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 17件中 1~17件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
QIT
(第二種研究会)
2023-05-29
16:30
京都 京都大学 桂キャンパス [ポスター講演]ナノダイヤモンド中へのイオン注入により作製したシリコン空孔中心の極低温評価
嶋﨑幸之介鈴木和樹岡城勇大京大)・高島秀聡京大/千歳科技大)・阿部浩之大島 武量研機構)・竹内繁樹京大
 [more]
QIT
(第二種研究会)
2021-05-24
13:30
ONLINE オンライン開催 [ポスター講演]極微ナノダイヤモンド中へのSiVセンターの作製
嶋﨑幸之介川口洋生高島秀聡京大)・Takuya F. SegawaETH Zurich)・Frederick T.-K. So寺田大紀京大)・小野田 忍大島 武量研機構)・白川昌宏竹内繁樹京大
 [more]
QIT
(第二種研究会)
2017-11-16
13:50
埼玉 埼玉大学 [ポスター講演]シリコン欠陥中心内包ナノダイヤモンドの作製
岩端祐介福田 純高島秀聡京大)・Andreas W. SchellICFO)・阿部浩之小野田 忍大島 武QST)・竹内繁樹京大
ダイヤモンド中のカラーセンターは量子情報や量子計測、バイオセンシング等への応用が期待されている。カラーセンターの一種であ... [more]
OPE, MW, EMT, MWP, EST
(共催)
IEE-EMT
(連催) [詳細]
2016-07-21
16:40
北海道 網走 オホーツク・文化交流センター(エコーセンター2000) 浮遊導体およびグラウンドビアを装荷した高方向性/密結合多段ストリップ線路側結合カプラ
安部素実大島 毅湯浅 健竹田英次大和田 哲米田尚史宮崎守泰三菱電機EMT2016-16 MW2016-47 OPE2016-28 EST2016-17 MWP2016-18
 [more] EMT2016-16 MW2016-47 OPE2016-28 EST2016-17 MWP2016-18
pp.61-65
SDM 2013-06-18
17:25
東京 機械振興会館 [依頼講演]4H-SiC MOS界面の電子スピン共鳴分光評価
梅田享英筑波大)・岡本光央小杉亮治産総研)・荒井 亮佐藤嘉洋筑波大)・原田信介奥村 元産総研)・牧野高紘大島 武原子力機構SDM2013-64
4H-SiC MOS型電界効果トランジスタ(MOSFET)はノーマリーオフ,高パワー密度,超低損失のパワーデバイスとして... [more] SDM2013-64
pp.101-105
SDM, ED, CPM
(共催)
2013-05-16
13:55
静岡 静大(浜松)創造科学技術大学院 4H-SiC中の深い準位を形成する欠陥構造の同定の試み
中根浩貴加藤正史市村正也名工大)・大島 武原子力機構ED2013-17 CPM2013-2 SDM2013-24
SiCデバイスの性能向上には、キャリアライフタイムの制御方法の確立が必要である。そのためには深い準位の物理的起源の理解が... [more] ED2013-17 CPM2013-2 SDM2013-24
pp.7-12
SDM, ED, CPM
(共催)
2013-05-17
14:55
静岡 静大(浜松)創造科学技術大学院 高効率水素生成に向けたSiCキャリアライフタイム評価
三宅景子安田智成加藤正史市村正也名工大)・畑山智亮奈良先端大)・大島 武原子力機構ED2013-33 CPM2013-18 SDM2013-40
太陽光を利用した水分解による水素生成は次世代エネルギー技術として注目されており、SiCはそのための材料の候補である。この... [more] ED2013-33 CPM2013-18 SDM2013-40
pp.93-98
SDM 2012-12-07
10:30
京都 京都大学(桂) 電子線照射によるSiCの正孔の各種散乱機構の変化
村田耕司森根達也松浦秀治阪電通大)・小野田 忍大島 武原子力機構SDM2012-117
Si (Silicon) に比べ,放射線耐性及び絶縁破壊電界が大きいSiC (Silicon Carbide) は,次世... [more] SDM2012-117
pp.13-18
ED, SDM, CPM
(共催)
2012-05-18
11:15
愛知 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 低エネルギー電子線照射を施したp型4H-SiCにおける再結合中心の評価
吉原一輝加藤正史市村正也名工大)・畑山智亮奈良先端大)・大島 武原子力機構ED2012-31 CPM2012-15 SDM2012-33
