFETに対する炭素添加高抵抗化SiドープGaNバッファ層の効果 ED2011-37 深井雅之柿澤秀介伏見 浩新日本無線
(2) 13:55-14:20 AlGaN/GaN HFETのMIMゲート構造による界面電荷の制御 ED2011-38 深澤義道脇 英司伏見 浩新日本無線
(3) 14:20-14:45 Characterization of sputtered AlN amorphous films and their applications to AlGaN/GaN MIS-HFET ED2011-39 Hong-An ShihMasahiro KudoMasashi AkaboriToshi-kazu SuzukiJAIST
(4) 14:45-15:10 AlGaN/GaN HEMTにおけるMOS界面特性と電流コラプスの評価 ED2011-40 橋詰 保水江千帆子掘 祐臣田島正文大井幸多北大
  15:10-15:20 休憩 ( 10分 )
(5) 15:20-15:45 フラッシングスプレーCVD法によるNb2O5膜の成膜 ED2011-41 富永浩二堀場製作所)・寺阪正訓清水哲夫堀場エステック)・千田二郎同志社大)・石田耕三堀場製作所
(6) 15:45-16:10 GaAs(001)上のAlNスパッタ堆積およびAl2O3原子層堆積における表面前処理の効果 ED2011-42 工藤昌宏Hong-An Shih赤堀誠志鈴木寿一北陸先端大
(7) 16:10-16:35 SiNx絶縁ゲートGaAsエッチングナノワイヤFETにおける低周波雑音特性の評価 ED2011-43 村松 徹三浦健輔白鳥悠太葛西誠也北大
(8) 16:35-17:00 フォトニック結晶構造作製を目的とした高Al組成AlGaAs誘導結合型プラズマエッチング ED2011-44 北林佑太望月雅矢石川史太郎近藤正彦阪大
(9) 17:00-17:25 III-V化合物半導体を用い歪み駆動自己変形プロセスで作製した微小な円弧型カンチレバーの弾性測定 ED2011-45 岩瀬比宇麻王 建赤堀誠志山田省二北陸先端大
7月30日(土) 午前 
09:00 - 15:35
(10) 09:00-09:25 P3HT/n-Si有機無機接合へテロダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析 ED2011-46 金子 翔大山直樹籾山克章鈴木貴彦廣瀬文彦山形大
(11) 09:25-09:50 MoO3ホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池の発電特性 ED2011-47 吉田一樹栗原 啓籾山克章鈴木貴彦廣瀬文彦山形大
(12) 09:50-10:15 高溶解性チオフェンオリゴマーの塗布製膜性と有機薄膜太陽電池特性 ED2011-48 鈴木貴彦吉田一樹栗原 啓太田員正佐藤和昭大場好弘廣瀬文彦山形大
(13) 10:15-10:40 高温溶媒吸着法による色素増感太陽電池の高効率化 ED2011-49 石田瑛之吉田洋大籾山克章鈴木貴彦廣瀬文彦山形大
(14) 10:40-11:05 陽極酸化による透明電極上への酸化チタンナノチューブ膜の形成 ED2011-50 小島領太Mohammad Maksudur RahmanMehdi El Fassy Fihry木村康男庭野道夫東北大
  11:05-11:15 休憩 ( 10分 )
(15) 11:15-11:40 ボウタイアンテナと三重障壁共鳴トンネルダイオードとを集積したゼロバイアス検波レクテナに関する解析 ED2011-51 中村昌人高萩 智斉藤光史須原理彦首都大東京
(16) 11:40-12:05 粒子群最適化手法を用いた三重障壁共鳴トンネルダイオードの非線形等価回路の同定 ED2011-52 浅川澄人倉上祐司斉藤光史須原理彦首都大東京
(17) 12:05-12:30 量子補正モンテカルロ法による歪みInAs HEMTの解析 ED2011-53 佐藤 純町田史晴原 紳介藤代博記東京理科大
  12:30-13:30 昼食 ( 60分 )
(18) 13:30-13:55 Sbテンプレートを使用したSi(111)面上GaSb薄膜の作製とその評価 ED2011-54 豊田英之岡部晃也神保良夫内富直隆長岡技科大
(19) 13:55-14:20 表面再構成制御成長法で成長したSi(111)基板上のInSb MOSダイオードの作製 ED2011-55 角田 梓岩杉達矢中谷公彦中山幸二森 雅之前澤宏一富山大
(20) 14:20-14:45 スピン分離量評価へ向けたInSb系三重障壁共鳴トンネルダイオードの電流電圧特性解析 ED2011-56 藤田昌成斉藤光史須原理彦首都大東京
(21) 14:45-15:10 高In組成InGaAsInAlAs 2次元電子ガス2層系のサブバンド構造とスピン軌道相互作用の解析 ED2011-57 赤堀誠志片山智之森本幸作岩瀬比宇麻・○山田省二北陸先端大
(22) 15:10-15:35 InP基板上に成長したZnSnAs2:Mn磁性薄膜の異常ホール効果 ED2011-58 大前洸斗神保良夫内富直隆長岡技科大

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
ED 電子デバイス研究会(ED)   [今後の予定はこちら]
問合先 津田 邦男(東芝)
TEL : 044-549-2142、FAX : 044-520-1501
E--mail : oba
須原 理彦(首都大)
TEL : 042-677-2765 Fax : 042-677-2756
E--mail : t
上田 哲三(パナソニック)
TEL:075-956-8273、FAX:075-956-9110
E--mailzopac
葛西 誠也(北大)
TEL:011-706-6509、FAX:011-716-6004
E--mailirciqei 


Last modified: 2011-05-23 11:55:57


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