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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2022-06-21 17:20 |
愛知 | 名古屋大学 VBL３F | SiO2上へのニッケルシリサイド薄膜形成とその表面形態・結晶相制御 ○木村圭佑・田岡紀之・西村駿介・大田晃生・牧原克典・宮﨑誠一（名大）  SDM2022-31 |
金属ナノシート(MNS)を用いたデバイスが検討されているが、SiO2上のMNSの表面形態や結晶相制御についての理解は十分... [more] | SDM2022-31 pp.27-30 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2020-10-05 13:55 |
ONLINE | オンライン開催 | 強磁性粒界材を有するグラニュラキャップ層を用いたCoPt基フルグラニュラ媒体の反転磁界および表面制御 ○タム キム コング・櫛引了輔・鎌田知成（田中貴金属）・斉藤 伸（東北大） MRIS2020-2 |
様々なGd2O3含有量のCoPt-Gd2O3グラニュラキャップ層（CL）を備えたフルグラニュラ媒体の磁気特性と微細組織を... [more] | MRIS2020-2 pp.6-11 |
| LQE, CPM, ED (共催) |
2017-11-30 16:15 |
愛知 | 名古屋工業大学 | 界面顕微光応答法によるn-GaN自立基板表面の波形モフォロジーの2次元評価 ○塩島謙次・橋爪孝典（福井大）・堀切文正・田中丈士（サイオクス）・三島友義（法政大） ED2017-55 CPM2017-98 LQE2017-68 |
GaN表面のモフォロジーがドリフト層の電気的特性に与える影響を界面顕微光応答法により評価した。MOCVD法により厚さ12... [more] | ED2017-55 CPM2017-98 LQE2017-68 pp.27-32 |
| SDM | 2017-10-25 16:30 |
宮城 | 東北大学未来研 | ［招待講演］HfO2をゲート絶縁膜に用いたペンタセンOFETのデバイス特性に関する検討 ○前田康貴・劉 野原・廣木瑞葉・大見俊一郎（東工大） SDM2017-54 |
p型有機半導体として広く知られているペンタセンは、下層材料や堆積温度によりグレインの形状が大きく変化することが報告されて... [more] | SDM2017-54 pp.25-30 |
| OME | 2016-12-26 14:55 |
沖縄 | 浦添市産業振興センター | 電解反応を用いた金属表面の機能化とその応用 ○市野良一（名大） OME2016-55 |
金属の耐食性皮膜としてZn-Ni-P，Zn-Ni-Bを電解法で作製した．作成した皮膜は，浴温度，電解電位などの実験条件に... [more] | OME2016-55 pp.7-10 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2016-12-09 11:20 |
愛媛 | 愛媛大学 | L10-FePt薄膜の表面形態と結晶性に及ぼす下地層の影響 ○清水智貴・中村将大・落合亮真（中大）・大竹 充（工学院大/中大）・二本正昭（中大）・桐野文良（東京藝術大）・稲葉信幸（山形大） MR2016-40 |
L10構造を持つFePt薄膜を高密度記録媒体などのデバイスに応用するためには，膜表面平坦性を制御する必要がある．しかしな... [more] | MR2016-40 pp.63-67 |
| SDM | 2016-10-27 10:25 |
宮城 | 東北大学未来研 | SiO2上におけるウェットプロセスがペンタセン薄膜形成に与える影響 ○前田康貴・廣木瑞葉・大見俊一郎（東工大） SDM2016-74 |
フレキシブルデバイスやTFTなどへの応用が期待されている代表的なp型有機半導体のペンタセンは、薄膜の結晶性が下層材料の表... [more] | SDM2016-74 pp.31-34 |
| CPM | 2016-07-23 10:25 |
愛媛 | 愛媛大学工学部本館3階会議室 | 原料交互供給法による酸化スズナノワイヤーの成長と形状制御 ○寺迫智昭（愛媛大）・矢木正和（香川高専） CPM2016-29 |
スズ(Sn)粉末と水(H2O)を原料，Au 薄膜を触媒とする大気圧 CVD 法において，Sn と H2O を時間的に分離... [more] | CPM2016-29 pp.21-26 |
| R | 2016-06-17 14:50 |
東京 | 機械振興会館 | 無電解ニッケルめっきの製造条件による皮膜形態とその硬化挙動 ○水内理映子・久里裕二・小谷和也（東芝） R2016-12 |
無電解ニッケルめっきは、耐食性に優れる、複雑形状への適用が容易、他の硬質めっきと比較しコストが低い等の理由から、工業的に... [more] | R2016-12 pp.19-24 |
| SDM | 2015-10-30 13:50 |
宮城 | 東北大学未来研 | HfO2をゲート絶縁膜に用いたペンタセンOFETのデバイス特性に関する検討 ○前田康貴・劉 野原・大見俊一郎（東工大） SDM2015-80 |
p型有機半導体として広く知られているペンタセンは下層材料や堆積温度により、グレインの形状が大きく変化することが報告されて... [more] | SDM2015-80 pp.49-52 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2013-06-21 16:55 |
