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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2023-06-26
14:50
広島 広島大学 ナノデバイス研究所 [招待講演]加熱その場高分解能TEMを用いた薄膜Si固相結晶化過程の原子スケールリアルタイム観察 ~ 多結晶Siチャネル高性能化に向けて ~
手面 学浅野孝典高石理一郎富田充裕齋藤真澄田中洋毅キオクシアSDM2023-34
加熱その場高分解能TEMを用いて,多結晶Siチャネルを模した薄膜Si内で微結晶Siと結晶化していないアモルファス領域の局... [more] SDM2023-34
pp.28-30
SDM, OME
(共催)
2023-04-22
13:35
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]エキシマレーザアニールによるSi薄膜の結晶化技術 ~ 温故知新になる事を期待して ~
栗山博之高砂熱学SDM2023-13 OME2023-13
エキシマレーザによるSi薄膜の結晶化技術はスマートフォン等に用いられている低温ポリシリコン(LTPS)液晶ディスプレイの... [more] SDM2023-13 OME2023-13
pp.48-51
OME, SDM
(共催)
2022-04-23
11:50
宮崎 高千穂ホール(宮崎市)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]固相結晶化In2O3:Hによる薄膜トランジスタの高移動度化(>100 cm2V-1s-1)
曲 勇作島根大)・片岡大樹高知工科大)・葉 文昌島根大)・古田 守高知工科大SDM2022-13 OME2022-13
本研究では低温で固相結晶化した水素化多結晶酸化インジウム(In2O3:H)薄膜の金属から半導体への転移に成功し、酸化物半... [more] SDM2022-13 OME2022-13
pp.61-64
OME, IEE-DEI
(連催)
2021-03-01
16:30
ONLINE オンライン開催 結晶化した低分子型有機薄膜太陽電池の暗電流のダイオード解析
嘉治寿彦榎戸風花森 承宇余語正輝阿部優樹片山美樹雅東京農工大OME2020-25
共蒸発分子誘起結晶化法で結晶化した様々な有機薄膜太陽電池、例えば、超厚膜の低分子型有機薄膜太陽電池や低ドナー濃度型の有機... [more] OME2020-25
pp.26-27
EID, SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2018-12-25
11:00
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 プラスチック基板上のダブルゲートCu-MIC多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタ
内海大樹東北学院大)・北原邦紀塚田真也島根大)・鈴木仁志原 明人東北学院大EID2018-4 SDM2018-77
塗布型ポリイミド(PI)上に銅(Cu)を利用した金属誘起結晶化(MIC)を用いて, ダブルゲート(DG)構造の多結晶ゲル... [more] EID2018-4 SDM2018-77
pp.1-4
EID, SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2018-12-25
13:15
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果(Ⅱ)
秋田佳輝松尾直人兵庫県立大)・小濱和之伊藤和博阪大EID2018-5 SDM2018-78
本研究では,Ge膜のFLA結晶化時にSiOxキャップ膜が及ぼす影響を調査した.FLA結晶化におけるpoly-Ge膜の結晶... [more] EID2018-5 SDM2018-78
pp.17-20
SDM 2018-10-17
16:35
宮城 東北大学未来情報産業研究館5F [招待講演]低抵抗アモルファス相と高抵抗結晶相を有するCr2Ge2Te6を用いた相変化メモリ
畑山祥吾須藤祐司安藤大輔小池淳一東北大SDM2018-56
相変化メモリは次世代型の不揮発性メモリとして注目されている. 現在, 実用化されている相変化材料はGe-Sb-Te化合物... [more] SDM2018-56
pp.21-26
OME, IEE-DEI
(連催)
2015-07-29
16:30
富山 富山大学工学部 静電塗布法における溶媒蒸発時間が有機薄膜太陽電池の特性に与える影響
戸田明日来鈴木勝己・○福田武司埼玉大OME2015-40
静電塗布法は任意の有機層の積層化やナノファイバーの形成が可能であり、新しい有機薄膜太陽電池の作製技術として期待されている... [more] OME2015-40
pp.43-46
OME, SDM
(共催)
2015-04-30
13:25
沖縄 大濱信泉記念館多目的ホール 青色半導体レーザアニール中Si膜の温度分布解析
岡田竜弥神村盛太野口 隆琉球大SDM2015-14 OME2015-14
これまでに我々は、青色半導体レーザアニール法(BLDA)を用いることで20-500 nm 厚のa-Si 膜が結晶化可能で... [more] SDM2015-14 OME2015-14
pp.53-55
SDM, EID
(共催)
2014-12-12
13:30
京都 京都大学 スパッタリングにより形成したHfO2膜をゲート絶縁膜とするCLC低温Poly-Si TFT
目黒達也原 明人東北学院大EID2014-23 SDM2014-118