SiCは大電力、低損失デバイス材料として期待されているが、デバイス性能に多大な影響を与える結晶欠陥を解明するには至ってい... [more] ED2012-31 CPM2012-15 SDM2012-33
pp.67-72
SDM 2010-12-17
14:30
京都 京都大学(桂) 200keV電子線照射による4H-SiCエピ膜中の多数キャリア密度の変化
野尻琢慎西野公三柳澤英樹松浦秀治阪電通大)・小野田 忍大島 武原子力機構SDM2010-195
添加量の異なるAl-doped 4H-SiC及びN-doped 4H-SiCエピ膜に200 keVの電子線を照射した場合... [more] SDM2010-195
pp.57-62
SDM, CPM, ED
(共催)
2010-05-13
14:20
静岡 静岡大学(浜松キャンパス) Eu添加AlGaN/GaN HEMT構造を用いた発光素子の検討
近藤正樹秦 貴幸岡田 浩若原昭浩古川雄三豊橋技科大)・佐藤真一郎大島 武原子力機構ED2010-19 CPM2010-9 SDM2010-19
 [more] ED2010-19 CPM2010-9 SDM2010-19
pp.11-16
SDM 2009-12-04
10:00
奈良 奈良先端大 物質創成科学研究科 電子線照射によるAl-doped 6H-SiCエピ膜中のアクセプタ密度変化
野尻琢慎柳澤英樹明神善子松浦秀治阪電通大)・大島 武原子力機構SDM2009-153
電子線を照射したAl-doped 6H-SiCエピ膜に対して、van der pauw法を用いたホール効果測定により得ら... [more] SDM2009-153
pp.11-16
SDM 2009-12-04
10:20
奈良 奈良先端大 物質創成科学研究科 200keV電子線照射によるSiCエピ膜中の耐放射線性に関する研究 ~ ドープ量依存性 ~
柳澤英樹西野公三野尻琢慎松浦秀治阪電通大)・大島 武原子力機構SDM2009-154
SiC中のC原子のみを変位させる200keVの電子線照射が,Al-doped 4H-SiCとN-doped 4H-SiC... [more] SDM2009-154
pp.17-22
SDM 2009-12-04
10:40
奈良 奈良先端大 物質創成科学研究科 電子線照射によって生じるC変位によるAl-doped 4H-SiCエピ膜中のアクセプタ密度減少について
西野公三柳澤英樹野尻琢慎松浦秀治阪電通大)・大島 武原子力機構SDM2009-155
(事前公開アブストラクト) Al-doped 4H-SiCエピ膜に200 keVの電子線を照射する事でAl-doped ... [more] SDM2009-155
pp.23-28
SDM, ED
(共催)
2009-06-25
13:15
海外 海雲台グランドホテル(釜山、韓国) Effect of Ion-Beam-Induced Damage on Luminescence Properties in Tb-Implanted AlxGa1-xN
Ji-Ho ParkHiroshi OkadaAkihiro WakaharaYuzo FurukawaToyohashi Univ. of Tech.)・Yong-Tae KimDankook Univ.)・Jonghan SongKIST)・Ho-Jung ChangDankook Univ.)・Shin-ichiro SatoTakeshi OhshimaJAEA, TakasakiED2009-82 SDM2009-77
 [more] ED2009-82 SDM2009-77
pp.141-144
SANE 2008-06-26
16:30
茨城 JAXA筑波宇宙センター 宇宙用論理LSIで発生する放射線誘起スパイクノイズの研究(仮)
牧野高紘総研大)・柳川善光東大)・小林大輔総研大/JAXA)・福田盛介JAXA)・廣瀬和之池田博一総研大/JAXA)・斎藤宏文東大/JAXA)・小野田 忍平尾敏雄大島 武原子力機構)・高橋大輔石井 茂草野将樹池淵 博黒田能克三菱重工SANE2008-25
放射線によって論理LSI内に誘起されるスパイクノイズがソフトエラー源として顕在化してきている.
論理LSIはチップ内部... [more]
SANE2008-25
pp.67-72
CPM, ED, SDM
(共催)
2008-05-16
15:05
愛知 名古屋工業大学 マイクロ波光導電減衰法によるp型4H-SiCエピタキシャル膜の評価
松下由憲加藤正史市村正也名工大)・畑山智亮奈良先端大)・大島 武原子力機構ED2008-20 CPM2008-28 SDM2008-40
SiCは高出力,高周波デバイスの材料として注目されている.実用化を妨げる原因のひとつとしてウェハー中の結晶欠陥の存在が挙... [more] ED2008-20 CPM2008-28 SDM2008-40
pp.95-100
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