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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
HWS, VLD
(共催)
2019-02-28
10:50
沖縄 沖縄県青年会館 基板バイアスを活用した単一電源レベルシフタ回路の提案
武吉雄貴宇佐美公良芝浦工大VLD2018-109 HWS2018-72
異なる電源電圧を用いることで低消費電力を実現する技術としてマルチVDD設計が存在する。異なる電源電圧領域の間にはレベルシ... [more] VLD2018-109 HWS2018-72
pp.97-102
HWS, ISEC, SITE, ICSS, EMM
(共催)
IPSJ-CSEC, IPSJ-SPT
(共催)
(連催) [詳細]
2018-07-26
14:10
北海道 札幌コンベンションセンター Compensation of Temperature Induced Flipping-Bits in CMOS SRAM PUF by NMOS Body-Bias
Xuanhao ZhangXiang ChenHanfeng SunHirofumi ShinoharaWaseda Univ.ISEC2018-41 SITE2018-33 HWS2018-38 ICSS2018-44 EMM2018-40
PUF suffers from flipping-bits caused by temperature changes... [more] ISEC2018-41 SITE2018-33 HWS2018-38 ICSS2018-44 EMM2018-40
pp.333-336
VLD, CPSY, RECONF
(共催)
IPSJ-SLDM, IPSJ-ARC
(共催)
(連催) [詳細]
2016-01-21
10:55
神奈川 慶應義塾大学 日吉キャンパス SOTBを用いたボディバイアス制御によるTLBの省電力化
川瀬大樹奥原 颯天野英晴慶大VLD2015-102 CPSY2015-134 RECONF2015-84
極薄の酸化膜層を利用した FD-SOI デバイスである SOTB(Silicon on thin buried oxid... [more] VLD2015-102 CPSY2015-134 RECONF2015-84
pp.191-196
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(連催)
ICD, CPM
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2012-11-26
16:00
福岡 九州大学百年講堂 ランダム・テレグラフ・ノイズに起因した組合せ回路遅延ゆらぎに対する基板バイアスの影響
松本高士京大)・小林和淑京都工繊大)・小野寺秀俊京大VLD2012-70 DC2012-36
近年のLSI素子の微細化により、NBTIおよび、RTNなどのゲート絶縁膜の信頼性が回路の信頼性に与える影響がますます深刻... [more] VLD2012-70 DC2012-36
pp.63-68
VLD 2012-03-07
16:05
大分 ビーコンプラザ パワースイッチの基板電圧選択制御によるサブスレッショルド回路のリークエネルギー低減化
三橋 遼工藤 優太田雄也宇佐美公良芝浦工大VLD2011-144
リークエネルギーを低減する技術の一つであるパワーゲーティング(PG)は、挿入するパワースイッチ(PS)の閾値にリークエネ... [more] VLD2011-144
pp.145-150
ICD 2008-12-12
16:35
東京 東工大(大岡山)国際交流会館 [依頼講演] 45nm CMOSにおけるばらつき低減を目的とした基板バイアス制御技術の提案
鹿嶋一生鈴木弘明栗本昌憲ルネサステクノロジ)・山中唯生ルネサスデザイン)・高田英裕ルネサステクノロジ)・牧野博之阪工大)・篠原尋史ルネサステクノロジICD2008-128
微細化プロセスにおけるばらつき抑制を目的としたポストシリコンプログラミング型基板バイアス技術を提案する。提案手法では、ウ... [more] ICD2008-128
pp.137-142
ICD 2005-12-16
11:40
高知 高知工科大 電荷再利用型動的ボディ電位制御によるSOI-CMOSの高速化手法
北村雅之飯島正章濱田健司沼 昌宏神戸大)・野谷宏美多田 章前川繁登ルネサステクノロジ
本稿では,SOIデバイスの特徴を生かし,トランジスタのボディ電位を動的に制御することで,リーク電流を増加させずに高速化を... [more] ICD2005-198
pp.37-42
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