高い電流駆動能力を有する低温(LT)多結晶Si(poly-Si)薄膜トランジスタ(TFT)の実現に向け,連続波レーザラテ... [more] EID2014-23 SDM2014-118
pp.51-54
SDM, OME
(共催)
2014-04-11
10:50
沖縄 沖縄県青年会館 BLDAを用いた低温プロセスpoly-Si TFT
下田清治杉原弘也井村公彦岡田竜弥野口 隆琉球大SDM2014-14 OME2014-14
低コストでの製造プロセスによるpoly-Si TFTは、ガラス上およびフレキシブルパネルに必要とされている。本研究では、... [more] SDM2014-14 OME2014-14
pp.59-61
SDM, OME
(共催)
2014-04-11
11:10
沖縄 沖縄県青年会館 ブルーマルチレーザダイオードアニールを施したガラス上Si薄膜の光伝導特性
コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ知念 怜杉原弘也岡田竜弥野口 隆琉球大SDM2014-15 OME2014-15
ガラス上のSi膜の機能光センサ応用をめざし、ブルーマルチレーザダイオードアニール(BLDA)を施したSi膜の光伝導性につ... [more] SDM2014-15 OME2014-15
pp.63-65
SDM 2014-01-29
10:50
東京 機械振興会館 [招待講演]高信頼メタル/high-k CMOS SOI FinFETsのための高温イオン注入技術
水林 亘産総研)・おの田 博中島良樹日新イオン機器)・石川由紀松川 貴遠藤和彦Yongxun Liu大内真一塚田順一山内洋美右田真司森田行則太田裕之昌原明植産総研SDM2013-138
高温イオン注入がメタルゲート/high-k CMOS SOI FinFETsの性能及び信頼性に及ぼす影響について調べた。... [more] SDM2013-138
pp.13-16
SDM 2013-12-13
11:40
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 スパッタリングより形成したAl2O3膜をゲート絶縁膜とするCLC低温poly-Si TFT
目黒達也原 明人東北学院大SDM2013-124
高誘電率ゲート絶縁膜は,低温多結晶Si(poly-Si)薄膜トランジスタ(TFT)の性能向上のためのテクノロジ・ブースタ... [more] SDM2013-124
pp.49-53
SDM 2013-12-13
13:30
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 軟X線照射による半導体薄膜の低温結晶化 ~ 光子エネルギー依存性とSiGe多層膜のTEM観察 ~
草壁 史丸山裕樹部家 彰松尾直人神田一浩望月孝晏兵庫県立大)・伊藤和博高橋 誠阪大SDM2013-126
a-Ge, a-SiGe 膜の軟 X線照射結晶化における照射光子エネルギー依存性を検討した。Ge 膜において蓄積リング電... [more] SDM2013-126
pp.61-66
SDM, OME
(共催)
2012-04-27
15:10
沖縄 沖縄県青年会館 [招待講演]連続発振レーザ横方向結晶化法によるガラス基板上SiとSiGe薄膜の成長
北原邦紀島根大)・原 明人東北学院大SDM2012-5 OME2012-5
連続発振レーザ横方向結晶化(CLC)法によりガラス基板上にSiおよびSiGe薄膜のフロー状成長を実現した.CLCは薄膜ト... [more] SDM2012-5 OME2012-5
pp.21-26
SDM, OME
(共催)
2012-04-27
15:40
沖縄 沖縄県青年会館 [招待講演]ダブルラインビーム連続発振レーザラテラル結晶化によるシリコン薄膜の3軸結晶制御とTFT
黒木伸一郎東北大SDM2012-6 OME2012-6
Gaussianレーザスポットをもつ連続発振レーザラテラル結晶化により平均20×2μm2の粒径をもつpoly-Si薄膜を... [more] SDM2012-6 OME2012-6
pp.27-32
US 2011-12-22
14:15
神奈川 東京工業大学 すずかけ台キャンパス すずかけホール集会室1 超音波プラスチック接合の機構に関する仮説
足立和成山形大US2011-80
超音波プラスチック接合の技術は、自動車産業を中心とした幅広い産業分野において活用されている優れた加工技術である。しかし、... [more] US2011-80
pp.19-24
SDM 2011-12-16
15:20
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 レーザー結晶化のプロセスシミュレータの開発 ~ 2次元および3次元シミュレータの開発 ~
木村 睦松木邦晃斎藤龍輔塚本周史龍谷大SDM2011-143
レーザー結晶化のプロセスシミュレータを開発している.核生成確率・結晶成長速度・部分結晶化モデルを組み込んだ,2次元および... [more] SDM2011-143
pp.59-64
SDM 2011-12-16
16:00
奈良 奈良先端科学技術大学院大学 軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発
部家 彰野々村勇希木野翔太松尾直人天野 壮宮本修治神田一浩望月孝晏兵庫県立大)・都甲 薫佐道泰造宮尾正信九大SDM2011-145
結晶化が起こるには、結晶核形成と結晶粒成長の2つのプロセスを経る必要があるが、一般に結晶核形成には多くのエネルギーを必要... [more] SDM2011-145
pp.71-76
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