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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM, ED, SDM (共催) |
2016-05-19 13:25 |
静岡 | 静岡大学 工学部 (浜松キャンパス・総合研究棟) | 熱化学気相成長法による合金基板上へのグラフェン合成 ○岸 直希・岩間一樹・水谷拓哉・加藤慎也・曽我哲夫（名工大）  ED2016-14 CPM2016-2 SDM2016-19 |
グラフェンの熱化学気相成長法による合成では、その層数や質は基板に用いる金属の種類に依存することが知られている。これまでに... [more] | ED2016-14 CPM2016-2 SDM2016-19 pp.5-8 |
| CPM | 2015-11-06 16:10 |
新潟 | まちなかキャンパス長岡 | 面内配向成長した単層カーボンナノチューブの自由電子レーザー照射効果と触媒形状依存性 川口大貴・吉田圭佑・小林弥生・春宮清之介・○永田知子・山本 寛・岩田展幸（日大） CPM2015-91 |
波長800 nmの自由電子レーザー(Free Electron Laser : FEL)、及びST-cut人工水晶基板を... [more] | CPM2015-91 pp.37-42 |
| ED | 2015-10-23 10:35 |
愛知 | 名城大学名駅サテライト（ＭＳＡＴ） | 高濃度窒素添加ダイヤモンドを用いた電子源の試作 ～ 鋳型成長を用いた電極一体・平板型エミッターの製作 ～ ○胡谷大志（国際基督教大）・増澤智昭（静岡大）・山田貴壽（産総研）・落合 潤・斎藤市太郎・岡野 健（国際基督教大） ED2015-64 |
ダイヤモンドは，その化学的安定性や高い熱伝導率，また負の電子親和力を持つ事から，電子源材料としての活用が期待されている．... [more] | ED2015-64 pp.53-56 |
| CPM | 2015-08-10 13:40 |
青森 | 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 | 高周波プラズマ化学気相成長法による窒素添加DLC薄膜の膜特性への基板バイアスの影響 ○土屋政人・村上和輝・佐藤達人・高見貴弘・遠田義晴・中澤日出樹（弘前大） CPM2015-32 |
CH4、N2および希釈ガスとしてArを用い、基板バイアスにパルスバイアスを用いたRFプラズマCVD法により、基板パルスバ... [more] | CPM2015-32 pp.7-10 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2015-06-19 13:55 |
東京 | 機械振興会館 | 化学気相成長法を用いて作製した単層グラフェンの積層による2層グラフェンの作製と電気特性 ○星野 崚・林 佑太郎・今井健太郎・鈴木 希・永田知子・岩田展幸・山本 寛（日大） EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26 |
単層グラフェンを積み重ねることで２層グラフェンを作製した。化学気相成長(Chemical Vapor Depositio... [more] | EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26 pp.11-15 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2015-06-19 14:30 |
東京 | 機械振興会館 | 大気圧CVD法による酸化スズ及び酸化ガリウムナノワイヤーの成長 ○寺迫智昭・倉重利規（愛媛大）・矢木正和（香川高専） EMD2015-14 CPM2015-24 OME2015-27 |
金属(スズもしくはガリウム)と水を原料，金(Au)を触媒に用いた大気圧化学気相堆積(CVD)法で成長温度，原料供給比及び... [more] | EMD2015-14 CPM2015-24 OME2015-27 pp.17-22 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2015-05-28 13:00 |
愛知 | 豊橋技科大VBL棟 | 液体原料を用いた熱CVDによるグラフェンの合成 ○岸 直希・岩田鷹明・岩間一樹・包 建峰・劉 会濤・曽我哲夫（名工大） ED2015-16 CPM2015-1 SDM2015-18 |
我々は安全・簡便なグラフェン合成を目指し、炭素源として液体原料であるエタノールを、またキャリアガスとして窒素を用いたグラ... [more] | ED2015-16 CPM2015-1 SDM2015-18 pp.1-4 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2015-05-28 17:30 |
愛知 | 豊橋技科大VBL棟 | 自由電子レーザー照射による面内配向単層カーボンナノチューブのカイラリティ制御の可能性 川口大貴・吉田圭佑・小林弥生・春宮清之介・永田知子・山本 寛・○岩田展幸（日大） ED2015-25 CPM2015-10 SDM2015-27 |
ホットウォール型(Hot Wall Type : HW-)CVD装置と波長800nmの自由電子レーザー(Free Ele... [more] | ED2015-25 CPM2015-10 SDM2015-27 pp.45-50 |
| CPM | 2014-10-24 14:20 |
長野 | 信州大学工学部 地域共同研究センター３階研修 キャンパスマップ17番 | 光照射可能なホットウォール型化学気相成長装置の開発とカーボンナノチューブの作製 川口大貴・津田悠作・吉田圭佑・永田知子・○岩田展幸・山本 寛（日大） CPM2014-106 |
単層カーボンナノチューブ(Single-Walled Carbon Nanotube : SWNT)の850 ºC~10... [more] | CPM2014-106 pp.17-20 |
| CPM, ED, SDM (共催) |
2014-05-28 16:30 |
愛知 | 名古屋大学VBL3階 | 表面波プラズマを用いたシリコン窒化膜の化学気相堆積とデバイス応用 ○川上恭平・石丸貴博・篠原正俊・岡田 浩（豊橋技科大）・古川雅一（アリエースリサーチ）・若原昭浩・関口寛人（豊橋技科大） ED2014-29 CPM2014-12 SDM2014-27 |
