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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2023-11-10
14:40
東京 機械振興会館 5階 5S-2 会議室
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]GaNの高電界物性の精密評価 ~ 衝突イオン化係数と絶縁破壊電界 ~
前田拓也東大SDM2023-72
パワーデバイスの耐圧シミュレーションや安全動作領域の予測には,正確な物性値を用いたデバイスシミュレーションが必要不可欠で... [more] SDM2023-72
pp.41-46
SDM, ED, CPM
(共催)
2022-05-27
16:15
ONLINE オンライン開催 電気化学反応を利用した窒化ガリウムのウェットエッチングと機能性材料
佐藤威友渡久地政周北大ED2022-13 CPM2022-7 SDM2022-20
電気化学反応を利用したウェットエッチング(電気化学エッチング)により,窒化ガリウム(GaN)多孔質構造を形成した.GaN... [more] ED2022-13 CPM2022-7 SDM2022-20
pp.25-28
LQE, CPM, ED
(共催)
2020-11-26
15:30
ONLINE オンライン開催 酸素プラズマ処理によるAlGaN/GaN HEMTsの破壊電圧向上に関する研究
神谷俊佑西谷高至松田 悠高野 望ジョエル タクラ アスバル徳田博邦福井大)・葛原正明関西学院大ED2020-12 CPM2020-33 LQE2020-63
窒化ガリウム(GaN)は高い破壊電界強度を持っており、シリコン(Si)に代わるパワーデバイスの材料となることが期待されて... [more] ED2020-12 CPM2020-33 LQE2020-63
pp.45-48
SAT 2019-10-10
15:20
福岡 JR博多シティ(福岡) {10F 会議室A+B} 保守性と信頼性を高めた衛星通信基地局用RF送受信装置の開発
松井宗大松下 章山下史洋NTTSAT2019-52
衛星通信システムにおいて,通信サービスを継続して提供するためには,保守性と信頼性が求められる.本稿では,高い保守性と信頼... [more] SAT2019-52
pp.21-26
ITE-IDY, IEE-EDD
(共催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID
(連催) [詳細]
2018-01-25
13:40
静岡 静岡大学 浜松キャンパス Ga蒸気を用いる化学気相法により成長したGaN薄膜の発光特性
増田裕一郎長瀬 剛国枝 航光野徹也小南裕子原 和彦静岡大EID2017-31
Ga蒸気とNH3ガスを原料として用いた化学気相成長法(CVD)により,c面サファイア基板上に窒化ガリウム(GaN)薄膜の... [more] EID2017-31
pp.5-8
SDM, ED, CPM
(共催)
2017-05-26
10:45
愛知 名古屋大学VBLベンチャーホール (3F) N-polar GaN MIS-HEMTs with Flat Interface Grown by Optimized MOVPE
Kiattiwut PrasertsukTomoyuki TanikawaTakeshi KimuraShigeyuki KuboyaTetsuya SuemitsuTakashi MatsuokaTohoku Univ.ED2017-26 CPM2017-12 SDM2017-20
 [more] ED2017-26 CPM2017-12 SDM2017-20
pp.59-64
ITE-IDY, IEE-EDD
(共催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
EID
(連催) [詳細]
2017-01-27
11:34
徳島 徳島大学 Ga蒸気を用いる化学気相法によるGaN薄膜の成長
深澤研介長瀬 剛増田裕一郎光野徹也小南裕子原 和彦静岡大EID2016-45
Ga蒸気とNH3ガスを原料として用いた化学気相成長法によって,c面サファイア基板上に窒化ガリウム (GaN)薄膜の成長を... [more] EID2016-45
pp.125-128
MW, ED
(共催)
2017-01-27
14:50
東京 機械振興会館地下2階1号室 ゲート長0.15um GaN HEMTを用いた動作帯域8%、30W出力/60% PAEのX帯GaN電力増幅器
河村由文半谷政毅水谷知大富山賢一山中宏治三菱電機ED2016-111 MW2016-187
短ゲート長(Lg=0.15 um)GaN HEMT を用いた30W級X帯GaN電力増幅器について報告する。本電力増幅器で... [more] ED2016-111 MW2016-187
pp.81-84
ED, LQE, CPM
(共催)
2015-11-26
13:10
大阪 大阪市立大学・学術情報センター会議室 ホール効果測定による低濃度Mgドープp型GaNの正孔キャリア密度および移動度の解析
堀田昌宏京大)・高島信也田中 亮松山秀昭上野勝典江戸雅晴富士電機)・須田 淳京大ED2015-72 CPM2015-107 LQE2015-104
低濃度Mgドープp型GaN (Mg濃度$6.5times 10^{16}~mbox{cm}^{-3}$)に対してホール効... [more] ED2015-72 CPM2015-107 LQE2015-104
pp.21-25
SANE 2014-06-20
14:45
茨城 JAXA 筑波宇宙センター GaNデバイスを用いた衛星搭載用20W級X帯SSPAの開発 ~ システム評価による実現性検討 ~
中台光洋粟野穰太谷島正信JAXA)・舟橋政弘坂田 智NEC東芝スペースシステムSANE2014-36
宇宙航空研究開発機構(JAXA)では,地球観測衛星と深宇宙探査衛星におけるX帯周波数を利用した通信を想定し,GaNデバイ... [more] SANE2014-36
pp.75-78
EMCJ, ITE-BCT
(共催)
2009-03-13
14:40
東京 機械振興会館 Ku帯衛星中継システム向けGaN FET固体化電力増幅器の開発
望月 亮福島竜也岩渕浩昭山田良男加藤孝男東芝EMCJ2008-121
Ku帯電力増幅FETとして世界最高出力となる50W級窒化ガリウム系高電子移動度トランジスタ(GaN HEMT)を電力増幅... [more] EMCJ2008-121
pp.43-48
ED, SDM
(共催)
2007-06-25
15:55
海外 Commodore Hotel Gyeongju Chosun, 慶州, 韓国 Analysis of plasma etching damages in GaN by excess carrier lifetime measurements
Masashi KatoKeisuke FukushimaMasaya IchimuraNagoya Inst. of Tech.)・Masakazu KanechikaOsamu IshiguroTetsu KachiToyota Central R&D Labs.
窒化ガリウム(GaN)は高出力,高周波デバイスへの応用が期待されており,GaNのバイポーラデバイスプロセスにおいてエッチ... [more]
SDM, ED, CPM
(共催)
2007-05-24
14:50
静岡 静岡大学 浜松キャンパス 過剰キャリアライフタイム測定によるGaNのプラズマエッチングダメージの解析とアニール効果の評価
福島圭亮加藤正史市村正也名工大)・兼近将一石黒 修加地 徹豊田中研
窒化ガリウム(GaN)は高出力,高周波デバイスへの応用が期待されており,GaNのバイポーラデバイスプロセスにおいてエッチ... [more]
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