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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| EA, US (併催) |
2023-12-22 13:00 |
福岡 | 九州大学 大橋キャンパス デザインコモン 2階 | ［ポスター講演］エピ犠牲層エッチングを用いたエピ圧電層/音響ブラッグ反射器構造の作製 ○渡海 智・柳谷隆彦（早大）  US2023-60 |
B AW (Bulk Acoustic 共振子の圧電層に単結晶薄膜を用いることで、Q 値や耐電力性が向上することが期待で... [more] | US2023-60 pp.24-29 |
| ED | 2023-12-07 14:50 |
愛知 | ウインクあいち（愛知県産業労働センター） | 三極型大電力パルススパッタリングによる窒化ハフニウムスピント型フィールドエミッタアレイの作製 ○近藤 駿（成蹊大/産総研）・中野武雄・モハメッド シュルズ ミヤ（成蹊大）・長尾昌善・村田博雅（産総研） ED2023-41 |
我々は、イオン化スパッタリング技術の一種である三極型大電力パルススパッタリング法（t-HPPMS）を用いたスピント型エミ... [more] | ED2023-41 pp.11-14 |
| CPM | 2023-08-01 10:05 |
北海道 | 北見工業大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
反応性スパッタリングによるTiおよびV系MAX合金薄膜形成と物性評価 ○上田和貴・若松和伸・齊藤丈靖・岡本尚樹（阪公立大） CPM2023-20 |
現在、最先端の半導体デバイスの配線材料はCuが主流であるが、Cuは周囲に容易に拡散して電気特性を劣化させるため、拡散防止... [more] | CPM2023-20 pp.33-35 |
| SDM, ED, CPM (共催) |
2022-05-27 14:40 |
ONLINE | オンライン開催 | 反応性スパッタリングによる窒化物誘電体薄膜の堆積とシリコンフォトニクス応用 ○福島孝晃・ホセ ピエドラ ロレンサナ・土谷 塁・飛沢 健・石川靖彦（豊橋技科大） ED2022-10 CPM2022-4 SDM2022-17 |
SiNxはSiに比べて熱光学係数が約1桁小さい特長があり、熱的に安定動作する合分波器など、シリコンフォトニクス素子の特性... [more] | ED2022-10 CPM2022-4 SDM2022-17 pp.13-16 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2021-10-08 15:35 |
ONLINE | オンライン開催 | Pt/Co/CoO/アモルファスTiOx構造における電圧誘起保磁力変化 ○野崎友大・田丸慎吾・甲野藤 真・野﨑隆行・久保田 均・福島章雄・湯浅新治（産総研） MRIS2021-9 |
近年、磁気抵抗メモリ(MRAM)にも適用可能な低消費電力な書き込みの手段として、電圧による磁気異方性制御(VCMA)効果... [more] | MRIS2021-9 pp.13-16 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2021-06-11 10:00 |
宮城 | 東北大通研 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
NiOおよびCu2O下地膜上に成膜したコバルトフェライト薄膜の磁気特性 ○岩動大樹（東北大）・神島謙二・柿崎浩一（埼玉大） MRIS2021-4 |
コバルトフェライト(CFO)に垂直磁気異方性を発現させることを目的として、配向制御用下地膜上にCFOを積層し、その結晶構... [more] | MRIS2021-4 pp.18-21 |
| CPM | 2021-03-03 10:45 |
ONLINE | オンライン開催 | 高濃度ビスマス置換磁性ガーネットスパッタリング膜の磁区構造と乱数生成器への応用 ○中村出海・吉田秋太郎・水戸慎一郎（東京高専） CPM2020-61 |
自己相関のない真の乱数を生成するために，様々な物理乱数生成器が提案されているが，高品質な物理乱数を手軽かつ高速に生成する... [more] | CPM2020-61 pp.22-25 |
| LQE, CPM, ED (共催) |
2020-11-27 14:30 |
ONLINE | オンライン開催 | スパッタ法AlNバッファ層を用いたサファイア基板上へのh-BNの堆積と高温アニールによる結晶性向上 ○形岡遼志・小泉晴比古・岩山 章・三宅秀人（三重大） ED2020-22 CPM2020-43 LQE2020-73 |
六方晶窒化ホウ素(h-BN)は，二次元層状物質で，歪み緩和層や剥離層としての機能が期待されている．従来，h-BNは有機金... [more] | ED2020-22 CPM2020-43 LQE2020-73 pp.83-86 |
| LQE, CPM, ED (共催) |
2020-11-27 15:20 |
ONLINE | オンライン開催 | ナノストライプパターン加工した低転位密度AlNテンプレート上へのMOVPE成長と結晶性評価 ○伊庭由季乃・正直花奈子・窪谷茂幸・上杉謙次郎・肖 世玉・三宅秀人（三重大） ED2020-24 CPM2020-45 LQE2020-75 |
Face-to-face配置でアニールしたスパッタAlNテンプレート（FFA Sp-AlN）に周期300 nmと深さ12... [more] | ED2020-24 CPM2020-45 LQE2020-75 pp.91-94 |
| SCE | 2019-08-09 13:05 |
茨城 | 産業技術総合研究所 | Nb3Ge超伝導薄膜の作製と評価 ○川上 彰・寺井弘高（NICT）・鵜澤佳徳（国立天文台） SCE2019-13 |
A15型結晶構造を有するNb3Ge薄膜は，最高で23 Kの超伝導転移温度を示し，ギャップ周波数は2 THzに達すると考え... [more] | SCE2019-13 pp.27-30 |