マイクロ波による表面波プラズマを応用した新しい化学気相堆積法を提案し、シリコン窒化膜の堆積を行った。ビス(ジメチルアミノ... [more] | ED2014-29 CPM2014-12 SDM2014-27 pp.55-58 |
| SDM | 2014-02-28 14:40 |
東京 | 機械振興会館 | ［招待講演］導電性下地上でのカーボンナノチューブの低温・稠密成長 ○野田 優（早大）・羅 ヌリ（早大/東大）・白井 聖・野村桂甫（東大）・長谷川 馨（早大） SDM2013-171 |
半導体集積回路の集積度の向上に伴い、より高い電流密度に耐えられる配線材料が求められており、カーボンナノチューブ(CNT)... [more] | SDM2013-171 pp.35-38 |
| CPM | 2013-08-02 09:20 |
北海道 | 釧路生涯学習センターまなぼっと幣舞 | 単層カーボンナノチューブ品質向上を目指したコールドウオール化学気相成長装置の基板ヒーター開発 津田悠作・相良拓実・山川健一・吉田圭佑・岩田展幸・○山本 寛（日大） CPM2013-47 |
単層カーボンナノチューブ(single-walled carbon nanotubes :SWNTs)を用いたナノスケー... [more] | CPM2013-47 pp.39-44 |
| LQE, LSJ (共催) |
2013-05-17 15:20 |
石川 | 金沢大学角間キャンパス | 窒素ドープ同位体制御化学気相成長で作製したダイヤモンドNVセンターサンプルの光学・スピン特性 ○五味朋寛・富澤周平（慶大）・渡邊幸志・梅澤 仁・鹿田真一（産総研）・伊藤公平・早瀬潤子（慶大） LQE2013-12 |
ダイヤモンド中窒素空孔中心 (NVセンター)の電子スピン状態は，量子情報技術や高感度ナノ磁場センシングへの応用が期待され... [more] | LQE2013-12 pp.53-56 |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2013-01-24 16:25 |
愛知 | ウィンクあいち | カーボンナノチューブへの強磁性金属の内包と磁気特性制御 ○長田 篤・佐藤英樹・久保中伸雄・藤原裕司（三重大） OME2012-88 |
強磁性金属を内包したカーボンナノチューブ(CNT)は、高アスペクト比形状に起因する長軸方向への形状磁気異方性を持つことか... [more] | OME2012-88 pp.25-29 |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2013-01-24 16:50 |
愛知 | ウィンクあいち | 減圧CVD法によるグラフェン成長制御 ○前坂考哉・佐藤英樹・三宅秀人・平松和政（三重大） OME2012-89 |
本研究では，単層カーボンナノチューブの低温成長法として知られている，エタノールを原料とする減圧CVD(LP-CVD)法の... [more] | OME2012-89 pp.31-35 |
| ED | 2012-07-27 11:50 |
福井 | 福井大学 文京キャンパス産学官連携本部３Ｆ研修室 | ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET ○鷹林 将・楊 猛・小川修一・林 広幸・栗田裕記・高桑雄二・末光哲也・尾辻泰一（東北大） ED2012-53 |
ダイヤモンドライクカーボン(DLC)トップゲート絶縁膜を有するグラフェンチャネル電界効果トランジスタ(DLC-GFET)... [more] | ED2012-53 pp.67-72 |
| SDM | 2012-03-05 13:00 |
東京 | 機械振興会館 | ラマン分光法およびXPSによるSiO2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究 ○尾白佳大・小川修一（東北大）・犬飼 学（高輝度光科学研究センター）・佐藤元伸（産総研）・池永英司・室 隆桂之（高輝度光科学研究センター）・二瓶瑞久（産総研）・高桑雄二（東北大）・横山直樹（産総研） SDM2011-179 |
光電子制御プラズマCVDはグラファイト材料を低温成長 (～400 ℃) 、触媒無し、大面積で成長できる有力な手法である。... [more] | SDM2011-179 pp.19-24 |
| CPM | 2011-08-10 15:45 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | プラズマCVD法によるSiおよびN同時添加DLC膜特性に対する水素の影響 ○奥野さおり・三浦創史・鎌田亮輔・中澤日出樹（弘前大） CPM2011-62 |
ダイヤモンドライクカーボン（DLC）の膜特性の改善のために、SiおよびN源にヘキサメチルジシラザン（HMDS）を用いたプ... [more] | CPM2011-62 pp.31-36 |
| SDM | 2011-07-04 14:00 |
愛知 | 名古屋大学（ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー） | 金属/GeO2界面における化学結合状態の光電子分光分析 ○松井真史・藤岡知宏・大田晃生・村上秀樹・東 清一郎（広島大）・宮崎誠一（名大） SDM2011-61 |
熱酸化により形成したGeO2/Ge(100)界面および金属(Al, AuおよびPt)薄膜形成後のGeO2との界面化学結合... [more] | SDM2011-61 pp.63-68 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 10:25 |
東京 | 機械振興会館 | CVD法及び溶液成長法による酸化物ナノ構造の形成と形状制御 ○寺迫智昭・藤原哲郎・竹川晃平・白方 祥（愛媛大） EMD2011-9 CPM2011-45 OME2011-23 |
様々な形状を有するZnO，CdO及びMgOナノ構造が，Auナノコロイドを触媒に用いた大気圧CVD法によって得られた．Zn... [more] | EMD2011-9 CPM2011-45 OME2011-23 pp.5-10 |
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