東京 | 機械振興会館 | 触媒反応生成高エネルギーH2Oを用いたZnO膜の成長 ～ ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み ～ ○竹澤和樹・中村友紀・小柳貴寛・加藤孝弘（長岡技科大）・片桐裕則・大石耕一郎・神保和夫（長岡高専）・安井寛治（長岡技科大） EMD2013-23 CPM2013-38 OME2013-46 |
白金ナノ粒子表面での水素と酸素の自己発熱反応を利用して高エネルギーH2Oを生成、アルキル亜鉛ガスと反応させ形成した高エネ... [more] | EMD2013-23 CPM2013-38 OME2013-46 pp.89-94 |
| EMD | 2012-12-01 14:50 |
千葉 | 千葉工業大学 | Effect of Current Load on Fretting of Au-plated contacts Wanbin Ren・○Peng Wang・Shengjun Xue（Harbin Inst. of Tech.） EMD2012-87 |
The fretting corrosion behavior of Au-plated contacts is stu... [more] | EMD2012-87 pp.133-140 |
| CPM | 2012-10-26 13:50 |
新潟 | まちなかキャンパス長岡 | 触媒反応生成高エネルギーH2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜へのCVD低温バッファー層挿入効果 ○小柳貴寛・竹澤和樹・加藤孝弘（長岡技科大）・片桐裕則・神保和夫（長岡高専）・安井寛治（長岡技科大） CPM2012-94 |
白金ナノ粒子表面での水素と酸素の発熱反応を利用して高エネルギーH_{2}Oを生成、アルキル亜鉛ガスと衝突させ形成した高エ... [more] | CPM2012-94 pp.7-11 |
| OME | 2012-10-17 16:40 |
東京 | 機械振興会館 B1F 3号室 | 静電塗布法を用いたフラーレン誘導体薄膜の成膜 ○高木健次・武志一正・福田武司（埼玉大/理研）・鎌田憲彦（埼玉大）・朱 正明・山形 豊（理研）・田島右副（理研/埼玉大） OME2012-54 |
ウェットプロセスでｐ-ｎもしくはp-i-n積層型有機薄膜太陽電池を形成する為には、p型とn型の有機材料を溶解する溶媒を選... [more] | OME2012-54 pp.45-48 |
| OME | 2010-10-22 13:50 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | 静電塗布法を利用した太陽電池用有機材料の平坦化技術 ○浅野 俊・高木健次・福田武司（埼玉大/理研）・朱 正明（理研）・本多善太郎・鎌田憲彦（埼玉大）・田島右副・青山哲也（埼玉大/理研）・山形 豊（理研） OME2010-48 |
ウェットプロセスでバルクヘテロジャンクション型有機太陽電池を形成する為には、p型とn型の両材料を溶解する溶媒を選択する必... [more] | OME2010-48 pp.11-14 |
| OME | 2010-05-27 13:00 |
東京 | 機械振興会館 | 自己組織化膜形成による酸化金属電極の表面修飾 金 性湖・梅本祐也・大塚華恵・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2010-17 |
有機デバイスの電極として一般的に用いられるITOと有機薄膜の界面特性を制御する目的で，ITO表面に自己組織化膜（SAM）... [more] | OME2010-17 pp.1-6 |
| OME | 2009-09-03 13:00 |
東京 | 機械振興会館 | ビニルカルバゾール蒸着重合膜形成における表面開始剤SAM膜の効果 梅本祐也・金 性湖・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2009-36 |
一般に蒸着膜は基板に物理的に吸着しているため界面が不安定であるが，本研究では表面開始蒸着重合の手法を用い，基板表面に化学... [more] | OME2009-36 pp.1-6 |
| SDM | 2007-10-05 15:00 |
宮城 | 東北大学 | シリコン表面の原子オーダー平坦化技術 ○諏訪智之・黒田理人・寺本章伸・大見忠弘（東北大） SDM2007-190 |
本研究において、1200℃のArガス雰囲気中で(100)面のシリコンウェハを熱処理することにより、様々な原子オーダのステ... [more] | SDM2007-190 pp.57-59 |
| SDM, ED, CPM (共催) |
2007-05-24 14:30 |
静岡 | 静岡大学 浜松キャンパス | ZnO薄膜の高品質化とUVディテクタへの応用 ○林 隆雄・中村篤志・天明二郎（静岡大）・ナバーロ トーバー，アルバロ・ムニョス メリノ，エリアス（マドリード工科大） |
リモートプラズマ励起MOCVD法によりZnO薄膜を成長した。II族原料としてDEZn、VI族原料として酸素ガスを用い、酸... [more] | |
| MW, SCE (共催) |
2005-04-27 16:15 |
東京 | 機械振興会館 | 超伝導薄膜のハイパワーマイクロ波特性の測定法 ○小原春彦・幸坂 紳（産総研） |
超伝導薄膜の表面抵抗のマイクロ波パワー依存性を誘電体共振器法を用いて測定した．測定系は，最大出力が20Wの進行波管（ＴＷ... [more] | SCE2005-10 MW2005-10 pp.51-54 |
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