電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 110, Number 261

電子部品・材料

開催日 2010-10-28 - 2010-10-29 / 発行日 2010-10-21

[PREV] [NEXT]

[TOP] | [2007] | [2008] | [2009] | [2010] | [2011] | [2012] | [2013] | [Japanese] / [English]

[PROGRAM] [BULK PDF DOWNLOAD]


目次

CPM2010-91
ニオブ酸カリウム/チタン酸バリウム複合材料の開発
○臼井亮輔・番場教子(信州大)
pp. 1 - 5

CPM2010-92
一方向凝固法によるタンタル酸カリウム単結晶の育成
○竹中貴之・番場教子・干川圭吾(信州大)
pp. 7 - 11

CPM2010-93
磁性金属を充填したメソポーラスシリカSBA-15の構造と磁気特性
○篠原良寛・榮岩哲二(信州大)
pp. 13 - 17

CPM2010-94
Magnetic properties of TbFeCo films with Au underlayer for perpendicular magnetic recording
○Songtian Li・Xiaoxi Liu・Akimitsu Morisako(Shinshu Univ.)
pp. 19 - 22

CPM2010-95
超音波噴霧熱分解法によるZnOナノワイヤーの作製 ~ 溶媒の違いによる結晶形状への影響 ~
ミョー タン テイ・○安松 洋・田中孝典・橋本佳男(信州大)
pp. 23 - 26

CPM2010-96
高周波スパッタリングによるニッケル酸化物の作製及び評価
○永田篤史・内田和男・小泉 淳・小野 洋・野崎眞次(電通大)
pp. 27 - 31

CPM2010-97
FTS法にUBMS法を組み合わせた方法によるSrAl2O4:Eu, Dy薄膜の作製
○久野敬史・齋藤 稔・小林和晃・清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎(新潟大)
pp. 33 - 37

CPM2010-98
MCR-CVD法によるフッ素フリータングステン成長
○渡邉雄仁・柴田 明・鹿又健作・鈴木貴彦・廣瀬文彦(山形大)
pp. 39 - 42

CPM2010-99
グラファイト触媒を用いたHW-CVD法によるSiC薄膜の低温形成
○坂口優也・中村嘉孝・有馬 潤・森山和久・林部林平・阿部克也(信州大)
pp. 43 - 46

CPM2010-100
直接窒化法で形成したSiC表面窒化層の厚さと界面特性の評価
○鈴木真一郎・村田裕亮・逸見充則・山上朋彦・林部林平・上村喜一(信州大)
pp. 47 - 50

CPM2010-101
MIS型ショットキー接触の電流電圧特性を利用した窒化膜/SiC界面特性の評価
○村田裕亮・鈴木真一郎・小林尚平・山上朋彦・林部林平・上村喜一(信州大)
pp. 51 - 54

CPM2010-102
パルスモードホットメッシュCVD法によるGaN成長条件の最適化
永田一樹・里本宗一(長岡技科大)・片桐裕則・神保和夫(長岡高専)・末光眞希・遠藤哲郎・伊藤 隆(東北大)・中澤日出樹(弘前大)・成田 克(山形大)・○安井寛治(長岡技科大)
pp. 55 - 58

CPM2010-103
太陽電池用Cu2ZnSnS4薄膜の作製 ~ プリカーサー及び硫化条件の影響 ~
ミョー タン テイ・○漢人康善・橋本佳男(信州大)
pp. 59 - 63

CPM2010-104
交互積層法によるMg-Cu薄膜の特性の検討
○清水健児・丹内俊郎・松井博章・清水英彦・岩野春男・川上貴浩(新潟大)
pp. 65 - 69

CPM2010-105
スパッタ法を用いた有機EL素子用低温堆積ITO薄膜の検討
○中村陽平・劉 暢・清水英彦・岩野春男・福嶋康夫・永田向太郎(新潟大)・星 陽一(東京工芸大)
pp. 71 - 75

CPM2010-106
Alq3/PEDOTを用いたスピンコート法による2層低分子有機EL薄膜の簡易作製
○中條妃奈・野田淳史・岩田展幸・山本 寛(日大)
pp. 77 - 80

CPM2010-107
横方向DCELデバイスにおけるZnOナノロッド上でのEL蛍光体の堆積形態の影響
○佐藤知正・松澤友紀・金城貴樹・平手孝士(神奈川大)
pp. 81 - 86

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


IEICE / 電子情報通信学会