| SDM, EID (共催) |
2016-12-12 09:30 |
奈良 | 奈良先端科学技術大学院大学 | ペロブスカイト/微結晶Siタンデム型太陽電池におけるリコンビネーション層の開発 ○張 松・石河泰明・來福 至・ティフェン ブルジェト・浦岡行治（奈良先端大）・エリック ジョンソン・マーティン フォロディナ・イヴァン ボンナシュ・ペール ロカ イ カバロカス（エコール・ポリテクニーク） EID2016-9 SDM2016-90 |
近年、太陽電池の更なる高効率化に向けてタンデム型太陽電池の研究が進んでいる。二種類の太陽電池間におけるリコンビネーション... [more] | EID2016-9 SDM2016-90 pp.1-6 |
| SDM | 2016-06-29 16:40 |
東京 | キャンパス・イノベーションセンター東京 | TFT応用に向けたRFマグネトロンスパッタリング法によるMoS2膜の形成 ○大橋 匠・松浦賢太朗（東工大）・石原聖也・日比野祐介・澤本直美（明大）・角嶋邦之・筒井一生（東工大）・小椋厚志（明大）・若林 整（東工大） SDM2016-46 |
層状構造を有するMoS2は薄膜領域において高移動度を有することから，柔軟性や光透過性などを併せ持つ次世代の極微細Comp... [more] | SDM2016-46 pp.75-78 |
| EID, SDM (共催) |
2015-12-14 13:45 |
京都 | 龍谷大学 響都ホール 校友会館 | RFマグネトロンスパッタリング法によるIn2O3薄膜の特性評価 ○吉岡敏博・小川淳史・弓削政博・松田時宜・木村 睦（龍谷大） EID2015-15 SDM2015-98 |
酸化物半導体は可視領域内の高い光透過率とアモルファス状態における優れた高い移動度が認められるため,アモルファスシリコンと... [more] | EID2015-15 SDM2015-98 pp.27-30 |
| SDM, EID (共催) |
2014-12-12 14:45 |
京都 | 京都大学 | GaSnO薄膜の特性評価 ○加藤雄太・西本大樹・松田時宜・木村 睦（龍谷大） EID2014-28 SDM2014-123 |
RFマグネトロンスパッタリング法により組成比の異なる2種類のGaSnO(GTO)薄膜をそれぞれ成膜圧力を変えて作製し、特... [more] | EID2014-28 SDM2014-123 pp.79-82 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2014-12-12 09:50 |
愛媛 | 愛媛大学 | 室温作製Co/Pt積層膜の磁気特性の積層構造依存性 ○土屋垂穂・本多直樹・内田裕久（東北工大）・斎藤 伸・日向慎太朗（東北大） MR2014-38 |
高垂直磁気異方性膜の室温作製のため、原子層積層によるL11規則化Co-Pt積層膜のスパッタ作製を検討した。コリメータを用... [more] | MR2014-38 pp.59-64 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2014-07-17 14:55 |
東京 | 東京工業大学 | スパッタ磁気テープにおける面記録密度148Gb/in2の基礎的検証 ○立花淳一・遠藤哲雄・平塚亮一・井上 悟（ソニー）・David Berman・Pierre-olivier Jubert（HGST）・Teya Topuria・Chie C Poon・Wayne Iwaino（IBM Almaden） MR2014-12 |
ポリマー基板上にCoPtCr-SiO2垂直磁気記録膜を成膜した磁気テープを作製し，市販のハードディスク用のSingle ... [more] | MR2014-12 pp.23-28 |
| SDM | 2013-12-13 10:00 |
奈良 | 奈良先端科学技術大学院大学 | インジウムを介したVapor-Liquid-Solid機構に基づくシリコンナノワイヤーの形成と評価 ○福永圭吾・畑山智亮・矢野裕司・岡本尚文・谷 あゆみ・石河泰明・冬木 隆（奈良先端大） SDM2013-119 |
シリコンナノワイヤー(Si-NW)は量子効果によるバンドギャップ制御、表面テクスチャー構造として反射率の低減が可能である... [more] | SDM2013-119 pp.19-23 |
| SDM | 2013-12-13 10:40 |
奈良 | 奈良先端科学技術大学院大学 | レーザープロセスを用いたボロンドーピングによるn型単結晶シリコン太陽電池の作製 ○山本悠貴・西村英紀・岡村隆徳・福永圭吾・冬木 隆（奈良先端大） SDM2013-121 |
n型シリコン基板を用いた太陽電池作製において拡散係数の低いボロンのドープは従来の拡散プロセスでは難しい。そこで局所的にド... [more] | SDM2013-121 pp.31-35 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2013-12-12 16:15 |
愛媛 | 愛媛大学 | 積層スパッタ堆積による垂直磁気異方性Co/Pt膜の作製 ○土屋垂穂・本多直樹（東北工大） MR2013-30 |
原子層積層コリメータスパッタ堆積により，高磁気異方性Co/Pt積層膜の低温作製を検討した．基板温度が高いほど，また，Ar... [more] | MR2013-30 pp.33-38 |
| CPM | 2013-10-25 11:50 |
新潟 | 新潟大ときめいと | 高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製 ○石井琢馬・佐藤祐二・渡邊貴晴・石井 清・佐久間洋志（宇都宮大） CPM2013-107 |
種々の方式のプラズマCVD法により単結晶を含めて良質なダイヤモンド薄膜が作製できるようになっているが，スパッタ法ではダイ... [more] | CPM2013-107 pp.67-71 |
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